一种黄光大片ITO曝光装置的制作方法

本实用新型涉及ITO曝光装置技术领域，具体为一种黄光大片ITO曝光装置。

背景技术：

ITO是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡，ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率，作为纳米铟锡金属氧化物，具有很好的导电性和透明性，可以切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，因此，铟锡氧化物通常喷涂在玻璃、塑料及电子显示屏上，用作透明导电薄膜，同时减少对人体有害的电子辐射及紫外、红外,在氧化物导电膜中，以掺Sn的In2O3(ITO)膜的透过率最高和导电性能最好，而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形，其中透光率达90％以上，ITO中其透光率和阻值分别由In2O3与SnO2之比例来控制，通常SnO2:In2O3＝1:9，多用于触控面板、触摸屏、冷光片等。

传统的触摸屏的ITO薄膜曝光方法是采用单独的曝光机生产，首先ITO薄膜需打孔用来做曝光时的定位孔，作业人员把菲林光罩贴到曝光机的玻璃板的固定位置上，作用人员拿着ITO薄膜对应位置到放到曝光机的工作台上的定位柱上，定位柱穿过ITO薄膜上的定位孔，检查是否平整然后关闭作业窗口进行曝光，最后在从曝光机中取出ITO薄膜，传统的触摸屏ITO薄膜曝光采用挂片的方式，在ITO薄膜上一边打定位孔，然后通过定位孔将ITO薄膜挂在定位柱上进行定位，由于ITO薄膜比较薄而已容易变形，采用挂片方式容易晃动，导致曝光精度不高，且定位时需要在ITO薄膜上打孔使其生产效率不高。

如果能够发明一种方便ITO曝光且能提高效率就能够解决此类问题，为此我们提供了一种黄光大片ITO曝光装置。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种黄光大片ITO曝光装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种黄光大片ITO曝光装置，包括曝光机、ITO薄膜和基板，所述基板的上方设置有固定框，所述基板的前端设置有限位孔，且固定框的后侧固定连接有阻尼转轴，所述阻尼转轴活动连接在基板的后侧，所述基板的上端固定连接有限位柱，基板的上端粘贴有水溶性胶层，所述水溶性胶层的上端放置有ITO薄膜，所述基板的下端固定连接有滑块，所述滑块的两端设置有放置槽，所述放置槽内活动设置有滚珠，所述滑块对应设置有滑槽，所述滑槽通向曝光机的内部，所述曝光机的前端活动连接有活动板。

优选的，所述基板为矩形板状结构，所述基板上的限位柱为圆形柱体结构，所述限位柱至少设置有两个，限位柱分别位于基板的前侧。

优选的，所述滑块为矩形柱体结构，滑块的高度小于滑槽的深度，滑块设置有两个，滑块两端的放置槽内设置有多个转轴，转轴上设置有多个滚珠，转轴贯穿滚珠设置，多个所述滚珠并排等距离等大小设置在转轴中，滚珠的底端高于滑块的高度，且滚珠的底端到基板的距离长度等于滑槽的深度。

优选的，所述固定框为矩形框体结构，固定框通过阻尼转轴活动连接在基板上，固定框外侧的面积等于基板的面积，固定框外侧的面积大于ITO薄膜的面积，且固定框内侧的面积小于ITO薄膜的面积，固定框闭合时和基板为互相平行位置设置，且固定框和基板之间的距离长度等于ITO薄膜和水溶性胶层的高度之和。

优选的，所述活动板活动连接在曝光机上，活动板的下端对应设置有两个通孔，所述滑槽贯穿活动板的通孔设置，且活动板的边沿设置有一层密封层。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1.该装置通过基板和固定框的设计，通过固定框对基板的压紧固定，避免在ITO薄膜上直接打孔，既起到固定作用又避免ITO薄膜受到变形，水溶性胶层对ITO薄膜初步进行粘贴，避免ITO薄膜脱落，且遇水即会溶解，曝光完成后直接打开固定框即可取出ITO薄膜,此装置操作简单，也大大提高了效率，且此装置可多次重复利用，具有很高的实用价值；

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型ITO薄膜和基本结构爆炸图；

图3为本实用新型基板结构底部示意图。

图中：1曝光机、2ITO薄膜、3活动板、4基板、5水溶性胶层、6固定框、7阻尼转轴、8限位孔、9限位柱、10滑块、11放置槽、12滚珠、13滑槽。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的技术方案，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种黄光大片ITO曝光装置，包括曝光机1、ITO薄膜2和基板4，基板4的上方设置有固定框6，基板4的前端设置有限位孔8，且固定框6的后侧固定连接有阻尼转轴7，阻尼转轴7活动连接在基板4的后侧，基板4的上端固定连接有限位柱9，基板4的上端粘贴有水溶性胶层5，水溶性胶层5的上端放置有ITO薄膜2，基板4的下端固定连接有滑块10，滑块10的两端设置有放置槽11，放置槽11内活动设置有滚珠12，滑块10对应设置有滑槽13，滑槽13通向曝光机1的内部，曝光机1的前端活动连接有活动板3。

进一步地，基板4为矩形板状结构，基板4上的限位柱9为圆形柱体结构，限位柱9至少设置有两个，限位柱9分别位于基板4的前侧，限位柱9配合限位孔8的位置设置。

进一步地，滑块10为矩形柱体结构，滑块10的高度小于滑槽13的深度，滑块10设置有两个，滑块10两端的放置槽11内设置有多个转轴，转轴上设置有多个滚珠12，转轴贯穿滚珠12设置，多个滚珠12并排等距离等大小设置在转轴中，滚珠12的底端高于滑块10的高度，且滚珠12的底端到基板4的距离长度等于滑槽13的深度，利用滚珠12在滑槽13中进行滑动，可以更加平稳。

进一步地，固定框6为矩形框体结构，固定框6通过阻尼转轴7活动连接在基板4上，固定框6外侧的面积等于基板4的面积，固定框6外侧的面积大于ITO薄膜2的面积，且固定框6内侧的面积小于ITO薄膜2的面积，固定框6闭合时和基板4为互相平行位置设置，且固定框6和基板4之间的距离长度等于ITO薄膜2和水溶性胶层5的高度之和，且固定框6的下端固定连接有软性材料，固定框6可以对起到充分压紧固定作用。

进一步地，活动板3活动连接在曝光机1上，活动板3的下端对应设置有两个通孔，滑槽13贯穿活动板3的通孔设置，且活动板3的边沿设置有一层密封层，密封层可充分保证曝光机1的密封性，使其曝光效果达到最佳。

工作原理：

参照图1至图3中，当ITO薄膜2需要进行曝光时，打开固定框6，将水溶性胶层5粘贴在限位柱9上，再将ITO薄膜2平整的放置在水溶性胶层5上，并抚平所有边角，轻轻闭合上固定框6，将固定框6的外框压住水溶性胶层5的边沿部分，同时限位孔8对应卡住限位柱9，从而固定框6对ITO薄膜2起到一层保护作用，避免在移动过程中边角翘起或晃动，且当基板4移动到曝光机1中，可以将滑块10拿出滑槽13，放置在曝光机1中的指定位置进行曝光，当曝光工序完成后，需要浸泡在药水中，此时水溶性胶层5将会溶解，当所有工序完成后，同时打开固定框6取出ITO薄膜2即可，此实用新型结构简单，具有很高的实用价值。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。