一种掩模板清洗系统及清洗方法与流程

本申请涉及掩模板技术领域，特别是涉及一种掩模板清洗系统及清洗方法。

背景技术：

在制作显示面板过程中，一般需要在特定位置上利用掩模板蒸镀特定材料。掩模板在使用一段时间后，其表面会残留有被蒸镀的特定材料，此时需要对掩模板进行清洗，以使得掩模板可以重复使用。

现有的掩模板清洗系统包括级联的以下腔室：(1)有机清洗槽，可以采用n-甲基吡咯烷酮nmp对掩模板上的有机物进行化学清洗；(2)水洗槽，可以采用去离子水对掩模板上残留的nmp溶液进行清洗；(3)脱水室，可以采用异丙醇ipa对掩模板进行脱水处理；(4)干燥室，可以采用高纯气体吹干等方式对脱水后的掩模板进行干燥。

本申请的发明人在长期研究过程中发现，上述清洗系统中级联的腔室会使产线较长；且上述清洗系统仅能清洗表面附着有有机物的掩模板。

技术实现要素：

本申请主要解决的技术问题是提供一种掩模板清洗系统和清洗方法，能够清洗三种类型的掩模板且使尺寸更为紧凑。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种掩模板清洗系统，所述清洗系统包括：有机清洗组件，用于清洗所述掩模板上的有机物；酸清洗组件，用于清洗所述掩模板上能够被酸清洗的无机物；碱清洗组件，用于清洗所述掩模板上能够被碱清洗的无机物；脱水组件，用于对经所述有机清洗组件、所述酸清洗组件或所述碱清洗组件清洗过的所述掩模板进行脱水；干燥室，用于对经所述脱水组件脱水处理过的所述掩模板进行干燥；其中，所述有机清洗组件、所述酸清洗组件、所述碱清洗组件、所述脱水组件和所述干燥室的位置不在同一条直线上，且所述有机清洗组件、所述酸清洗组件、所述碱清洗组件、所述脱水组件和所述干燥室的设置满足安全标准要求。

其中，所述清洗系统还包括：公共物流区，所述有机清洗组件、所述酸清洗组件、所述碱清洗组件和所述脱水组件分布在所述公共物流区的两侧，

优选地，分散在所述公共物流区的两侧的各组件两两相对设置，

优选地，所述干燥室邻近所述公共物流区的第一端部设置。

其中，所述清洗系统还包括：电解组件，用于对经所述有机清洗组件清洗过的所述掩模板进行电解以去除所述掩模板上的颗粒物。

其中，所述酸清洗组件与所述碱清洗组件间隔设置，和/或，所述电解组件与所述脱水组件间隔设置，和/或，所述电解组件与所述酸清洗组件间隔设置。

其中，所述电解组件与所述酸清洗组件位于所述公共物流区一侧，所述有机清洗组件和所述碱清洗组件位于所述公共物流区的另一侧，且所述碱清洗组件与所述酸清洗组件相对设置，所述有机清洗组件和所述电解组件相对设置；所述有机清洗组件相对所述碱清洗组件远离所述干燥室。

其中，所述清洗系统还包括：抓取组件，包括第一机械臂，所述第一机械臂位于所述公共物流区，用于抓取并移动所述掩模板的位置；清洗槽，位于所述电解组件与所述酸清洗组件之间，用于清洗所述抓取组件与所述掩模板接触的端部；上料室，位于所述公共物流区的第二端部且所述有机清洗组件靠近所述上料室，用于承载待清洗的所述掩模板；下料室，位于所述干燥室远离所述公共物流区的所述第一端部一侧，用于承载所述干燥室干燥完成后的所述掩模板。

其中，所述抓取组件还包括：第二机械臂和第三机械臂，所述第一机械臂用于在所述有机清洗组件、所述酸清洗组件、所述碱清洗组件、所述脱水组件和所述干燥室之间抓取并移动所述掩模板的位置；所述第二机械臂用于将所述掩模板从所述上料室取出；所述第三机械臂用于将所述掩模板放置到所述下料室中。

其中，所述脱水组件包括第一脱水室和第二脱水室，所述第一脱水室和所述第二脱水室分别位于所述公共物流区的两侧，且靠近所述干燥室；所述有机清洗组件包括有机清洗槽以及至少一个第一水洗槽，所述有机清洗槽与所述第一水洗槽相邻设置；所述电解组件，包括电解槽以及至少一个第二水洗槽，所述电解槽与所述第二水洗槽相邻设置所述酸清洗组件包括酸清洗槽以及至少一个第三水洗槽，所述酸清洗槽与所述第三水洗槽相邻设置；所述碱清洗组件包括碱清洗槽以及至少一个第四水洗槽，所述碱清洗槽与所述第四水洗槽相邻设置。

为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种掩模板清洗方法，所述清洗方法利用上述任一实施例中的清洗系统，所述清洗方法包括：获得待清洗的所述掩模板的类型，其中，所述掩模板的类型包括：第一类掩模板，用于蒸镀有机物；第二类掩模板，用于蒸镀银ag或镁mg或镱yb；第三类掩模板，用于蒸镀氟化锂lif或铝al；当所述掩模板为所述第一类掩模板时，所述第一类掩模板依次经所述有机清洗组件、所述脱水组件和所述干燥室后排出；当所述掩模板为所述第二类掩模板时，所述第二类掩模板依次经所述酸清洗组件、所述脱水组件和所述干燥室后排出；当所述掩模板为所述第三类掩模板时，所述第三类掩模板依次经所述碱清洗组件、所述脱水组件和所述干燥室后排出。

其中，所述清洗系统同时清洗多个所述第一类掩模板，所述清洗方法还包括：判断所述干燥室内的所述第一类掩模板是否可以排出，若是，则将所述第一类掩模板排出至下一工序；否则，判断所述脱水组件内的所述第一类掩模板是否可以排出，若是，则将所述第一类掩模板排出至所述干燥室；否则，判断电解组件内的所述第一类掩模板是否可以排出，若是，则将所述电解组件内的所述第一类掩模板排出至所述脱水组件；否则，判断所述有机清洗组件的所述第一类掩模板是否可以排出；若是，则将所述有机清洗组件内的所述第一类掩模板排出至所述电解槽组件；和/或，所述清洗系统同时清洗多个所述第二类掩模板，所述清洗方法还包括：判断所述干燥室内的所述第二类掩模板是否可以排出，若是，则将所述第二类掩模板排出至下一工序；否则，判断所述脱水组件内的所述第二类掩模板是否可以排出，若是，则将所述第二类掩模板排出至所述干燥室；否则，判断所述酸清洗组件内的所述第二类掩模板是否可以排出，若是，则将所述酸清洗组件内的所述第二类掩模板排出至所述脱水组件；和/或，所述清洗系统同时清洗多个所述第三类掩模板，所述清洗方法还包括：判断所述干燥室内的所述第三类掩模板是否可以排出，若是，则将所述第三类掩模板排出至下一工序；否则，判断所述脱水组件内的所述第三类掩模板是否可以排出，若是，则将所述第三类掩模板排出至所述干燥室；否则，判断所述碱清洗组件内的所述第三类掩模板是否可以排出，若是，则将所述碱清洗组件内的所述第三类掩模板排出至所述脱水组件。

本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请所提供的清洗系统包含有机清洗组件、酸清洗组件和碱清洗组件，该清洗系统可以清洗表面附着有有机物或能够被酸清洗的无机物或能够被碱清洗的无机物的掩模板，即本申请所提供的清洗系统相比于现有的只能清洗单一类型的掩模板的清洗系统而言，适用面更广；另外，本申请所提供的清洗系统中有机清洗组件、酸清洗组件、碱清洗组件、脱水组件和干燥室的位置不在同一条直线上，该设计方式可以使得占地更为紧凑，空间利用率更高。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：

图1为本申请掩模板清洗系统一实施方式的结构示意图；

图2为本申请掩模板清洗系统另一实施方式的结构示意图；

图3为图1中第一机械臂一实施方式的结构示意图；

图4为本申请掩模板清洗方法一实施方式的流程示意图；

图5为本申请清洗方法另一实施方式的流程示意图；

图6为本申请清洗方法另一实施方式的流程示意图；

图7为本申请清洗方法另一实施方式的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

一般而言，掩模板按结构可以分为开放型掩模板以及高精度型掩模板，在制作显示面板过程中，可根据实际需求进行选择。以制作oled显示面板为例，oled显示面板包括：层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层、光取出层、保护层(例如，氟化锂等)等；其中，发光层可以利用高精度型掩模板蒸镀形成，其他层可以利用开放型掩模板蒸镀形成。本申请所提供的掩模板清洗系统及清洗方法适用于开放型掩模板以及高精度型掩模板。

请参阅图1，图1为本申请掩模板清洗系统一实施方式的结构示意图，该清洗系统包括有机清洗组件10、酸清洗组件12、碱清洗组件14、脱水组件16、干燥室18。

具体地，有机清洗组件10用于清洗掩模板上的有机物，有机物可以为红色发光层物质、绿色发光层物质、蓝色发光层物质等。在本实施例中，有机清洗组件10包括有机清洗槽100以及至少一个第一水洗槽102，有机清洗槽100与第一水洗槽102相邻设置。有机清洗槽100内可以承载有机溶剂，例如，nmp等，当掩模板放入有机清洗槽100内后，有机溶剂根据相似相溶原理，将掩模板表面残留的有机物溶解以达到去除有机物的目的。第一水洗槽102内可以承载去离子水，该去离子水可以对掩模板上残留的有机溶剂进行清洗。第一水洗槽102的个数可以为一个、两个、三个等，当第一水洗槽102的个数为多个时，可以将掩模板表面残留的有机溶剂清洗的更为彻底。此外，由于在工艺流程上，掩模板经过有机清洗槽100清洗后，必须先进入其配套的第一水洗槽102进行水洗，以防止后续发生化学品药液混合，因此，本实施例中将有机清洗槽100与第一水洗槽102相邻设置的方式，可以节省工艺时间。

酸清洗组件12用于清洗掩模板上能够被酸清洗的无机物，该无机物可以为银ag、镁mg或镱yb等。在本实施例中，酸清洗组件12包括酸清洗槽120以及至少一个第三水洗槽122，酸清洗槽120与第三水洗槽122相邻设置。酸清洗槽120内可以承载酸性溶液，例如，盐酸等，当掩模板放入酸清洗槽120内后，酸性物质与掩模板表面残留的银ag、镁mg或镱yb发生反应，以使得银ag、镁mg或镱yb溶解到酸性溶液中。第三水洗槽122内可以承载去离子水，该去离子水可以对掩模板上残留的酸性溶液进行清洗。第三水洗槽122的个数可以为一个、两个、三个等，当第三水洗槽122的个数为多个时，可以将掩模板表面残留的酸性溶液清洗的更为彻底。此外，由于在工艺流程上，掩模板经过酸清洗槽120清洗后，必须先进入其配套的第三水洗槽122进行水洗，以防止后续发生化学品药液混合，因此，本实施例中将酸清洗槽120与第三水洗槽122相邻设置的方式，可以节省工艺时间。

碱清洗组件14用于清洗掩模板上能够被碱清洗的无机物，该无机物可以是氟化锂lif或铝al等。在本实施例中，碱清洗组件14包括碱清洗槽140以及至少一个第四水洗槽142，碱清洗槽140与第四水洗槽142相邻设置。碱清洗槽140内可以承载碱性溶液，例如，氢氧化钾溶液等，当掩模板放入碱清洗槽140内后，碱性物质与掩模板表面残留的氟化锂lif或铝al发生反应，以使得氟化锂lif或铝al溶解到碱性溶液中。第四水洗槽142内可以承载去离子水，该去离子水可以对掩模板上残留的碱性溶液进行清洗。第四水洗槽142的个数可以为一个、两个、三个等，当第四水洗槽142的个数为多个时，可以将掩模板表面残留的碱性溶液清洗的更为彻底。此外，由于在工艺流程上，掩模板经过碱清洗槽140清洗后，必须先进入其配套的第四水洗槽142进行水洗，以防止后续发生化学品药液混合，因此，本实施例中将碱清洗槽140与第四水洗槽142相邻设置的方式，可以节省工艺时间。

脱水组件16用于对经有机清洗组件10、酸清洗组件12、碱清洗组件14清洗过的掩模板进行脱水；在本实施例中，脱水组件16可以包含至少一个脱水室，该脱水室内可以承载ipa溶剂，当掩模板放入脱水室内后，ipa溶剂可以将掩模板表面残留的水分去除，避免在掩模板表面留下水渍。

干燥室18用于对经脱水组件16脱水处理过的掩模板进行干燥；在本实施例中，可以利用高纯氮气来吹干掩模板。

在本实施例中，上述有机清洗组件10、酸清洗组件12、碱清洗组件14、脱水组件16和干燥室18的位置不在同一条直线上，例如，该清洗系统中的某些组件位于第一直线上，另外某些组件可以位于第二直线上，第一直线和第二直线可以呈夹角或者平行设置等。且上述有机清洗组件10、酸清洗组件12、碱清洗组件14、脱水组件16和干燥室18的设置满足预设条件，该预设条件可以包括安全方面、效率方面等。

一方面，本申请所提供的清洗系统包含有机清洗组件10、酸清洗组件12和碱清洗组件14，该清洗系统可以清洗表面附着有有机物或能够被酸清洗的无机物或能够被碱清洗的无机物的掩模板，即本申请所提供的清洗系统相比于现有的只能清洗单一类型的掩模板的清洗系统而言，适用面更广；另一方面，本申请所提供的清洗系统中有机清洗组件、酸清洗组件、碱清洗组件、脱水组件和干燥室的位置不在同一条直线上，该设计方式可以使得该清洗系统占地更为紧凑，空间利用率更高。

在一个实施方式中，请继续参阅图1，本申请所提供的清洗系统还包括：公共物流区11。有机清洗组件10、酸清洗组件12、碱清洗组件14和脱水组件16在公共物流区11的两侧相对设置；该设置方式可以使得该清洗系统占地更为紧凑，且空间利用率更高。干燥室18邻近公共物流区11的第一端部110设置；在本实施例中，干燥室18可以位于公共物流区11外且邻近公共物流区11的第一端部110设置(如图1所示)。在工艺流程上，由于经有机清洗组件10、酸清洗组件12和碱清洗组件14清洗过的掩模板均需在干燥室18内进行干燥，干燥室18邻近公共物流区11的第一端部110设置的方式，可以使得干燥室18与有机清洗组件10、酸清洗组件12和碱清洗组件14之间的距离尽可能小，进而降低工艺时间。

在另一个实施方式中，请继续参阅图1，脱水组件16与干燥室18邻近设置。由于在工艺流程上，掩模板脱水过程和干燥过程先后连续进行，因此上述脱水组件16与干燥室18邻近设置的方式，可以节省工艺时间。另外，在本实施例中，脱水组件16可以包括第一脱水室160和第二脱水室162，第一脱水室160和第二脱水室162分别位于公共物流区11的两侧，且靠近干燥室18；第一脱水室160可以承载来自于有机清洗组件10过来的掩模板，第二脱水室162可以承载来自于酸清洗组件12和碱清洗组件14过来的掩模板。多个脱水室的设计方式，可以降低多种掩模板同时清洗时的时间。当然，在其他实施例中，脱水组件16中也可包含更少或者更多个脱水室，本申请对此不作限定。

在另一个实施方式中，请继续参阅图1，为了使表面附着有有机物的掩模板清洗的更为干净，本申请所提供的清洗系统还包括：电解组件13，用于对经有机清洗组件10清洗过的掩模板进行电解以去除掩模板上的颗粒物。在本实施例中，电解组件13可以包括电解槽130以及至少一个第二水洗槽132，电解槽130与第二水洗槽132相邻设置；该电解槽130内可以承载氢氧化钠水溶液，在电解时，溶液中产生气泡，气泡内可以包含氢气或氧气，在气泡的作用下，掩模板表面附着的颗粒物可以被冲击掉落至溶液中。

在一个应用场景中，酸清洗组件12与碱清洗组件14间隔设置；该方式可以使得酸清洗组件12中的酸性物质与碱清洗组件14中的碱性物质具有安全距离，以满足国家法规强制要求，满足行业semi安全标准要求。上述间隔设置可以通过其他槽体或者公共物流区11实现。

在另一个应用场景中，电解组件13与酸清洗组件12间隔设置；电解组件13内一般包含氢氧化钠，氢氧化钠为碱性物质，其与酸清洗组件12中的酸性物质相排斥，该方式可以使电解组件13中的碱性物质与酸清洗组件12中的酸性物质具有安全距离，以满足国家法规强制要求，满足行业semi安全标准要求。上述间隔设置可以通过其他槽体或者公共物流区11实现。

在另一个应用场景中，电解组件13与脱水组件16间隔设置；脱水组件16中包含ipa，ipa遇火容易爆炸，而电解组件13电解时会产生火花，因此出于安全角度考虑，将上述电解组件13与脱水组件16间隔设置可以达到隔离和防护的效果，以满足国家法规强制要求，满足行业semi安全标准要求。上述间隔设置可以通过其他槽体或者公共物流区11实现。

综合上述考虑因素，请参阅图1，在本实施例中，电解组件13与酸清洗组件12位于公共物流区11一侧，有机清洗组件10和碱清洗组件14位于公共物流区11的另一侧，且碱清洗组件14与酸清洗组件12相对设置，有机清洗组件10和电解组件13相对设置，且有机清洗组件10相对碱清洗组件14远离干燥室18。在该实施例中，酸清洗组件12和碱清洗组件14位于清洗系统的中段位置，掩模板上附着的酸性溶液或者碱性溶液只会滴落在清洗系统的中段位置，可以减少酸性物质和碱性物质对清洗系统的污染和腐蚀。

在另一个实施方式中，请继续参阅图1，本申请所提供清洗系统还包括：

抓取组件15，包括第一机械臂150，位于公共物流区11，第一机械臂150用于抓取并移动掩模板的位置；该第一机械臂150为公共机械臂，第一机械臂150可以在有机清洗组件10、酸清洗组件12、碱清洗组件14、脱水组件16和干燥室18之间抓取并移动掩模板的位置，其路径可自由选择，不需要龙门等复杂结构，该第一机械臂150可以为六轴机械臂或悬臂等，其结构如图3所示。此时公共物流区11可以设置有轨道，以供第一机械臂150沿轨道运动。

清洗槽17，位于电解组件13与酸清洗组件12之间，用于清洗抓取组件15与掩模板接触的端部；由于第一机械臂150为公共机械臂，每次在搬运掩模板之前，第一机械臂150均需进入该清洗槽17内清洗，以降低上一次搬运对当前搬运的影响。此外，在本实施例中，清洗槽17位于电解组件13与酸清洗组件12之间的设计方式可以将电解组件13与酸清洗组件12间隔开。

上料室19，位于公共物流区11的第二端部112且有机清洗组件10靠近上料室19，用于承载待清洗的掩模板；由于有机清洗任务比较多，本实施例中将有机清洗组件10靠近上料室19的设计方式，可以减少工艺时间，且可以降低有机溶剂污染清洗系统的概率。在本实施例中，如图1所示，上料室19可以位于公共物流区11外且邻近公共物流区11的第二端部112设置；在其他实施例中，如图2所示，上料室19a也可位于公共物流区11a内且邻近公共物流区11a的第二端部112a设置。

下料室20，位于干燥室18远离公共物流区11的第一端部110一侧，用于承载干燥室18干燥完成后的掩模板。

在一个应用场景中，为了提高清洗系统的运行效率，上述实施例中的抓取组件15还包括：第二机械臂(图未示)和第三机械臂，第一机械臂150、第二机械臂和第三机械臂的分工如下：第一机械臂150用于在有机清洗组件10、酸清洗组件12、碱清洗组件14、脱水组件16和干燥室18之间抓取并移动掩模板的位置，其中有机清洗组件10、酸清洗组件12、碱清洗组件14、脱水组件16包含对应各自功能的药液槽和水洗槽，此时第一机械臂150相当于负责湿区搬送；第二机械臂用于将掩模板从上料室19取出至下一个工序(例如，各个药液槽)，此时第二机械臂相当于负责前段干区搬送，第二机械臂的设置可以避免第一机械臂150接触过湿区的溶液后污染上料室19；第三机械臂用于将掩模板从干燥室18放置到下料室20中，此时第三机械臂相当于负责后段干区搬送，第三机械臂的设置可以避免第一机械臂150接触过湿区的溶液后污染下料室19。上述实施例中第一机械臂150负责湿区搬送，第二机械臂和第三机械臂负责干区搬送的设计方式可以使得干湿分离，避免化学药液污染到上料室19和下料室20。当然，在其他实施方式中，上述第二机械臂也可省去，此时掩模板从上料室19取出可由第一机械臂150完成。而为了进一步提高清洗系统的运行效率，在本实施例中，负责湿区搬送的第一机械臂150的个数可以为多个(例如，4个、5个等)，或者第一机械臂150上可以安装多个夹爪。

请参阅图4，图4为本申请掩模板清洗方法一实施方式的流程示意图，该清洗方法利用上述任一实施例中的清洗系统，清洗系统的具体结构在此不再赘述，该清洗方法包括：

s101：获得待清洗的掩模板的类型。

具体地，在本实施例中，掩模板的类型包括：第一类掩模板，用于蒸镀有机物，例如，红色发光层物质、绿色发光层物质、蓝色发光层物质等；第二类掩模板，用于蒸镀银ag或镁mg或镱yb等；第三类掩模板，用于蒸镀氟化锂lif或铝al等。

s102：当掩模板为第一类掩模板时，第一类掩模板依次经有机清洗组件10、脱水组件16和干燥室18后排出。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s102具体包括：第一类掩模板依次经上料室19、有机清洗槽100、至少一个第一水洗槽102、第一脱水室160、干燥室18、下料室20后排出。

在另一个应用场景中，为使得清洗效果提高，上述步骤s102包括：第一类掩模板依次经上料室19、有机清洗槽100、至少一个第一水洗槽102、电解槽130、至少一个第二水洗槽132、第一脱水室160、干燥室18、下料室20后排出。

s103：当掩模板为第二类掩模板时，第二类掩模板依次经酸清洗组件12、脱水组件16和干燥室18后排出。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s103包括：第二类掩模板依次经上料室19、酸清洗槽120、至少一个第三水洗槽122、第二脱水室162、干燥室18、下料室20后排出。

s104：当掩模板为第三类掩模板时，第三类掩模板依次经碱清洗组件14、脱水组件16和干燥室18后排出。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s103包括：第三类掩模板依次经上料室19、碱清洗槽140、至少一个第四水洗槽142、第二脱水室162、干燥室18、下料室20后排出。

在一个实施方式中，清洗系统同时可以清洗多个第一类掩模板，请参阅图5，图5为本申请清洗方法另一实施方式的流程示意图，该清洗方法还包括：

s201：判断干燥室18内的第一类掩模板是否可以排出。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s201之前，本申请所提供的清洗方法还包括：判断下料室20内的第一类掩模板是否可以排出；若是，则将下料室20内的第一类掩模板排出；否则，进入步骤s201。另外，上述步骤s201中判断是否可以排出的方式可以是根据掩模板在干燥室18内滞留的时间判定。

s202：若是，则将第一类掩模板排出至下一工序。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s202具体包括，将第一类掩模板排出至下料室20。

s203：否则，判断脱水组件16内的第一类掩模板是否可以排出。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s203具体包括：判断第一脱水室160内的第一类掩模板是否可以排出。

s204：若是，则将第一类掩模板排出至干燥室18。

s205：否则，判断电解组件13内的第一类掩模板是否可以排出。

s206：若是，则将电解组件13内的第一类掩模板排出至脱水组件16。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s205-s206具体包括：判断电解组件13内的第二水洗槽132是否可以排出；若是，则将第二水洗槽132内的第一类掩模板排出至脱水组件16；否则，判断电解槽130内的第一类掩模板是否可以排出；若是，则将电解槽130内的第一类掩模板排出至第二水洗槽132内，否则，进入步骤s207。

s207：否则，判断有机清洗组件10的第一类掩模板是否可以排出。

s208：若是，则将有机清洗组件10内的第一类掩模板排出至电解组件13。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s207-步骤s208具体包括：判断有机清洗组件10内的第一水洗槽102是否可以排出；若是，则将第一水洗槽102内的第一类掩模板排出至电解组件13(例如，电解组件13内的电解槽130)；否则，判断有机清洗槽100内的第一类掩模板是否可以排出，若是，则将有机清洗槽100内的第一类掩模板排出至第一水洗槽102；否则，判断上料室19内是否可以排出第一类掩模板，若是，则将第一类掩模板排出至有机清洗槽100内。

在另一个实施方式中，清洗系统同时清洗多个第二类掩模板，请参阅图6，图6为本申请清洗方法另一实施方式的流程示意图，本申请所提供的清洗方法还包括：

s301：判断干燥室18内的第二类掩模板是否可以排出。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s301之前，本申请所提供的清洗方法还包括：判断下料室20内的第二类掩模板是否可以排出；若是，则将下料室20内的第二类掩模板排出；否则，进入步骤s301。

s302：若是，则将第二类掩模板排出至下一工序。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s302具体包括，将第二类掩模板排出至下料室20。

s303：否则，判断脱水组件16内的第二类掩模板是否可以排出。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s303具体包括：判断第二脱水室162内的第二类掩模板是否可以排出。

s304：若是，则将第二类掩模板排出至干燥室18。

s305：否则，判断酸清洗组件12内的第二类掩模板是否可以排出。

s306：若是，则将酸清洗组件12内的第二类掩模板排出至脱水组件16。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s305-s306具体包括：判断酸清洗组件12内的第三水洗槽122中的第二类掩模板是否可以排出；若是，则将第三水洗槽122内的第二类掩模板排出至脱水组件16；否则，判断酸清洗槽120内的第二类掩模板是否可以排出；若是，则将酸清洗槽120内的第二类掩模板排出至第三水洗槽122内，否则，判断上料室19内是否可以排出第二类掩模板，若是，则将第二类掩模板排出至酸清洗槽120内。

在另一个实施方式中，清洗系统同时清洗多个第三类掩模板，请参阅图7，图7为本申请清洗方法另一实施方式的流程示意图，本申请所提供的清洗方法还包括：

s401：判断干燥室18内的第三类掩模板是否可以排出。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s401之前，本申请所提供的清洗方法还包括：判断下料室20内的第三类掩模板是否可以排出；若是，则将下料室20内的第三类掩模板排出；否则，进入步骤s401。

s402：若是，则将第三类掩模板排出至下一工序。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s402具体包括，将第三类掩模板排出至下料室20。

s403：否则，判断脱水组件16内的第三类掩模板是否可以排出。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s403具体包括：判断第二脱水室162内的第三类掩模板是否可以排出。

s404：若是，则将第三类掩模板排出至干燥室18。

s405：否则，判断碱清洗组件14内的第三类掩模板是否可以排出；

s406：若是，则将碱清洗组件14内的第三类掩模板排出至脱水组件16。

具体地，在一个应用场景中，上述步骤s405-s406具体包括：判断碱清洗组件14内的第四水洗槽142中的第三类掩模板是否可以排出；若是，则将第四水洗槽142内的第三类掩模板排出至脱水组件16；否则，判断碱清洗槽140内的第三类掩模板是否可以排出；若是，则将碱清洗槽140内的第三类掩模板排出至第四水洗槽142内，否则，判断上料室19内是否可以排出第三类掩模板，若是，则将第三类掩模板排出至碱清洗槽140内。

总体说来，上述三种清洗方法采用排出优先原则，即工艺流程越靠后的先排出，以提高清洗效率。

在又一个实施方式中，本申请所提供的清洗系统还可以同时清洗多个第一类掩模板、第二类掩模板、第三类掩模板，本申请所提供的清洗方法还包括：

a、判断下料室20是否有掩模板排出，若是，则将下料室20内掩模板排出。

b、否则，判断干燥室18内是否有掩模板排出；若是，则将掩模板排出至下料室20。

c、否则，判断脱水组件16内的掩模板是否可以排出；若是，则将脱水组件16内的掩模板排出至干燥室18。

具体地，当脱水组件16包含第一脱水室160和第二脱水室162时，可以先判断第一脱水室160内的掩模板是否可以排出，若是，则将掩模板排出至干燥室18；否则判断第二脱水室162内的掩模板是否可以排出，若是，则将掩模板排出至干燥室18，否则，进入步骤d。

d、否则，判断电解组件13的第二水洗槽132内的掩模板是否可以排出；若是，则将掩模板排出至脱水组件16。

e、否则，判断酸清洗组件12第三水洗槽122内的掩模板是否可以排出；若是，则将掩模板排出至脱水组件16。

f、否则，判断碱清洗组件14的第四水洗槽142内的掩模板是否可以排出；若是，则将掩模板排出至脱水组件16。

g、否则，判断电解槽130内的掩模板是否可以排出；若是，则将掩模板排出至第二水洗槽132。

h、否则，判断有机清洗组件10的第一水洗槽102内的掩模板是否可以排出；若是，则将掩模板排出至电解槽130。

i、否则，判断碱清洗槽140内的掩模板是否可以排出，若是，则将掩模板排出至第四水洗槽142。

j、否则，判断酸清洗槽120内的掩模板是否可以排出，若是，则将掩模板排出至第三水洗槽122。

k、否则，判断有机清洗槽100内的掩模板是否可以排出，若是，则将掩模板排出至第一水洗槽102。

l、否则，判断上料室19是否有掩模板可以排出，若是，则将掩模板排出至有机清洗槽100或酸清洗槽120或碱清洗槽140，具体根据掩模板的类型决定。

需要说明的是，如图1所示，当电解组件13中包含多个，例如两个第二水洗槽132、134时，该两个第二水洗槽132、134可以位于公共物流区11的同一侧或者相对两侧，且在上述步骤g之前，该清洗方法可以包括判断电解组件13中的另一个第二水洗槽134内的掩模板是否可以排出。此外，当清洗系统中只清洗第一类掩模板或第二类掩模板或第三类掩模板时，与清洗第一类掩模板或第二类掩模板或第三类掩模板无关的槽体的判断可直接跳过。

下面以具体的实验数据说明本申请所提供的清洗系统及清洗方法的清洗效果。

实验一：

采用本申请所提供的清洗系统清洗高精度型掩模板，高精度型掩模板表面附着有有机物。本申请所提供的清洗系统清洗单片掩模板所需清洗时间为26.7min，清洗效果为20qty@5.5μm，即5.5μm大小的灰尘异物20个。

实验二：

采用本申请所提供的清洗系统清洗开放型掩模板，开放型掩模板表面附着有金属。本申请所提供的清洗系统清洗单片掩模板所需清洗时间为21.7min，清洗效果为20qty@5.5μm，即5.5μm大小的灰尘异物20个。

因此，从上述实验结果可以看出，本申请所提供的清洗系统可以清洗多种类型的掩模板，相对于现有清洗系统而言，适用性更广。

以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。