1.一种用于成像和光刻系统的共路光束调制装置，其特征在于，包括依次排布的：第一光学薄膜、玻璃基板、第二光学薄膜、透明电极、液晶层、反射层、像素电极、控制芯片；
由淬灭光束或去交联光束构成第一光束，由激发光束或交联光束构成第二光束，第一光束和第二光束合束后入射至第一光学薄膜，经第一光学薄膜透射，进入玻璃基板，再透过玻璃基板到达第二光学薄膜，第一光束经第二光学薄膜透射，再透过透明电极进入液晶层，再经反射层反射，第二次进入液晶层，经过液晶层的相位调制后，再依次透过透明电极、第二光学薄膜、玻璃基板和第一光学薄膜出射；第二光束经第二光学薄膜反射，从而被阻止进入液晶层，即避免被相位调制，然后第二次进入玻璃基板，经第一光学薄膜出射；
所述第一光学对第一光束和第二光束均为增透膜；所述第二光学薄膜对第一光束为增透膜，对第二光束为增反膜；
所述透明电极与像素电极用于在液晶层中产生变化的电场，从而控制液晶分子的排列取向，对第一光束产生调制；
所述控制芯片用于对像素电极上的电压进行控制，从而控制液晶层的电场变化。
2.根据权利要求1所述的一种用于成像和光刻系统的共路光束调制装置，其特征在于，所述第一光学薄膜采用宽带增透膜；所述第二光学薄膜采用窄带选择透过膜；所述反射层采用多层介质高反射膜。
3.根据权利要求1所述的一种用于成像和光刻系统的共路光束调制装置，其特征在于，所述控制芯片采用cmos硅基芯片。
4.一种超衍射极限成像系统，其特征在于，包括权利要求1所述的共路光束调制装置、第一激光光源、第一二色镜、第二激光光源、第一反射镜、第二反射镜、第一透镜、第二透镜、第二二色镜、第一振镜、第二振镜、扫描透镜、场镜、显微物镜、样品、载物台、第三透镜和光接受模块；
第一激光光源发出的准直左旋圆偏振光为第一光束经第一二色镜透射，第二激光光源发出的准直线偏振光为第二光束经第一反射镜反射后再经第一二色镜反射，然后第一光束与第二光束经第一二色镜合束，再经第二反射镜反射共路光束调制装置，经相位调制后，合束光束依次经第一透镜、第二透镜，经第二二色镜透射到达第一振镜，经第一振镜反射至第二振镜，再反射经扫描透镜、场镜，再经显微物镜聚焦至样品；样品发出的荧光经显微物镜收集，依次经过场镜、扫描透镜、第二振镜、第一振镜，再经第二二色镜反射，经第三透镜聚焦，最后到达光接受模块。
5.根据权利要求4所述的超衍射极限成像系统，其特征在于，共路光束调制装置与扫描透镜的前焦面通过第一透镜和第二透镜保持光学共轭关系；共路光束调制装置位于第一透镜的前焦面上，扫描透镜的前焦面等效位于第二透镜的后焦面上；共路光束调制装置、第一透镜、第二透镜和扫描透镜的前焦面构成一个4f系统。
6.根据权利要求4所述的超衍射极限成像系统，其特征在于，所述第一二色镜对第一光束透射，对第二光束反射；所述第二二色镜对从样品发出的荧光反射，对第一光束和第二光束透射。
7.根据权利要求4所述的超衍射极限成像系统，其特征在于，所述样品为荧光标记的生物材料；所述第一振镜、第二振镜、扫描透镜用于对样品进行扫描成像；所述共路光束调制装置用于对合束光束中的第一光束准直左旋圆偏振光进行调制；所述场镜和显微物镜用于对合束光束聚焦，同时收集样品发出的荧光信号。
8.一种光刻系统，其特征在于，包括权利要求1所述的共路光束调制装置、第一激光光源、第一二色镜、第二激光光源、第一反射镜、第二反射镜、第一透镜、第二透镜、第一振镜、第二振镜、扫描透镜、场镜、显微物镜、样品、载物台；
第一激光光源发出的准直左旋圆偏振光为第一光束经第一二色镜透射，第二激光光源发出的准直线偏振光为第二光束经第一反射镜反射后再经第一二色镜反射，然后第一光束与第二光束经第一二色镜合束，再经第二反射镜反射至共路光束调制装置，经相位调制后，合束光束依次经第一透镜、第二透镜，经第一振镜反射至第二振镜，再反射经扫描透镜、场镜，再经显微物镜聚焦至样品。
9.根据权利要求8所述的光刻系统，其特征在于，共路光束调制装置与扫描透镜的前焦面通过第一透镜和第二透镜保持光学共轭关系；共路光束调制装置位于第一透镜的前焦面上，扫描透镜的前焦面等效位于第二透镜的后焦面上；共路光束调制装置、第一透镜、第二透镜和扫描透镜的前焦面构成一个4f系统。
10.根据权利要求8所述的光刻系统，其特征在于，所述第一二色镜11对第一光束透射，对第二光束反射；所述样品为光刻胶；所述第一振镜、第二振镜、扫描透镜用于对样品进行扫描光刻；所述共路光束调制装置用于对合束光束中的第一光束准直左旋圆偏振光进行相位调制；所述场镜和显微物镜用于对合束光束聚焦。