一种光学滤波器件的制作方法

文档序号:18926305发布日期:2019-10-19 04:03阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种光学滤波器件,其特征在于包含了由衬底(1)、过渡金属氮化物(2)和光学匹配层(3),其中过渡金属氮化物(2)制备在衬底(1)上面并且中间有宽度为W凹槽,光学匹配层(3)覆盖在过渡金属氮化物(2)上并将凹槽填充,整体结构沿垂直凹槽的方向以周期p排列。

2.根据权利要求1所述的一种光学滤波器件,其特征在于过渡金属氮化物(2)的为TiN、ZrN中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种光学滤波器件,其特征在于过渡金属氮化物(2)的厚度T2在10nm~500nm之间。

4.根据权利要求1所述的一种光学滤波器件,其特征在于衬底(1)为禁带宽度大于4eV的介质材料。

5.根据权利要求1所述的一种光学滤波器件,其特征在于光学匹配层(3)的厚度T1在5nm~300nm之间。

6.根据权利要求1所述的一种光学滤波器件,其特征在于光学匹配层(3)折射率在1.2~2.5之间。

7.根据权利要求1所述的一种光学滤波器件,其特征在于凹槽宽度W在5nm~300nm之间。

8.根据权利要求1所述的一种光学滤波器件,其特征在于周期p在10nm~300nm之间。

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