对准标记、掩膜版及其制备方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明提供了一种对准标记、掩膜版及其制备方法，在每层掩膜版中设置对准标记且对准，实现多层掩膜版层套刻对准；进一步的，在每个掩膜版层中设置了至少连个对准标记，每一层子掩膜版层中的对准标记中，有一个与上相邻层的对准标记相同，有一个与下相邻层的对准标记相同，从而实现多层掩膜版的精确对准，在高集成度小尺寸图形下，提高套刻精度，提高器件质量。

技术研发人员：汪际军
受保护的技术使用者：全普光电科技（上海）有限公司
技术研发日：2018.12.05
技术公布日：2019.02.19