一种显示面板测量设备的补正方法和补正系统与流程

文档序号:19213346发布日期:2019-11-26 01:28阅读:368来源:国知局
一种显示面板测量设备的补正方法和补正系统与流程

本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板测量设备的补正方法和补正系统



背景技术:

显示面板因其体积薄、重量轻、画面质量优异、功耗低、寿命长、数字化和无辐射等优点在各种大、中、小的产品上得到广泛应用,几乎涵盖了当今信息社会的主要电子产品,例如,电视、电脑、手机、gps(全球定位系统)、车载显示、公共显示等。彩膜显微分光光度计是显示面板产业中彩膜(cf)制程中的测量设备,实际生产中要保证相同设备的测量结果一致,不因设备差异造成生产异常,设备机差验证通过产线人员派送同一基板至各设备进行测量,根据不同设备的测量结果进行比对,保证测量结果差异在设备既定规格以内,以保证产品的合格生产。

同一基板派送至不同设备进行测量所耗费太多人力并且时程较长,且设备差异补正后的结果通常需要重复确认,导致效率较低,产能损伤等情况。



技术实现要素:

本申请的目的是提供一种显示面板测量设备的补正方法和补正系统,能自动地对相同设备的运行参数进行及时补正。

为实现上述目的,本申请提供一种显示面板测量设备的补正方法,包括步骤:

获取测试基板的基准数据,所述基准数据包括测试数据和对应的第一加工数据;

将所述基准数据中的测试数据输入对比设备,运算得到第二加工数据;

将所述第二加工数据与所述基准数据中的第一加工数据进行比对,计算出第一补正数据;

根据所述第一补正数据对所述对比设备的运行参数进行补正,使所述对比设备对所述测试数据进行运算得到的第三加工数据更接近于所述第一加工数据。

可选的,所述获取测试基板的基准数据,所述基准数据包括测试数据和对应的第一加工数据的步骤前,还包括步骤:

通过基准设备,对测试基板进行测试,根据预设的测试数据测试获得对应的第一加工数据。

可选的,所述将基准数据中的测试数据输入对比设备,运算得到第二加工数据的步骤包括:将所述测试基板的基准数据上传在公共服务器;所述对比设备从所述公共服务器中读取所述基准数据。

可选的,将所述第二加工数据与所述基准数据中的第一加工数据进行比对,计算出第一补正数据的步骤包括:通过所述对比设备中的控制器对所述第一加工数据和所述第二加工数据进行比对。

可选的,将所述第二加工数据与所述基准数据中的第一加工数据进行比对,计算出第一补正数据的步骤包括:通过所述对比设备将所述第二加工数据上传到所述公共服务器,利用所述公共服务器对所述第一加工数据和第二加工数据进行比对。

可选的,将所述第一加工数据和所述第二加工数据进行比对,通过比对差异计算出所述第一补正数据之后还包括步骤:

进一步判断计算出的所述第一补正数据与设备规格之间的差异是否在预设误差许可范围内;

若在预设误差许可范围内,则不发送所述第一补正数据到所述对比设备;

若超出预设误差许可范围,则发送所述第一补正数据到所述对比设备。

可选的,根据所述第一补正数据对所述对比设备的运行参数进行补正,使所述对比设备对所述测试数据进行运算得到的所述第三加工数据更接近于所述第一加工数据之后还包括步骤:

将所述第三加工数据和所述第一加工数据进行比对,通过比对差异计算出所述第二补正数据;

进一步判断计算出的所述第二补正数据与设备规格之间的差异是否在预设误差许可范围内;

若在预设误差许可范围内,则不发送所述第二补正数据到所述对比设备;

若超出预设误差许可范围,则发送所述第二补正数据到所述对比设备;

根据所述第二补正数据对所述对比设备的运行参数进行补正,使所述对比设备对所述测试数据进行运算得到的第四加工数据更接近于所述第一加工数据。

可选的,通过所述基准设备对所述测试数据进行运算得到所述第一加工数据之后还包括步骤:

通过所述基准设备直接将所述测试数据和所述第一加工数据传输给所述对比设备。

本申请还公开了一种显示面板测量设备的补正方法,包括步骤:

获取测试基板的基准数据,所述基准数据包括第一测试数据和对应的第一加工数据;

将基准数据中的第一加工数据输入对比设备仿真运算,得到对应的第二测试数据;

将所述第二测试数据与所述基准数据中的第一测试数据进行比对,计算出对比设备的第一补正数据;

根据所述第一补正数据对所述对比设备的运行参数进行补正,使所述对比设备将第一加工数据输入对比设备仿真运算,得到对应的第三测试数据更接近于所述第一测试数据。

本申请还公开了一种显示面板测量设备的补正系统,包括存储模块,存储有测试基板的基准数据,所述基准数据包括测试数据和对应的第一加工数据;对比模块,读取所述存储模块中的所述测试数据,对所述测试数据进行运算得到所述第二加工数据;计算模块,对所述第一加工数据和所述第二加工数据进行分析比对,通过比对差异计算出所述第一补正数据;补正模块,与所述对比模块控制连接,根据所述第一补正数据对所述对比模块的运行参数进行补正,使所述对比模块对所述测试数据进行运算得到的所述第三加工数据更接近于所述第一加工数据。

相对于通过人工将基板先派送到基准设备中,给基板输入一测试数据,再分别派送至各个设备中,给基板输入一相同的测试数据,读取各个不同设备测量出来的加工数据,对加工数据进行分析获得的补正数据,分别再对各个设备进行参数系统补正的方法来说,本申请只需将基板先派送到基准设备中,给基板输入一测试数据进行测量,获得的第一加工数据与测试数据均传输至对比设备,对比设备接收到测试数据再进行运算获得第二加工数据,会自动通过第二加工数据和第一加工数据进行比对后的比对差异计算出第一补正数据,并且自动对对比设备的参数系统进行补正,使得同类设备测量差异在设备技术规格以内,可有效缩减作业时间和人为作业压力,缩短机差确认时间,提高产线利用率。

附图说明

所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解,其构成了说明书的一部分,用于例示本申请的实施方式,并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中:

图1是示例性技术的测量装置工作流程的示意图;

图2是本申请一种显示面板测量设备的补正系统的示意图;

图3是本申请的另一种显示面板测量设备的补正系统的示意图;

图4是本申请的一种显示面板测量设备的补正方法的流程示意图;

图5是本申请的另一种显示面板测量设备的补正方法的流程示意图;

图6是本申请的另一种显示面板测量设备的补正方法的流程示意图;

图7是本申请的一种显示面板测量设备的补正方法的工作流程示意图。

其中,100、显示面板测量设备的补正系统;110、基准模块;120、存储模块;130、对比模块;140、计算模块;150、判断模块;160、补正模块。

具体实施方式

需要理解的是,这里所使用的术语、公开的具体结构和功能细节,仅仅是为了描述具体实施例,是代表性的,但是本申请可以通过许多替换形式来具体实现,不应被解释成仅受限于这里所阐述的实施例。

在本申请的描述中,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示相对重要性,或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,除非另有说明,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征;“多个”的含义是两个或两个以上。术语“包括”及其任何变形,意为不排他的包含,可能存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。

另外,“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系的术语,是基于附图所示的方位或相对位置关系描述的,仅是为了便于描述本申请的简化描述,而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。

此外,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,或是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

下面参考附图和可选的实施例对本申请作进一步说明。

彩膜显微分光光度计tft-lcd产业中彩膜(cf)制程中的测量设备,它是对bm的光学密度(od)、rgb的关键尺寸(cd&ol)、rgb的色度(chroma)、ito制程的表面电阻(rs)、穿透率(tr)、膜厚(thickness)等特性值进行监控的设备,由于面板厂中相同的设备有很多台,并且坐落在各个地方,之间相隔甚远,设备受到环境因素的影响,例如温度,湿度,或者自身元件使用久了存在精度偏差的问题,会导致相同设备输入相同条件的测试数据测量出来的结果不一样,从而需要调节相同设备的参数保证测量结果差异在设备既定规格以内。

如图1所示,图1为示例性技术测量装置工作流程的示意图,设备机差验证通过产线人员派送同一基板至基准设备、对比设备以及c设备进行测量,根据不同设备的测量结果进行比对,得到比对结果,如果差异在设备既定规格以内,则不补正,如果差异过大,再通过人工分别对各个设备进行参数补正,保证测量结果差异在设备既定规格以内。

如图2所示,图2为本申请的一个实施例的一种显示面板测量设备的补正系统100的示意图,公开了一种显示面板测量设备的补正系统100,该系统包括存储模块120、对比模块130、计算模块140以及补正模块160。

其中,存储模块120存储有测试基板的基准数据,基准数据包括测试数据和对应的第一加工数据;对比模块130读取存储模块120中的测试数据,对测试数据进行运算得到第二加工数据;计算模块140对第一加工数据和第二加工数据进行分析比对,通过比对差异计算出第一补正数据;补正模块160与对比模块130控制连接,根据第一补正数据对对比模块130的运行参数进行补正,使对比模块130对测试数据进行运算得到的第三加工数据更接近于第一加工数据。

如图3所示,图3为本申请的一个实施例的一种显示面板测量设备的补正系统100的示意图,公开了一种显示面板测量设备的补正系统100,该系统包括基准模块110、存储模块120、对比模块130、计算模块140、判断模块150以及补正模块160。

具体来说,将标准的基板派送到基准模块110,按照基板的制程要求对基板输入测试数据,通过基准模块110的内部运算以获得第一加工数据。

将输入给基准模块110的测试数据以及第一加工数据同时上传至存储模块120,存储模块120将两个数据得以保存记录。

对比模块130下载存储模块120中的测试数据,并再一次对测试数据进行运算以获得第二加工数据。

计算模块140对第二加工数据和第一加工数据进行分析比对,通过比对差异计算出第一补正数据。

然而,并不是所得到的第一补正数据都要填充至对比模块130参数系统内,允许存在一定的误差范围,计算模块140在获得第一补正数据之后,还会通过判断模块150,判断模块150判断计算出的第一补正数据与同类设备测量的差异是否在预设误差许可范围内,若在预设误差许可范围内,则不发送第一补正数据到对比模块130,若超出预设误差许可范围,则发送第一补正数据到对比模块130,由于设备补正参数需要停止设备的工作状态,这样可以提前设置预设误差许可范围,对得到的第一补正数据进行判断筛选,需要补正的即补正,不需要的则不补正,避免不必要的补正导致设备停机时间过长,影响生产效率。

补正模块160根据第一补正数据对对比模块130的运行参数进行补正,使对比模块130对测试数据进行运算的到的第三加工数据更接近于第一加工数据,并将第三加工数据替代第二加工数据,发送至计算模块140。

当模拟的第二加工数据与第一加工数据之间的差异不大时,获得的第一补正数据精确度较高,则对参数系统补正一次即可;当模拟的第二加工数据与第一加工数据之间的差异过大时,获得的第一补正数据精确度不高,将第一补正数据填充到参数系统内后,所得到的第三加工数据与第一加工数据之间的差异还是过大,那么需要再进行补正,就需要再一次通过计算模块140和判断模块150进行循环,计算模块140再对第三加工数据和第一加工数据进行比对后计算出的第二补正数据,由判断模块150进一步判断计算出的第二补正数据与对比模块130规格之间的差异是否在预设误差许可范围内,若在预设误差许可范围内,则不发送第二补正数据到对比模块130,若超出预设误差许可范围,则发送第二补正数据到对比模块130;根据第二补正数据对对比模块130的运行参数进行补正,反复循环。

其中,计算模块140、判断模块150和补正模块160均位于对比模块130内部,判断和计算模块140共同组成机差分析系统,机差分析系统可根据自身对比模块130系统环境对同类设备测试数据进行系统分析,得到新的模拟第二加工数据,并可以自动计算出与第一加工数据的差异以获得第一补正数据,补正模块160为软体系统,软体系统接自动将第一补正数据填充至对比模块130参数系统内进行结果补正,使得同类对比模块130测量差异在技术规格以内。

如图4所示,图4为申请的一个实施例的一种显示面板测量设备的补正方法的流程图,公开了一种显示面板测量设备的补正方法,该方法包括步骤:

s41:获取测试基板的基准数据,基准数据包括测试数据和对应的第一加工数据;

s42:将基准数据中的测试数据输入对比设备,运算得到第二加工数据;

s43:将第二加工数据与基准数据中的第一加工数据进行比对,计算出第一补正数据;

s44:根据第一补正数据对对比设备的运行参数进行补正,使对比设备对测试数据进行运算得到的第三加工数据更接近于第一加工数据;

具体来说,在步骤s41中,基板为显示面板,为了测量显示面板的特性值,需要获得标准的显示面板的基准数据,基准数据包括按照显示面板制程要求对显示面板输入的测试数据以及对应的第一加工数据;这里的加工数据可以是bm的光学密度(od)、rgb的关键尺寸(cd&ol)、rgb的色度(chroma)、ito制程的表面电阻(rs)、穿透率(tr)、膜厚(thickness)等。

在步骤s42中,输入相同的测试数据,经过对比设备内部进行运算,以获得与测试数据对应的第二加工数据。

在步骤s43中,以第一加工数据为标准数据,对第二加工数据和第一加工数据进行分析比对,通过比对差异计算出第一补正数据,第一补正数据可根据不同的加工数据而不同。

在步骤s44中,将获得的第一补正数据填充至对比设备的运行参数系统内进行补正,对比设备再次对测试数据进行运算分析得到新的模拟第三加工数据,使得到的第三加工数据更接近于第一加工数据。

比如对基板的光学密度进行测量,计算公式为其中,od为光学密度,l为入射光,lo为透射光,t为透射比,那么入射光l和透射光lo为测试数据,od为加工数据,但是区别于不同设备所使用的入射光和透射光的实际值会存在微小差异,若直接采用同一测试数据项目到不同设备上,因参数差异会出现测量结果差异;那么再对ito膜厚进行测量,由光程差δ=2ndcos(θt)±λ/2计算,当入射光是垂直且不考虑半波损失的状况下推算得到的d=λ/2n,因此波长λ和折射率2n是测试数据,实际测量器所使用的波长根据如下公式得到r(λ)为加工数据,因此针对于不同设备的测量参数差异导致测量结果差异,自动机差补正,在此状况下可补正因相关因素导致的结果差异。

当然,也可以通过补正测试数据的方法来补正设备之间的结果差异,如图5所示,图5为申请的一个实施例的一种显示面板测量设备的补正方法的流程图,公开了一种显示面板测量设备的补正方法,该方法包括步骤:

s51:获取测试基板的基准数据,基准数据包括第一测试数据和对应的第一加工数据;

s52:将基准数据中的第一加工数据输入对比设备仿真运算,得到对应的第二测试数据;

s53:将第二测试数据与基准数据中的第一测试数据进行比对,计算出对比设备的第一补正数据;

s54:根据第一补正数据对对比设备的运行参数进行补正,使对比设备将第一加工数据输入对比设备仿真运算,得到对应的第三测试数据更接近于第一测试数据。

因为补正的设备需要达到输出的加工数据差异不大,那么通过仿真模拟系统直接将差异的加工数据调制一样,对应的测试数据就会不同,再通过调节设备的系统参数使输入的测试数据之间的差异减小,也能达到使输出的加工数据达到要求。

相对于通过人工将基板先派送到基准设备中,给基板输入一测试数据,再分别派送至各个设备中,给基板输入一相同的测试数据,读取各个不同设备测量出来的加工数据,对加工数据进行分析获得的补正数据,分别再对各个设备进行参数系统补正的方法来说,本申请只需将基板先派送到基准设备中,给基板输入一测试数据进行测量,获得的第一加工数据与测试数据均传输至对比设备,对比设备接收到测试数据再进行运算获得第二加工数据,会自动通过第二加工数据和第一加工数据进行比对后的比对差异计算出第一补正数据,并且自动对对比设备的参数系统进行补正,使得同类设备测量差异在设备技术规格以内,可有效缩减作业时间和人为作业压力,缩短机差确认时间以及提高产线利用率。

如图6所示,图6为申请的另一个实施例的一种显示面板测量设备的补正方法流程图,公开了一种显示面板测量设备的补正方法,该方法包括步骤:

s61:通过基准设备,对测试基板进行测试,获取测试基板的基准数据,基准数据包括测试数据和对应的第一加工数据;

s62:通过基准设备将基板的基准数据上传至公共服务器;

s63:通过对比设备从公共服务器中读取基准数据;

s64:通过对比设备中的控制器对第一加工数据和第二加工数据进行比对,利用比对差异计算出第一补正数据;

s65:由对比设备中的控制器进一步判断计算出的第一补正数据与设备规格之间的差异是否在预设误差许可范围内,若在预设误差许可范围内,则不发送第一补正数据到对比设备,若超出预设误差许可范围,则发送第一补正数据到对比设备;

s66:根据第一补正数据对对比设备的运行参数进行补正,使对比设备对测试数据进行运算得到的第三加工数据更接近于第一加工数据。

如图7所示,图7为显示面板测量设备的补正方法的工作流程示意图,结合图6和图7具体来说,在步骤s61中,基板为显示面板,为了测量显示面板的特性值,需要将标准的显示面板直接派送到基准设备,基准设备为基准设备,按照显示面板制程要求对显示面板输入一组测试数据,经过基准设备内部进行运算,以获得与测试数据对应的加工数据,例如bm的光学密度(od)、rgb的关键尺寸(cd&ol)、rgb的色度(chroma)、ito制程的表面电阻(rs)、穿透率(tr)、膜厚(thickness)等。

在步骤s62和s63中,将输入给基准设备的测试数据以及获得的第一加工数据同时上传至公共服务器,公共服务器将两个数据得以保存记录,对比设备可以读取公共服务器中的数据,可根据自身设备系统环境对同类设备测试数据进行系统分析,得到新的模拟第二加工数据,实际生产中设备很多且坐落在各个地方,他们之间并没有直接联系,设置一个公共服务器将可以将它们之间建立连接,并且数据之间可以共享,公共服务器中的数据供各个设备下载,不需要将显示面板再次派送到各个设备,减少人力和作业时间。

当然,也可以通过基准设备直接将测试数据和第一加工数据传输给对比设备,在各台设备之间通过数据线连通起来。

步骤s64中,对比设备中设有控制器,控制器内的机差分析系统可以自动计算出与第一加工数据的差异以获得第一补正数据,设备本身具有运算功能和数据分析功能,将数据分析也在设备本地运行,方便简洁,运算速度快,并且得到的第一补正数据即可直接对需要补正的设备进行补正。

不仅如此,进行比对分析还可以通过对比设备将第二加工数据上传到公共服务器,再利用公共服务器对第一加工数据和第二加工数据进行比对。

步骤s65中,根据实际设备环境的不同,并不是所得到的第一补正数据都要填充至对比设备参数系统内,允许存在一定的误差范围,对比设备控制器中的机差分析系统在获得第一补正数据之后,还会判断计算出的第一补正数据与同类设备测量的差异是否在预设误差许可范围内,若在预设误差许可范围内,则不发送第一补正数据到对比设备,若超出预设误差许可范围,则发送第一补正数据到对比设备,这样可以提前设置预设误差许可范围,对得到的第一补正数据进行判断筛选,需要补正的即补正,不需要的则不补正,避免不必要的补正导致设备停机时间过长,影响生产效率。

步骤s66中,对比设备中控制器还包括软体系统,软体系统自动将第一补正数据填充至对比设备参数系统内进行结果补正,使得同类设备测量差异在技术规格以内,此外,根据第一补正数据对对比设备的运行参数进行补正,使对比设备对测试数据进行运算得到的第三加工数据更接近于第一加工数据之后还需要继续重复步骤s64、s65和s66。

当模拟的第二加工数据与第一加工数据之间的差异不大时,获得的第一补正数据精确度较高,则对参数系统补正一次即可;当模拟的第二加工数据与第一加工数据之间的差异过大时,获得的第一补正数据精确度不高,将第一补正数据填充到参数系统内后,所得到的第三加工数据与第一加工数据之间的差异还是过大,那么需要再进行补正,那么就需要再一次进行循环,机差分析系统再对第三加工数据和第一加工数据进行比对后计算出的第二补正数据,由机差分析系统进一步判断计算出的第二补正数据与对比设备规格之间的差异是否在预设误差许可范围内,若在预设误差许可范围内,则不发送第二补正数据到对比设备,若超出预设误差许可范围,则发送第二补正数据到对比设备;根据第二补正数据对对比设备的运行参数再次进行补正,使对比设备对测试数据进行运算得到的第四加工数据更接近于第一加工数据,这样自动反复循环,直到补正之后的加工数据与第一加工数据之间的差异达到预设误差许可范围内,就停止补正,提高补正效率与精确度,减少人力。

需要说明的是,本方案中涉及到的各步骤的限定,在不影响具体方案实施的前提下,并不认定为对步骤先后顺序做出限定,写在前面的步骤可以是在先执行的,也可以是在后执行的,甚至也可以是同时执行的,只要能实施本方案,都应当视为属于本发明的保护范围。

以上内容是结合具体的可选的实施方式对本申请所作的进一步详细说明,不能认定本申请的具体实施只局限于这些说明。对于本申请所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本申请的保护范围。

当前第1页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1