一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置与流程

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置。

背景技术：

随着生活水平的不断提高以及显示技术的不断发展，用户对显示电子产品的画质质感有了更高地要求，使得画质细腻、色彩更加靓丽的显示效果体验成为了显示领域不断追求的目标。然而，现有的显示基板会存在颜色云纹(mura)、串色、黑点或亮点等显示问题，以上显示问题正是影响显示体验提升的绊脚石。

技术实现要素：

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置，以解决现有的显示基板存在颜色云纹(mura)以及黑点或亮点的显示问题。

依据本发明实施例的一个方面，提供了一种显示基板的制作方法，所述显示基板包括异层连接的第一导电图形和第二导电图形，该制作方法包括：在形成所述第一导电图形后，在所述第一导电图形上形成导电柱，所述导电柱在所述显示基板的衬底基板上的正投影与所述第二导电图形在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。

可选地，在所述第一导电图形上形成导电柱的步骤之后，所述方法还包括：

形成包裹所述导电柱的侧表面的绝缘层。

可选地，在形成包裹第一导电柱的侧表面的绝缘层的步骤之后，或者在所述第一导电图形上形成第二导电柱的步骤之后，所述制作方法还包括：

在衬底基板上形成平坦层。

可选地，所述第一导电图形包括漏电极，所述第二导电图形包括像素电极，所述导电柱包括第一导电柱；

在衬底基板上形成平坦层的步骤之后，所述制作方法还包括：

在所述平坦层上方形成公共电极层；

在所述公共电极层上方形成钝化层；

在所述钝化层上方形成像素电极，所述像素电极与所述第一导电柱连接。

可选地，所述第一导电图形包括触控电极，所述第二导电图形包括公共电极层，所述导电柱包括第二导电柱；

在衬底基板上形成平坦层的步骤之后，所述制作方法还包括：

在所述平坦层上方形成公共电极层，所述公共电极层与所述第二导电柱连接。

可选地，所述第一导电图形包括漏电极和触控电极，所述第二导电图形包括公共电极层和像素电极，所述导电柱包括第一导电柱和第二导电柱；

所述在所述第一导电图形上形成导电柱，包括：

通过一次构图工艺在触控电极上形成第二导电柱，在漏电极上形成第一导电柱；

在通过一次构图工艺在触控电极上形成第二导电柱，在漏电极上形成第一导电柱的步骤之后，所述制作方法还包括：

形成包裹所述第一导电柱的侧表面的绝缘层；

在衬底基板上形成平坦层；

在所述平坦层上方形成公共电极层，所述公共电极层与所述第二导电柱连接；

在所述公共电极层上方形成钝化层；

在所述钝化层上方形成像素电极，所述像素电极与所述第一导电柱连接。

可选地，所述绝缘层的上表面与所述钝化层的上表面平齐，所述平坦层的上表面与所述第二导电柱的上表面平齐。

可选地，所述形成包裹所述导电柱的侧表面的绝缘层，包括：

形成包裹所述导电柱的侧表面的预设厚度的绝缘层。

依据本发明实施例的另一个方面，还提供了一种显示基板，采用如上所述的显示基板的制作方法制作得到。

依据本发明实施例的又一个方面，还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。

本发明的实施例具有如下有益效果：

本发明实施例中，通过在第一导电图形上形成导电柱，并使得导电柱在所述显示基板的衬底基板上的正投影与所述第二导电图形在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠，这样无需在显示基板上进行孔洞设计，通过导电柱可以将位于异层的第一导电图形和第二导电图形建立连接，从而避免了由于隔垫物掉入孔洞或者pi(polyimide，聚酰亚胺)液的填充不充分而造成显示基板的mura、黑点或亮点的显示问题，可提升显示电子产品的画质质感。

附图说明

图1为本发明实施例的一种显示基板的结构示意图之一；

图2为图1所示显示基板的制作方法的流程图；

图3为本发明实施例的一种显示基板的结构示意图之二；

图4为本发明实施例的一种显示基板的结构示意图之三；

图5为本发明实施例的一种显示基板的结构示意图之四；

图6为本发明实施例的一种显示基板的结构示意图之五；

图7为本发明实施例的一种显示基板的结构示意图之六；

图8为本发明实施例的一种显示基板的结构示意图之七。

具体实施方式

为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

本发明的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。

目前，常规tft-lcd(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，薄膜晶体管液晶显示器)显示基板由第一基板和第二基板构成，在第一基板和第二基板之间填充液晶，并通过隔垫物的支撑来保持液晶盒厚的稳定。由于隔垫物常常设计于tpm(touchpatternmetal，触控图案金属或称为触控电极)孔附近或者上方，这就导致隔垫物很容易掉入tpm孔内而使得周围盒厚产生细微变化，从而在对应的显示区域会出现横或竖的颜色云纹的显示问题。再者，阵列基板表面孔洞深度的增加，会导致pi液填充的不充分，从而影响其孔洞周边液晶的排布和驱动，而在显示区域生成大批量的“小黑点”。

参见图1，基于以上分析，本发明实施例提供了一种显示基板，显示基板包括第一导电图形1和第二导电图形2，通过导电柱3将位于异层的第一导电图形1和第二导电图形2建立连接，无需在显示基板进行孔洞设计，可以从根本上解决现有的显示基板的mura、黑点或亮点的显示问题。

图2为图1所示显示基板的制作方法的流程图，参见图2，所述显示基板的制作方法包括：

步骤201：在形成所述第一导电图形1后，在所述第一导电图形1上形成导电柱3，所述导电柱3在所述显示基板的衬底基板4上的正投影与所述第二导电图形2在所述衬底基板4上的正投影至少部分重叠。

其中，所述导电柱3的材质可以为纳米铟锡金属氧化物(indiumtinoxides，ito)，当然并不仅限于此。

本发明实施例中，参见图3，通过在第一导电图形1上形成导电柱，并使得导电柱3在所述显示基板的衬底基板4上的正投影与所述第二导电图形2在所述衬底基板4上的正投影至少部分重叠，这样无需在显示基板上进行孔洞设计，通过导电柱3可以将位于异层的第一导电图形1和第二导电图形2建立连接，从而避免了由于隔垫物掉入孔洞或者pi液的填充不充分而造成显示基板存在mura、黑点或亮点的显示问题，可提升显示电子产品的画质质感。

在一实施例中，所述第一导电图形1包括漏电极11，所述第二导电图形2包括像素电极21，所述导电柱3包括第一导电柱31，参见图1以及图4至图8，该显示基板的制作方法具体包括以下步骤：

步骤301：在形成所述第一导电图形1后，在所述第一导电图形1的漏电极11上形成第一导电柱31；

在本发明实施例中，在衬底基板4上形成漏电极11之后，可以通过一次构图工艺在所述漏电极11上形成第一导电柱31，需要说明的是，本发明实施例并不具体限定所述第一导电柱31的制造工艺。

继续参见图4，所述第一导电柱31的位置与漏电极11的套孔41的位置是错开的。

步骤302：形成包裹所述第一导电柱31的侧表面的绝缘层5；

其中，所述绝缘层5的高度可以与所述第一导电柱31的高度一致，可以理解的是，为了保证所述像素电极21与所述第一导电柱31能有良好接触，所述绝缘层5的高度可以略低于所述第一导电柱31的高度。

在本发明实施例中，可以通过一次构图工艺围绕所述导电柱的侧表面形成预设厚度的绝缘层，所述预设厚度可以为100nm～200nm。需要说明的是，以上有关所述绝缘层厚度以及制造工艺的描述只是示例并非限定。

需要说明的是，所述绝缘层5的下端与所述漏电极11接触。

步骤303：在衬底基板4上形成平坦层6；

步骤304：在所述平坦层6上方形成公共电极层22；

在本发明实施例中，在公共电极层22沉积完成后，可以通过曝光和刻蚀工艺来确保所述公共电极层22与像素电极21不会发生短路现象，以防造成后续驱动失效等问题。

步骤305：在所述公共电极层22上方形成钝化层7；

在本发明实施例中，所述绝缘层5的上表面与所述钝化层7的上表面平齐。

在本发明实施例中，所述钝化层7和所述绝缘层5可以采用相同材质，当然并不仅限于此。

步骤306：在所述钝化层7上方形成像素电极21，所述像素电极21与所述第一导电柱31连接。

在本发明实施例中，可以通过一次构图工艺在所述钝化层7上方形成像素电极21。

在本发明实施例中，在显示基板无需孔洞设计的情况下，通过所述第一导电柱31可实现位于异层的漏电极11和像素电极21之间的连接，避免了由于隔垫物掉入孔洞或者pi液的填充不充分而造成显示基板的mura、黑点或亮点的显示问题，可提升显示电子产品的画质质感。

在另一种实施例中，所述第一导电图形1包括触控电极12，所述第二导电图形2包括公共电极层22，所述导电柱3包括第二导电柱32，参见图4至图8，该显示基板的制作方法具体包括以下步骤：

步骤401：在形成所述第一导电图形1后，在所述第一导电图形1的触控电极12上形成第二导电柱32；

在本发明实施例中，在衬底基板4上形成触控电极12之后，可以通过一次构图工艺在触控电极12上形成第二导电柱32，需要说明的是，本发明实施例并不具体限定所述第二导电柱32的制造工艺。

步骤402：在衬底基板4上形成平坦层6；

在本发明实施例中，所述平坦层6的上表面与所述第二导电柱32的上表面平齐，可以理解的是，为了保证公共电极层22与所述第二导电柱32有较好接触，所述平坦层的上表面可以略低于所述第二导电柱的上表面。

步骤403：在所述平坦层6上方形成公共电极层22，所述公共电极层22与所述第二导电柱32连接。

在本发明实施例中，在显示基板无需孔洞设计的情况下，通过所述第二导电柱32可实现位于异层的触控电极12和公共电极层22之间的连接，避免了由于隔垫物掉入孔洞或者pi液的填充不充分而造成显示基板的mura、黑点或亮点的显示问题，可提升显示电子产品的画质质感。

在又一实施例中，所述第一导电图形1包括漏电极11和触控电极12，所述第二导电图形2包括公共电极层22和像素电极21，所述导电柱3包括第一导电柱31和第二导电柱32，参见图1以及图4至图8，该显示基板的制作方法具体包括以下步骤：

步骤501：通过一次构图工艺在触控电极12上形成第二导电柱32，在漏电极11上形成第一导电柱31；

其中，步骤501的实施原理与步骤301和步骤401的实施原理相同，相似之处不再赘述。

步骤502：形成包裹所述第一导电柱31的侧表面的绝缘层5；

其中，步骤502的实施原理与步骤302的实施原理相同，相似之处不再赘述。

步骤503：在衬底基板4上形成平坦层6；

其中，步骤503的实施原理与步骤402和步骤303的实施原理相同，相似之处不再赘述。

步骤504：在所述平坦层6上方形成公共电极层22，所述公共电极层22与所述第二导电柱32连接；

其中，步骤504的实施原理与步骤403和步骤304的实施原理相同，相似之处不再赘述。

步骤505：在所述公共电极层22上方形成钝化层7；

其中，步骤505的实施原理与步骤305的实施原理相同，相似之处不再赘述。

步骤506：在所述钝化层7上方形成像素电极21，所述像素电极21与所述第一导电柱31连接。

其中，步骤506的实施原理与步骤306的实施原理相同，相似之处不再赘述。

在本发明实施例中，在显示基板上无需孔洞设计的情况下，通过所述第一导电柱31可实现位于异层的漏电极11和像素电极21连接，通过第二导电柱可以实现位于异层的触控电极12和公共电极层22之间的连接，避免了由于隔垫物掉入孔洞或者pi液的填充不充分而造成显示基板的mura、黑点或亮点的显示问题，可提升显示电子产品的画质质感。

同时，本发明实施例还提供了一种显示基板，该显示基板采用如上所述的显示基板的制作方法制作得到。进一步地，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。

其中，通过本发明实施例的显示基板和显示装置，可以避免了由于隔垫物掉入孔洞或者pi液的填充不充分而造成显示基板的mura、黑点或亮点的显示问题，可提升显示电子产品的画质质感。

进一步地，所述导电柱可以为圆柱形，此时该导电柱的侧切图为长方形，而常规孔洞的侧切图多为梯形，与传统的孔洞设计，本发明实施例的显示基板和显示装置具有电阻均匀一致无突变的优点。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。