1.一种触控屏，其特征在于，包括
背光模组；
第一组件，设于所述背光模组一侧的表面；
第二组件，设于所述第一组件远离所述背光模组一侧的表面；
其中，所述第一组件包括
第一偏光片，设于所述背光模组一侧的表面；以及
彩膜基板，设于所述第一偏光片远离所述背光模组一侧的表面；
所述第二组件包括
阵列基板，设于所述彩膜基板远离所述背光模组一侧的表面；以及
第二偏光片，设于所述阵列基板远离所述背光模组一侧的表面。
2.如权利要求1所述的触控屏，其特征在于，所述背光模组包括
反射片；
导光板，设于所述反射片一侧的表面
第一棱镜片，设于所述导光板远离所述反射片一侧的表面；
扩散片，设于所述第一棱镜片远离所述反射片一侧的表面；以及
第二棱镜片，设于所述扩散片远离所述反射片一侧的表面；
其中，所述第二棱镜片贴合至所述第一偏光片。
3.如权利要求1所述的触控屏，其特征在于，
所述彩膜基板的长度小于所述阵列基板的长度；
所述彩膜基板的宽度小于所述阵列基板的宽度。
4.如权利要求1所述的触控屏，其特征在于，还包括
底板，所述反射片被安装至所述底板一侧的表面；
导电层，其一端贴附于所述阵列基板一侧表面，其另一端连接至所述底板另一侧表面；以及
ic驱动电路单元，所述ic驱动电路单元被安装至所述底板另一侧的表面，且电连接至所述导电层。
5.如权利要求4所述的触控屏，其特征在于，
所述导电层的材质为氧化钼。
6.如权利要求1所述的触控屏，其特征在于，
所述第一偏光片为多层膜反射式偏光片；
所述第二偏光片为硬化涂层偏光片。
7.如权利要求1所述的触控屏，其特征在于，
所述阵列基板的厚度为0.35mm～0.45mm；
所述彩膜基板的厚度为0.095mm～0.11mm；
所述第二偏光片的厚度为0.20mm～0.22mm。
8.如权利要求1所述的触控屏，其特征在于，
所述第二组件的纵向截面为四边形，包括长边和短边，
所述第二组件的纵向截面包括圆弧部，设于一长边和一短边的连接处。
9.一种触控屏的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
背光模组制备步骤，制备一背光模组；
第一组件制备步骤，在所述背光模组上表面制备一第一组件；以及
第二组件制备步骤，在所述第一组件上表面制备一第二组件；
其中，所述第一组件制备步骤，包括如下步骤：
第一偏光片制备步骤，在所述背光模组上表面制备第一偏光片；以及
彩膜基板制备步骤，在所述第一偏光片上表面制备一彩膜基板；
其中，所述第二组件制备步骤，包括如下步骤：
阵列基板制备步骤，在所述彩膜基板上表面制备一阵列基板；以及
第二偏光片制备步骤，在所述阵列基板上表面制备一第二偏光片。
10.如权利要求9所述触控屏的制备方法，其特征在于，
在所述第二组件制备步骤中，对所述第二组件进行抛光研磨处理，使得所述第二组件的纵向截面的角落处设有圆弧部。