技术总结
本实用新型属于光刻用喷嘴领域，具体涉及一种用于实现改善纳米级光刻工艺性能的喷嘴，包括供给管与喷头，用以提供负型显影液；所述喷头与所述供给管连通；所述喷头包括一喷洒式喷头体，所述喷洒式喷头体的喷洒面具有处于中心处的中央分散孔、以所述中心为圆中心的第一环路径上呈散射状分配的若干第一环分散孔、以及以所述中心为圆中心的第二环路径上呈散射状分配的若干第二环分散孔，其通过控制负型显影液在喷头中用量的分配，有效实现负型显影液均匀分散，并且本申请喷嘴的结构简单、操作方便、便于维修。
技术研发人员：不公告发明人
受保护的技术使用者：长鑫存储技术有限公司
技术研发日：2018.04.25
技术公布日：2018.12.28