显示器及其制造方法与流程

本发明涉及一种显示器及其制造方法，且特别涉及一种包括感光间隔物的显示器及其制造方法。

背景技术：

随着科技的进步，轻、薄、短、小的平面显示器(flatpaneldisplay,fpd)逐渐取代传统厚重的阴极映像管显示器(cathoderaytube,crt)。举例来说，已经开发的平面显示器可包括液晶显示器(lcd)、有机发光显示器(oled)、电泳显示器(epd)等。

一般来说，上述显示器通常会包括黑色矩阵(blackmatrix)，以防止像素之间的漏光现象，并增加色彩的对比性。然而，由于黑色矩阵通常是使用感光材料以黄光微影制程(photolithography)的方式形成，当其高度需达到一定程度时，例如黑色光阻间隔物(blackphotoresistancespacer,bps)或者黑色柱间隔物(blackcolumnspacer,bcs)，易产生光罩对位不佳或是易剥离的问题，进而造成显示器的稳定性不佳。

技术实现要素：

本发明提供一种显示器及其制造方法，其目的之一可具有良好的稳定性。

本发明的一实施例的显示器的制造方法包括以下步骤。于第一基板上形成多个间隔物。于第一基板上形成覆盖间隔物的感光材料层。通过图案化罩幕对感光材料层进行曝光制程，其中用于曝光制程中的光线照射至各间隔物的顶面或是底面，并且通过各间隔物使得光线能够从各间隔物内部照射至各间隔物的侧壁上的感光材料层。在对感光材料层进行曝光制程之后，通过显影制程来移除未被光线所曝照到的感光材料层，以于各间隔物的顶面和侧壁形成表面修饰层。于表面修饰层上覆盖第二基板，其中第一基板或第二基板包括像素阵列。

本发明的另一实施例的显示器的制造方法包括以下步骤。于第一基板上形成多个间隔物。于第一基板上形成覆盖间隔物的遮光材料层。于第一基板上形成覆盖遮光材料层和间隔物的感光材料层。通过图案化罩幕对感光材料层进行曝光制程和显影制程，以于各该间隔物上形成表面修饰层，其中表面修饰层形成于覆盖各间隔物的顶面和侧壁的遮光材料层上，且表面修饰层暴露部分遮光材料层。移除表面修饰层所暴露的部分遮光材料层，以形成遮光层，其中遮光层形成于各间隔物和表面修饰层之间，且遮光层覆盖各间隔物的顶面和侧壁且延伸至第一基板和表面修饰层之间。

本发明的再一实施例的显示器的制造方法包括以下步骤。于第一基板上形成无机材料层。于无机材料层上形成多个有机间隔物。于无机材料层上形成覆盖有机间隔物的材料层。进行改质制程(modifiedprocess)，使得部分材料层与有机间隔物产生热交联反应或氧化还原反应。在进行改质制程之后，通过显影制程来移除材料层中未与有机间隔物产生热交联反应或氧化还原反应的部分，以于各有机间隔物的顶面和侧壁上形成表面修饰层。于表面修饰层上覆盖第二基板，其中第一基板或第二基板包括像素阵列。

本发明的一实施例的显示器包括第一基板、多个间隔物、多个表面修饰层以及第二基板。间隔物设置于第一基板上，其中间隔物能够允许至少部分蓝光与至少部分紫外光通过。表面修饰层分别覆盖各间隔物的顶面和侧壁，其中表面修饰层的可见光穿透率小于或等于20％。第二基板覆盖于表面修饰层上，其中第一基板或第二基板包括像素阵列。

本发明的另一实施例的显示器包括第一基板、多个间隔物、多个表面修饰层、多个遮光层以及第二基板。间隔物设置于第一基板上，其中间隔物能够允许至少部分蓝光与至少部分紫外光通过。表面修饰层分别覆盖各间隔物的顶面和侧壁。遮光层分别设置于间隔物和表面修饰层之间，其中遮光层覆盖各间隔物的顶面和侧壁且延伸至第一基板和表面修饰层之间。第二基板覆盖于表面修饰层上，其中第一基板或第二基板包括像素阵列。

本发明的再一实施例的显示器包括第一基板、多个间隔物、多个表面修饰层以及第二基板。间隔物设置于第一基板上，其中间隔物能够允许至少部分蓝光与至少部分紫外光通过。表面修饰层分别覆盖各间隔物的顶面和侧壁，其中间隔物和表面修饰层于叠置的部分具有小于或等于5％的可见光穿透率。第二基板覆盖于表面修饰层上，其中第一基板或第二基板包括像素阵列。

基于上述，在本发明的至少一实施例所提供的显示器的制造方法中，由于用于曝光制程中的光线能够通过各间隔物并从各间隔物内部照射至各间隔物的侧壁上的感光材料层，如此可使得光线能够良好地照射至感光材料层中欲曝光的部分，致使交联反应完全，以避免后续形成的表面修饰层易产生剥离的问题，进而让显示器具有良好的稳定性。

在本发明的至少一实施例所提供的显示器的制造方法中，材料层形成于无机材料层上并覆盖有机间隔物，经改质制程后，部分材料层与有机间隔物产生热交联反应或氧化还原反应，如此可使得后续经显影制程而形成的表面修饰层不易产生剥离的问题，使得显示器具有良好的稳定性。

在本发明的至少一实施例所提供的显示器及其制造方法中，由于遮光层形成于各间隔物和表面修饰层之间，且遮光层覆盖各间隔物的顶面和侧壁且延伸至第一基板和些表面修饰层之间，如此可避免像素间产生漏光的现象，使得显示器具有良好的稳定性。

在本发明的至少一实施例所提供的显示器中，表面修饰层分别覆盖各间隔物的顶面和侧壁，其中表面修饰层的可见光穿透率小于或等于20％，如此可避免像素间产生漏光的现象，使得显示器具有良好的稳定性。

在本发明的至少一实施例所提供的显示器中，由于表面修饰层分别覆盖各间隔物的顶面和侧壁，其中间隔物和表面修饰层于叠置的部分具有小于或等于5％的可见光穿透率，如此可避免像素间产生漏光的现象，使得显示器具有良好的稳定性。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。

附图说明

图1a至图1d为本发明一实施例的显示器的制造方法的剖面示意图。

图2a和图2b为本发明另一实施例的显示器的制造方法的剖面示意图。

图3a至图3c为本发明再一实施例的显示器的制造方法的剖面示意图。

图4a和图4b为本发明又一实施例的显示器的制造方法的剖面示意图。

图5为本发明一实施例的显示器的剖面示意图。

其中，附图标记说明如下：

100：显示器

s1、s11：第一基板

s2：第二基板

sb1、sb2：基材

ps：间隔物

ops：有机间隔物

ce：色彩转换层

am：对位标记

pl：平坦层

iopl：无机材料层

pm：感光材料层

ml：材料层

ms：图案化罩幕

sml1、sml2、sml3：表面修饰层

px：像素阵列

bm：黑色矩阵

lsm：遮光材料层

ls：遮光层

t：高度

l：光线

mp：改质制程

p：微粒

具体实施方式

以下将参照本实施例的附图以更全面地阐述本发明。然而，本发明亦可以各种不同的形式体现，而不应限于本文中所述的实施例。在附图中，为了清楚起见，放大了层、膜、面板、区域等的厚度。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。应当理解，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称为在另一元件“上”或“连接到”另一元件时，其可以直接在另一元件上或与另一元件连接，或者中间元件可以也存在。相反，当元件被称为“直接在另一元件上”或“直接连接到”另一元件时，不存在中间元件。如本文所使用的，“连接”可以指物理及/或电性连接。再者，“电性连接”或“耦合”是可为二元件间存在其它元件。

本文使用的“约”、“近似”、或“实质上”包括所述值和在本领域普通技术人员确定的特定值的可接受的偏差范围内的平均值，考虑到所讨论的测量和与测量相关的误差的特定数量(即，测量系统的限制)。例如，“约”可以表示在所述值的一个或多个标准偏差内，或±30％、±20％、±10％、±5％内。再者，本文使用的“约”、“近似”或“实质上”可依光学性质、蚀刻性质或其它性质，来选择较可接受的偏差范围或标准偏差，而可不用一个标准偏差适用全部性质。

除非另有定义，本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。将进一步理解的是，诸如在通常使用的字典中定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术和本发明的上下文中的含义一致的含义，并且将不被解释为理想化的或过度正式的意义，除非本文中明确地这样定义。

图1a至图1d为本发明一实施例的显示器的制造方法的剖面示意图。图5为本发明一实施例的显示器的剖面示意图。

请参照图1a，于第一基板s1上形成多个间隔物ps。第一基板s1可为主动阵列基板、色彩转换基板或其组合。举例而言，第一基板s1可包括像素阵列、色彩转换层或其组合。在本实施例中，第一基板s1是以色彩转换基板为例进行说明，也就是说，第一基板s1可包括至少一个色彩转换层ce。如图1a所示，第一基板s1可包括基材sb1和形成于基材sb1上的多个色彩转换层ce。基材sb1可包括玻璃基材、石英基材、有机聚合物基材或其组合。色彩转换层ce可为彩色滤光层、波长转换层或其组合。彩色滤光层例如为红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻或其组合。波长转换层例如为红色荧光材料、红色磷光材料、红色量子点材料、绿色荧光材料、绿色磷光材料、绿色量子点材料、蓝色荧光材料、蓝色磷光材料、蓝色量子点材料或其组合。然不限于此，可视实际需求调整。在一些实施例中，色彩转换层ce可设置于相邻的两个间隔物ps之间。

在一些实施例中，第一基板s1还可包括对位标记(alignmentmark)am，以确保后续曝光制程中所使用的图案化罩幕ms的对位精准度。举例而言，间隔物ps中的其中一者可形成于对位标记am之上并且与对位标记am重叠，如此可将重叠于对位标记am的间隔物ps视为对位标记am的延伸部分，以改善对位标记am被位于其上的膜层覆盖而导致对位精准度降低的问题。

在一些实施例中，第一基板s1还可包括平坦层pl，其覆盖于色彩转换层ce和基材sb1之上。平坦层pl的材料可为有机绝缘材料、无机绝缘材料或其组合。举例而言，有机绝缘材料可为聚酰亚胺(polyimide,pi)、聚酰胺酸(polyamicacid,paa)、聚酰胺(polyamide,pa)、聚乙烯醇(polyvinylalcohol,pva)、聚乙烯醇肉桂酸酯(polyvinylcinnamate,pvci)、聚甲基丙烯酸甲酯(poly(methylmethacrylate))或其他适合的光阻材料或其组合。无机绝缘材料可为氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、硅氧烷或其组合。

间隔物ps可经由以下步骤形成：首先，例如以旋涂的方式将间隔物材料层(未示出)形成于第一基板s1上；之后，通过微影的方式来图案化上述的间隔物材料层，以形成间隔物ps，然本发明不以此为限。间隔物ps的材料可为有机光阻材料。间隔物ps的高度t可大于或等于15μm。在一些实施例中，间隔物ps能够允许至少部分蓝光与至少部分紫外光通过。

请参照图1b，于第一基板s1上形成覆盖间隔物ps的感光材料层pm。感光材料层pm的材料可为有机材料、无机材料或其组合。感光材料层pm的形成方法例如是旋涂法。在一些实施例中，感光材料层pm的可见光穿透率可小于或等于20％。

接着，通过图案化罩幕ms对感光材料pm层进行曝光制程，其中用于曝光制程中的光线l照射至各间隔物ps的顶面ts或是底面bs，并且光线l能够通过间隔物ps，从各间隔物ps的内部照射至位在间隔物ps侧壁sw上的感光材料层pm。如此一来，即便感光材料层pm具有一定的厚度(例如大于间隔物ps的高度t)，光线l仍能够良好地照射至覆盖于间隔物ps表面上的感光材料层pm(即感光材料层pm中欲曝光的部分)，致使交联反应完全，以避免后续形成的表面修饰层易产生剥离(peeling)或是底切(undercut)的问题，进而让显示器具有良好的稳定性。

在一些实施例中，在进行曝光制程之前，可选择性地对感光材料层pm进行前处理制程，其中前处理制程可包括烘烤制程、真空干燥制程或其组合。举例而言，可对未曝光的感光材料层pm进行预烘烤(pre-bake)和/或真空干燥，使得经前处理制程后的感光材料层pm的轮廓与间隔物ps和第一基板s1的表面所构成的轮廓较相似，以使之后曝光制程效果更好。

在一些实施例中，可选择性地于各间隔物ps中形成多个微粒p(仅于

图1d示出举例)，使得曝光制程中所采用的光线l能够更均匀地从各间隔物ps的内部照射至位在间隔物ps侧壁sw上的感光材料层pm。

请同时参照图1b和图1c，在对感光材料层pm进行曝光制程之后，通过显影制程来移除未被光线l所曝照到的感光材料层pm，以于各间隔物ps的顶面ts和侧壁sw形成表面修饰层sml1。表面修饰层sml1的可见光穿透率小于或等于20％，如此可防止像素之间的漏光现象。除此之外，由于前述曝光制程可改善光线l难以传递至感光材料层pm中邻近第一基板s1的部分(即曝光深度较深)，因此，经显影制程后所形成的表面修饰层sml1与第一基板s1和间隔物ps之间具有良好的附着性，使得表面修饰层sml1不易产生剥离或是底切的问题，进而让显示器具有良好的稳定性。也就是说，由于曝光制程中所采用的光线l能够通过间隔物ps而从间隔物ps的内部照射至位在间隔物ps侧壁上的感光材料层pm。如此一来，即便感光材料层pm具有一定的厚度，光线l仍能够良好地照射至覆盖于间隔物ps表面上的感光材料层pm，致使交联反应完全，以避免经显影制程后续形成的表面修饰层sml1易产生剥离或是底切的问题，进而让显示器100具有良好的稳定性。

在一些实施例中，在进行显影制程之后，可选择性地对表面修饰层sml1进行后烘烤(post-bake)制程，以进一步去除残存的水气及溶剂，使得表面修饰层sml1的附着性更佳。

在一些实施例中，间隔物ps能够允许至少部分蓝光与部分紫外光通过，而间隔物ps和表面修饰层sml1于叠置的部分具有小于或等于5％的可见光穿透率。举例而言，间隔物ps和表面修饰层sml1其中之一可为蓝色色阻，而间隔物ps和表面修饰层sml1其中之另一可为红色色阻或黄色色阻。如此一来，可见光在穿过间隔物ps(例如蓝色色阻)和表面修饰层sml1(例如红色或黄色色阻)时会被隔绝，亦即，蓝色色阻与红色色阻(或是蓝色色阻与黄色色阻)的组合可具有类似黑色光阻间隔物(bps)的技术效果。在其他实施例中，间隔物ps和表面修饰层sml1其中之一可为洋红色色阻，而间隔物ps和表面修饰层sml1其中的另一可为绿色色阻。如此一来，可见光在穿过间隔物ps(例如洋红色色阻)和表面修饰层sml1(例如绿色色阻)时会被隔绝，亦即，洋红色色阻与绿色色阻的搭配可具有黑色光阻间隔物(bps)的技术效果。基于上述，通过间隔物ps和表面修饰层sml1由不同色阻材料的搭配来达到黑色光阻间隔物(bps)的技术效果，使得感光材料层pm在材料选用上不需局限在低可见光穿透率的材料(例如小于或等于20％)，致使在曝光制程中，光线l能够良好地照射至覆盖于间隔物ps表面上的感光材料层pm，致使交联反应完全，以避免经显影制程后续形成的表面修饰层sml1易产生剥离或是底切的问题，进而让显示器100具有良好的稳定性。在本实施例中，间隔物ps可为蓝色色阻，而表面修饰层sml1可为红色色阻。

请参照图1d，于表面修饰层sml1上覆盖第二基板s2。第二基板s2可为主动阵列基板、色彩转换基板或其组合。举例而言，第二基板s2可包括像素阵列、色彩转换层或其组合。在本实施例中，第二基板s2是以主动阵列基板为例进行说明，也就是说，第二基板s1可包括像素阵列px。如图1d所示，第二基板s2可包括基材sb2和形成于基材sb2上的像素阵列px。基材sb2可包括玻璃基材、石英基材、有机聚合物基材或其组合。在另一些实施例中，第一基板s1也可以是主动阵列基板(如图5所示)。换句话说，第一基板s1或第二基板s2中的其中一者可包括像素阵列。

图2a和图2b为本发明另一实施例的显示器的制造方法的剖面示意图，其中图2a和图2b所示的显示器的制造方法大致相似于图1b和图1c所示的显示器的制造方法，其不同之处在于曝光制程是以色彩转换层ce作为图案化罩幕，其余构件的连接关系、材料及其制程已于前文中进行详尽地描述，故于下文中不再重复赘述。

请参照图2a和图2b，第一基板s11包括多个色彩转换层ce，各色彩转换层设ce置于相邻的两个间隔物ps之间，且色彩转换层ce做为曝光制程中所使用的图案化罩幕。换句话说，在本实施例中，色彩转换层ce暴露出间隔物ps的底面bs(又可称为背曝)。如此一来，曝光制程中所采用的光线l能够通过间隔物ps而从间隔物ps的内部照射至位在间隔物ps侧壁sw上的感光材料层pm。如此一来，即便感光材料层pm具有一定的厚度，光线l仍能够良好地照射至覆盖于间隔物ps表面上的感光材料层pm，致使交联反应完全，以避免经显影制程后所形成的表面修饰层sml1易产生剥离或是底切的问题，进而让显示器具有良好的稳定性。

除此之外，由于曝光制程是以色彩转换层ce作为图案画罩幕，故可省略一道光罩(例如图1b所示的图案化罩幕ms)，以降低显示器的制造成本。

在一些实施例中，第一基板s11可选择性地包括黑色矩阵bm，其中黑色矩阵bm形成于各色彩转换层ce的侧壁且暴露出各间隔物ps的底面bs，如此可使得曝光制程所采用的光线l能够良好地从间隔物ps的内部照射至位在间隔物ps侧壁sw上的感光材料层pm。

图3a至图3c为本发明另一实施例的显示器的制造方法的剖面示意图，其中图3a至图3c所示的显示器的制造方法大致相似于图1b和图1c所示的显示器的制造方法，其不同之处在于遮光材料层lsm形成于第一基板s1和间隔物ps的表面上之后，才于第一基板s1上形成覆盖遮光材料层lsm和间隔物ps的感光材料层pm，其余构件的连接关系、材料及其制程已于前文中进行详尽地描述，故于下文中不再重复赘述。

请参照图3a，首先，于第一基板s1上形成多个间隔物ps。接着，于第一基板s1上形成覆盖间隔物ps的遮光材料层lsm。遮光材料层lsm的材料可为金属。在一些实施例中，可采用物理气相沉积(pvd)的方式形成遮光材料层lsm。之后，于第一基板s1上形成覆盖遮光材料层lsm和间隔物ps的感光材料层pm。

然后，请同时参照图3a和图3b，通过图案化罩幕ms对感光材料层pm进行曝光和显影制程，以于各间隔物ps上形成表面修饰层sml2，其中表面修饰层sml2形成于覆盖各间隔物的顶面ts和侧壁sw的遮光材料层lsm上。在本实施例中，表面修饰层sml2暴露部分遮光材料层lsm，例如表面修饰层sml2暴露出位于相邻的两个间隔物ps之间的遮光材料层lsm的一部分。

在一些实施例中，遮光材料层lsm可选择性地包括反射层，使得曝光制程所采用的光线l能够良好地照射至位于遮光材料层lsm表面的感光材料层pm，致使交联反应完全，以避免经显影制程后所形成的表面修饰层sml2易产生剥离或是底切的问题，进而让显示器具有良好的稳定性。举例来说，即便光线l照射至感光材料层pm中邻近遮光材料层lsm的部分(曝光深度较深)的强度小于光线l照射至感光材料层pm表面的强度(较接近曝光源)，但由于遮光材料层lsm包括了反射层的缘故，故感光材料层pm中远离曝光源的部分仍能够进行良好的光交联反应。

而后，请参照图3c，移除该表面修饰层sml2所暴露的部分遮光材料层lsm以形成遮光层ls。在本实施例中，遮光层ls形成于各间隔物ps和表面修饰层sml2之间，且遮光层ls覆盖各间隔物ps的顶面ts和侧壁sw且延伸至第一基板s1和表面修饰层sml2之间，如此可进一步避免像素间产生漏光的现象，使得显示器具有良好的稳定性。

图4a和图4b为本发明另一实施例的显示器的制造方法的剖面示意图，其中图4a和图4b所示的显示器的制造方法的概念大致相似于图1a至和图1c所示的显示器的制造方法，其不同之处在于利用热交联或氧化还原反应的方式来形成表面修饰层sml3，其余构件的连接关系、材料及其制程已于前文中进行详尽地描述，故于下文中不再重复赘述。

请参照图4a，于基材sb1上形成无机材料层iopl。在一些实施例中，也可于第一基板s1上形成无机材料层iopl。接着，于无机材料层iopl上形成多个有机间隔物ops。之后，于无机材料层iopl上形成覆盖有机间隔物ops的材料层ml。而后，进行改质制程mp，使得部分材料层ml与有机间隔物ops产生热交联反应或氧化还原反应，如此可避免曝光光线的强度随着曝光深度越大而逐渐降低的问题，使得后续经显影制程而形成的表面修饰层不易产生剥离的问题，使得显示器具有良好的稳定性。

在本实施例中，材料层ml为有机材料层，上述的改质制程mp使得部分有机材料层与有机间隔物ops产生热交联反应。应注意的是，上述的热交联反应只会发生在有机材料之间的界面(interface)，而不会发生在有机材料和无机材料之间的界面，因此，在进行改质制程mp之后，材料层ml不会与无机材料层iopl产生交联。在另一些实施例中，材料层ml为液体层，上述的改质制程mp使得部分液体层与有机间隔物ops产生氧化还原反应(例如无电电镀)。应注意的是，上述的氧化还原反应只会发生在液体层和有机材料之间的界面，而不会发生在液体层和无机材料之间的界面，因此，在进行改质制程mp之后，材料层ml不会与无机材料层iopl产生氧化还原反应。

请同时参照图4a图和4b，在进行改质制程mp之后，通过显影制程来移除材料层ml中未与有机间隔物ops产生热交联反应或氧化还原反应的部分，以于各有机间隔物的顶面和侧壁上形成表面修饰层sml3。表面修饰层sml3的可见光穿透率例如小于或等于20％，如此可防止像素之间的漏光现象。除此之外，由于前述改质制程mp可避免曝光光线的强度随着曝光深度越大而逐渐降低的问题，因此，经显影制程后所形成的表面修饰层sml3与第一基板s1和有机间隔物ops之间具有良好的附着性，使得表面修饰层sml3不易产生剥离或是底切的问题，进而让显示器具有良好的稳定性。

以下，将通过图1d来说明本实施例的显示器。此外，本实施例的显示器的制造方法虽然是以上述制造方法为例进行说明，但不以此为限。

请参照图1d，显示器100包括第一基板s1、多个间隔物ps、多个表面修饰层sml1以及第二基板s2。间隔物ps设置于第一基板s1上，其中间隔物ps能够允许至少部分蓝光与部分紫外光通过。表面修饰层sml1分别覆盖各间隔物ps的顶面和侧壁，其中表面修饰层sml1的可见光穿透率小于或等于20％。第二基板s2覆盖于表面修饰层sml1上，其中第一基板s1或第二基板s2包括像素阵列px。

在上述一实施例的显示器的制造方法中，由于用于曝光制程中的光线能够通过各间隔物并从各间隔物内部照射至各间隔物的侧壁上的感光材料层，如此可使得光线能够良好地照射至感光材料层中欲曝光的部分，致使交联反应完全，以避免后续形成的表面修饰层易产生剥离的问题，进而让显示器具有良好的稳定性。

在上述另一实施例的显示器的制造方法中，材料层形成于无机材料层上并覆盖有机间隔物，经改质制程后，部分材料层与有机间隔物产生热交联反应或氧化还原反应，如此可使得后续经显影制程而形成的表面修饰层不易产生剥离的问题，使得显示器具有良好的稳定性。

在上述又一实施例的显示器的制造方法中，由于遮光层形成于各间隔物和表面修饰层之间，且遮光层覆盖各间隔物的顶面和侧壁且延伸至第一基板和些表面修饰层之间，如此可避免像素间产生漏光的现象，使得显示器具有良好的稳定性。

在上述一实施例的显示器中，表面修饰层分别覆盖各间隔物的顶面和侧壁，其中表面修饰层的可见光穿透率小于或等于20％，如此可避免像素间产生漏光的现象，使得显示器具有良好的稳定性。

在上述另一实施例的显示器中，由于遮光层形成于各间隔物和表面修饰层之间，且遮光层覆盖各间隔物的顶面和侧壁且延伸至第一基板和些表面修饰层之间，如此可避免像素间产生漏光的现象，使得显示器具有良好的稳定性。

在上述又一实施例的显示器中，由于表面修饰层分别覆盖各间隔物的顶面和侧壁，其中间隔物和表面修饰层于叠置的部分具有小于或等于5％的可见光穿透率，如此可避免像素间产生漏光的现象，使得显示器具有良好的稳定性。

虽然本发明已以实施例公开如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的变动与润饰，故本发明的保护范围当视权利要求所界定者为准。