防尘薄膜组件的剥离方法及防尘薄膜组件的剥离装置与流程

本发明关于作为制造lsi(largescaleintegration，大型集成电路)、超lsi等半导体装置或液晶显示板时的光刻用遮罩的防尘器而使用的防尘薄膜组件的剥离方法及防尘薄膜组件的剥离装置。

背景技术：

在制造lsi、超lsi等半导体装置或液晶显示板等时，将曝光原板重叠于半导体晶圆或液晶基板的光致抗蚀剂涂布面，并照射平行光而将潜影图案形成于光致抗蚀剂。此时，若尘埃附着于曝光原板，则此尘埃会吸收光线或会使光线弯曲，因此，除了会造成转印后的图案变形、边缘粗糙外，还会使基底脏污，而产生损害到尺寸、品质、外观的问题。又，本发明中，所谓“曝光原板”，是指光刻用遮罩及倍缩遮罩的总称。

因此，虽然光刻作业通常在无尘室进行，但尽管如此也难以总是保持洁净，故采取贴附防尘薄膜组件的方法；该防尘薄膜组件具有在曝光原板的图案面作为防尘器使用的能使曝光用的光线良好地通过的防尘薄膜。

防尘薄膜组件是一种曝光原板用防尘保护盖体，其具有：防尘薄膜框架(框体)；防尘薄膜，张设于防尘薄膜框架的上端面；粘着层，设置于防尘薄膜框架的下端面；以及衬垫，以保护粘着层为目的；该防尘薄膜组件以其粘着层粘附于曝光原板的图案面。

当将防尘薄膜组件贴附于曝光原板的图案面时，防尘薄膜组件位于包围图案区域的位置，并以防尘薄膜组件外部的尘埃不会附着的方式，将图案区域与防尘薄膜组件外部在厚度方向上分离；尘埃以不会直接附着于曝光原板表面上的方式，附着于防尘薄膜上。只要在光刻时将焦点对准至曝光原板的图案上，防尘薄膜上的尘埃并不会对转印产生影响。

在将防尘薄膜组件粘附至曝光原板时，通常通过专用的装置或是冶具进行。不论使用何种装置进行，基本上动作共通，是在调整完防尘薄膜组件与曝光原板相互的位置关系后，再将防尘薄膜框架与曝光原板平行地加压一定时间，由此，粘附防尘薄膜组件。

此外，近年，lsi的设计规范朝向线宽在分季微米(0.25微米以下)的微细化演进，伴随于此，曝光光源亦朝向短波长化演进。具体而言，是从迄今为止作为主流的水银灯具的发光频谱亦即g线(436nm)、i线(365nm)，逐渐转变为krf准分子激光(248nm)、arf准分子激光(193nm)、f2激光(157nm)等。线宽朝向微细化演进的结果，有可能在粘附有防尘薄膜组件的曝光原板的图案面产生的异物或雾霭(haze)所容许的大小也日趋严格。

又，近年所使用的遮罩基板的膜，为了顺应设计规范的微细化，在相移遮罩(phase-shiftingmask：psm)中一般普遍开始采用相移膜。相移膜非常脆弱，在过度的遮罩清洗下，有受到损坏的可能。又，相移遮罩是一种曝光原板，其附加相移膜而控制通过此部分的光的相位或透射系数，由此改善对于晶圆的曝光时的解析度或焦点深度(dof：depthoffocus)，而使转印特性提高。

粘附至曝光原板后的防尘薄膜组件，在因某种原因而有异物或雾霭产生时，或在防尘薄膜受到损坏时，若需要重新贴附，不得不先将其剥离。又，需进行称为“更新防尘薄膜组件”的作业，亦即，将剥离防尘薄膜组件后的曝光原板再清洗，并将新的防尘薄膜组件重新贴附。

防尘薄膜组件的剥离，迄今为止，是以一边用手按压，一边非常注意地将防尘薄膜组件剥离的方法为主流。然而，此方式存在不仅光罩损坏的危险性大，且作业效率非常不佳的问题。

又，专利文献1提案一种使用剥离用治具而将防尘薄膜组件剥离的方法，其将销状的剥离用治具插入设置于防尘薄膜框架外侧面的圆孔，由此将防尘薄膜框架上抬而剥离。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2009－301022号公报

技术实现要素：

(发明所要解决的问题)

在更新防尘薄膜组件时最重要在于，需将曝光原板再清洗成高洁净度的状态。如前所述，该相移膜非常脆弱，在过度的遮罩清洗下，有受到损坏的可能性。又，我们倾向于再检查遮罩清洗所使用的药液，或是将清洗条件减弱。为了以柔和的清洗条件实施曝光原板的再清洗，重点为在将防尘薄膜组件剥离时，如何将残留于曝光原板上的残渣减少。

在使用上述剥离用治具而将防尘薄膜组件剥离的已知方法中，由于是在曝光原板与粘着层之间施加粘着力以上的力，而硬将包含粘着层的防尘薄膜组件从曝光原板表面拉扯剥离，因此，存在着“残留在曝光原板上的粘着层的残渣变多，而于之后的清洗变得非常不易”的问题。又，从曝光原板上将防尘薄膜组件剥离时，粘着层可能会偏移而沾粘到曝光原板的图案上，使得图案损坏或受到污染。进而，当防尘薄膜组件的边长较长，属于大型防尘薄膜组件时，无法一口气将其全部剥离，而必须一部分一部分的剥离，且必须考虑到如何防止先被剥离的部分再度粘接，故作业效率很差。

因此，本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种防尘薄膜组件的剥离方法及防尘薄膜组件的剥离装置，依本发明的剥离方法及剥离装置，可在将防尘薄膜组件从曝光原板剥离时，减少残留于曝光原板上的残渣，并可在柔和的清洗条件下实施曝光原板的再清洗。

(解决问题的技术手段)

本发明的防尘薄膜组件的剥离方法，将以粘着层粘着于曝光原板的防尘薄膜组件从该曝光原板剥离；该防尘薄膜组件具有：防尘薄膜，通过防尘薄膜用接着剂张设于防尘薄膜框架的一侧的端面；以及该粘着层，设置于该防尘薄膜框架的另一侧的端面；该防尘薄膜组件的剥离方法的特征在于，将防尘薄膜框架支持销插入设置于该防尘薄膜框架的外侧面的治具孔，并使该防尘薄膜框架支持销朝向该粘着层从该曝光原板剥离的方向移动，此时，测量作用在该防尘薄膜框架支持销的剥离力，并在进行控制以使该剥离力降至最小的状况下，将该防尘薄膜组件从该曝光原板剥离。该剥离力的控制在调节防尘薄膜框架支持销的移动速度或移动方向的状况下进行。

该防尘薄膜组件的剥离方法可采取以下方式：对于插入至该防尘薄膜框架的外侧面的相同边的治具孔的该防尘薄膜框架支持销，一并实施作用在插入至该外侧面的该治具孔的该防尘薄膜框架支持销的该剥离力的测量及控制。

又，该防尘薄膜组件的剥离方法可采取以下方式：对于插入至该防尘薄膜框架的外侧面的该治具孔的各该防尘薄膜框架支持销，独立实施作用在该防尘薄膜框架支持销的该剥离力的测量及控制。

依照该防尘薄膜组件的剥离方法，在实施该剥离力的控制时，可对于该防尘薄膜框架支持销，在亦进行与该防尘薄膜组件的剥离方向不同的动作的状况下，剥离该防尘薄膜组件。

另一方面，本发明的防尘薄膜组件的剥离装置，将以粘着层粘着于曝光原板的防尘薄膜组件从该曝光原板剥离；该防尘薄膜组件具有：防尘薄膜，通过防尘薄膜用接着剂张设于防尘薄膜框架的一侧的端面；以及该粘着层，设置于该防尘薄膜框架的另一侧的端面；该防尘薄膜组件的剥离装置，具备：多个防尘薄膜框架支持销，插入设置于该防尘薄膜框架的外侧面的治具孔，用来支撑该防尘薄膜框架；多个负载检测元件，对应于各自的该防尘薄膜框架支持销而设置，用来测量作用在对应的该防尘薄膜框架支持销的力；以及多个单轴机械臂，对应于各自的该防尘薄膜框架支持销而设置，使对应的该防尘薄膜框架支持销独立在上下方向移动。又，该剥离装置可设置计算机，该计算机用于输入该负载检测元件所输出的测量値，而控制该单轴机械臂内的伺服器马达。

(发明的效果)

依本发明可提供一种防尘薄膜组件的剥离方法及防尘薄膜组件的剥离装置，其可减少从曝光原板将防尘薄膜组件剥离时残留在曝光原板上的残渣，并可在柔和的清洗条件下实施曝光原板的再清洗。

附图说明

图1是表示在曝光原板粘附有光刻用的防尘薄膜组件的状态下的纵剖面图。

图2是防尘薄膜组件的立体图。

图3是依本发明的一实施例的防尘薄膜组件的剥离装置的概略立体图。

图4是依本发明的一实施例的防尘薄膜组件的剥离装置的单轴机械臂的概略图。

其中，附图中符号的简单说明如下：

1：曝光原板；10：防尘薄膜组件；11：防尘薄膜框架；12：防尘薄膜；13：防尘薄膜用接着剂；14：粘着层；20：防尘薄膜组件的剥离装置；21：防尘薄膜框架支持销；22：销部支撑轴；23：负载检测元件；24：单轴机械臂；25：伺服器马达；26：小齿轮；27：齿条；30：治具孔。

具体实施方式

以下，参照图式，说明本发明的实施例。首先，概略说明防尘薄膜组件，其后针对依本发明的防尘薄膜组件的剥离装置及防尘薄膜组件的剥离方法加以说明。

首先，参照图1说明本发明所使用的防尘薄膜组件的基本构成。图1是表示在曝光原板1粘附有光刻用的防尘薄膜组件10的状态下的纵剖面图。

图1中，曝光原板1是半导体晶圆或是液晶基板等遮罩基板或是倍缩遮罩。防尘薄膜组件10与涂布有曝光原板1的感光剂光致抗蚀剂的图案面重叠；在通过平行光的照射而于图案面形成潜影图案时，防尘薄膜12防止尘埃附着至图案面。

防尘薄膜组件10具有：防尘薄膜框架(框体)11；防尘薄膜12，通过防尘薄膜用接着剂13，将框架开口封闭，而张设于在防尘薄膜框架11的一侧的端面(图1中的顶面部)；粘着层14，设置于防尘薄膜框架11的另一侧的端面(图1中的底面部)，而用来可剥离地装设于曝光原板1的图案面；以及衬垫(未图示)，可剥离地贴附于粘着层14的下端面。

图2为防尘薄膜组件10的立体图。

防尘薄膜框架11，为了减轻应变等对于其粘附的曝光原板1所造成的影响，基于抑制黏附防尘薄膜组件所产生的残留应力的目的，较好采用黏附防尘薄膜组件时变形较少且受到平坦加工的防尘薄膜框架11。由于防尘薄膜框架11是以一侧的面(图1中的上端面)与另一侧的面(图1中的下端面)呈平行的方式而形成为所需的大小及所需的框形状，故顺应需要，会将一侧的面与另一侧的面精密平坦加工，并设成具有超精密的平行度。如图2所示，防尘薄膜框架11在两侧长边部的各自的外侧面，各具有两个治具孔30。在防尘薄膜框架11设置气压调整用穴(流通口)15，并基于除去粒子的目的，设置有除尘用过滤器16。

防尘薄膜框架11的大小是与通常的防尘薄膜组件，例如，半导体光刻用的防尘薄膜组件、大型液晶显示板制造光刻步骤用防尘薄膜组件等同样的大小。

防尘薄膜框架11可使用周知的材质。防尘薄膜框架11从铝合金材、不锈钢、聚乙烯等选择，而成形为所需的形状、大小。使用铝合金材的情况下，只要能确保作为防尘薄膜框架11的强度，并无特别的限制。较佳为使用施予黑色氧化铝膜处理等后的jis(japaneseindustrialstandards，日本工业规格)a7075、jisa6061、jisa5052材等铝合金。对于铝合金材，较佳为通过不锈钢、金钢砂、玻璃珠粒等将表面进行爆炸处理，进而通过naoh等进行化学抛光而将表面粗化的方法。在母材设置聚合物被膜的情况下，防尘薄膜框架11的表面在设置聚合物被膜前，较佳为通过喷砂法或化学抛光进行粗化。本实施例中，此框架表面的粗化方法可采用以往周知的方法。

防尘薄膜12通过防尘薄膜用接着剂13而张设于防尘薄膜框架11的顶面部。

防尘薄膜12选择对于光刻下的各曝光波长具耐光性的膜材料，并以可获得高透射系数的方式进行膜厚设计。防尘薄膜12将防尘薄膜的良好溶剂涂布、风干而获得接着力，并被张设于防尘薄膜框架11的顶面部，或是，预先另外形成膜，并通过丙烯酸树脂、环氧树脂或氟树脂等防尘薄膜用接着剂13而受到接着。

关于防尘薄膜12的种类并无特别限制，可从能使用于曝光的光线(g线(436nm)、i线(365nm)、krf准分子激光(248nm)、arf准分子激光(193nm)、f2激光(157nm)等)良好地透射的硝化纤维素、醋酸纤维素、非晶质氟系聚合物等中选择。作为非晶质氟系聚合物的例子，举凡cytop(旭硝子公司制，商品名)、铁氟龙“聚四氟乙烯”(注册商标)af(陶氏杜邦公司制，商品名)等。这些聚合物，在制作此防尘薄膜时，亦可顺应需要而溶解于溶剂中使用，例如能以氟系溶剂等适当溶解。

粘着层14设置于防尘薄膜框架11的底面部，并由聚丁烯树脂、聚醋酸乙烯树脂、丙烯酸树脂、硅氧树脂等构成。粘着层14具有使防尘薄膜组件10粘着于曝光原板1的用途。

衬垫(未图示)将防尘薄膜组件10固定至曝光原板1为止，是以保护粘着层为目的，而以将粘着层14作为保护层的方式设置。

上述构成的防尘薄膜组件10具有以下功能。亦即，若将具有“为了防止尘埃附着到曝光原板1的图案面而设置的防尘薄膜”的防尘薄膜组件贴附于曝光原板1的表面，则防尘薄膜12会位在包围“形成于曝光原板1的表面的图案区域”的位置，并以防尘薄膜组件外部的尘埃不会附着的方式，将图案区域与防尘薄膜组件外部在厚度方向上分离。若将防尘薄膜组件1贴附到曝光原板1的表面，则尘埃不会直接附着于曝光原板1的表面上，而会附着于防尘薄膜12上。只要在光刻时将焦点对准至曝光原板1的图案上，则防尘薄膜12上的尘埃并不会对转印产生影响。

图3是依本发明的一实施例的防尘薄膜组件的剥离装置20的概略立体图。防尘薄膜组件的剥离装置20是实施本发明的防尘薄膜组件的剥离方法时所用的装置。

防尘薄膜组件的剥离装置20，具备：四个防尘薄膜框架支持销21、四个销部支撑轴22、四个单轴机械臂24及四个负载检测元件23。

四个防尘薄膜框架支持销21，是在防尘薄膜框架11的长边的各外侧面隔着需要的间隔设置两个，两侧合计设置四个；为了从曝光原板1将防尘薄膜框架11上抬而剥离防尘薄膜组件10，使支持销21分别嵌入结合至“设置于防尘薄膜框架11两侧端面的四个治具孔30”，而设置支持销21。又，防尘薄膜框架支持销21中，圆柱形的插入端部分为圆锥形，治具孔30中，其开口部是与防尘薄膜框架支持销21的圆柱形一致的圆形孔，其深处成为与防尘薄膜框架支持销21的圆锥形一致的圆锥孔。从而，防尘薄膜框架支持销21能不会晃动地嵌合于治具孔30。

四个销部支撑轴22，以其下端部成一体地支撑对应的防尘薄膜框架支持销21的基端部，并以可在上下方向升降的方式设置。

图4为构成依本发明的一实施例的防尘薄膜组件的剥离装置20的一部分的单轴机械臂24的概略图。

如图4所示，四个单轴机械臂24例如分别在壳体内包含伺服器马达25(包含马达驱动装置)及升降轴28；该升降轴28具有通过伺服器马达25旋转的小齿轮26，以及与小齿轮26啮合并随着小齿轮26的旋转而于轴方向上移动的齿条27；升降轴28的下端部是与销部支撑轴22的上端连接的构成。又，亦可取代伺服器马达25、小齿轮26与齿条27的组合而使用直驱致动器，或可选择电致伸缩致动器。

四个负载检测元件23，例如，是以受到“从两端支撑单轴机械臂24的小齿轮26的支轴的两轴承中的一侧的轴承的下侧”夹压的方式设置。另一侧的轴承与负载检测元件23以弹簧29上抬。当作为动力源的伺服器马达25动作，而由防尘薄膜框架支持销21将防尘薄膜框架11上抬时，作用在防尘薄膜框架支持销21的力，会依序传达至销部支撑轴22、齿条27、小齿轮26及负载检测元件23，因此，在将防尘薄膜框架11上抬时，可测量到作用在防尘薄膜框架支持销21的力，亦即剥离力。

控制各自的伺服器马达25的计算机(未图示)，输入由负载检测元件23所输出的测量値，将其进行a/d变换，并产生顺应其变换值的大小的既定倍数的马达驱动用信号，再将此马达驱动用信号输出到对应的伺服器马达25的马达驱动装置。

由此，伺服器马达25，能以测量“作用在对应的防尘薄膜框架支持销21的力”的负载检测元件23的输出变为最小的方式，使防尘薄膜框架支持销21朝向“防尘薄膜组件10从曝光原板1剥离的方向”移动。

接着，就依本发明的一实施例的防尘薄膜组件的剥离方法加以说明。该剥离方法使用依前述的本发明的防尘薄膜组件的剥离装置加以进行。

该防尘薄膜组件的剥离方法，是将粘着层14粘着于曝光原板1的光刻用的防尘薄膜组件10，从曝光原板1剥离的方法；该防尘薄膜组件10具有：防尘薄膜框架11；防尘薄膜12，通过防尘薄膜用接着剂13张设至防尘薄膜框架11的一侧的端面(图1中的顶面部)；以及粘着层14，设置于防尘薄膜框架11的另一侧的端面(图1中的底面部)。

又，该防尘薄膜组件的剥离方法，将“用以剥离防尘薄膜组件10的一个防尘薄膜框架支持销21”，插入各自的“设置于防尘薄膜框架11的长边两侧的两外侧面的四个治具孔30”，以测量作用在防尘薄膜框架支持销21的剥离力，并且，在以使该剥离力变为最小的方式控制防尘薄膜框架支持销21的移动速度及移动方向的状况下，使防尘薄膜框架支持销21朝向防尘薄膜组件10的粘着层14从曝光原板1脱离的方向(防尘薄膜组件的剥离方向)移动，而将防尘薄膜组件10剥离。

该防尘薄膜组件的剥离方法，是在分别独立地测量、控制作用在插入至“设置于‘防尘薄膜框架11的长边两侧的两外侧面’的四个治具孔30”的四支防尘薄膜框架支持销21的剥离强度的状况下实施。

于防尘薄膜组件的剥离步骤中，在以如图3所示的四支防尘薄膜框架支持销21，同时将防尘薄膜组件10上抬的情况下，粘着层14从曝光原板1的脱离，是于粘着层14整面中进行，有时会产生曝光原板1的应变或粘着层的剥离残渣等的影响，因此，在分别独立地测量、控制剥离强度的状况下实施，有助于使这般影响减轻。

虽然图3中未图示，防尘薄膜组件的剥离装置20具备工作台。将贴附有防尘薄膜组件10的曝光原板1，以防尘薄膜组件10在上方的方式设定于此工作台上。当需要重新贴附新的防尘薄膜组件的更新防尘薄膜组件时，将防尘薄膜框架支持销21插入设置于防尘薄膜框架11两侧的侧面部的四个治具孔30，按压使防尘薄膜组件剥离装置的动作开始的启动按键(未图示)。四个单轴机械臂24与对应的负载检测元件23的测量值赋予关联，将防尘薄膜框架支持销分别向上方上拉，而将防尘薄膜组件10向上方上拉，以从防尘薄膜组件10的曝光原板1将防尘薄膜组件10的粘着层14剥离。

关于设定为“通过四个防尘薄膜框架支持销21支撑防尘薄膜框架11两侧的四个地方，将各自的防尘薄膜框架支持销21以四个单轴机械臂24独立，且同时使负载检测元件23所输出的测量值成为最小的方式，将防尘薄膜框架11上抬的构成”的理由，可说明如下。

如现有技术的记载所述的，将防尘薄膜组件粘附到曝光原板，以专用的装置或是冶具进行，在将防尘薄膜组件、曝光原板相互的位置关系调整后，将防尘薄膜框架11与曝光原板1平行地加压一定时间，由此粘附防尘薄膜组件10的粘着层14。此时，曝光原板1与防尘薄膜组件10的粘着层14的粘着力，不能说是均一。容易剥离处和不易剥离处不规律地混杂在一起。从而，若从曝光原板1将防尘薄膜组件10的粘着层14以进行在任何地方都是均一的脱离的方式而如此拉扯剥离，则在容易剥离处，负载检测元件23所输出的测量值会变小，而在不易剥离处，负载检测元件23所输出的测量值会变大。在负载检测元件23所输出的测量值会变大之处，因剥离力而产生的负载会大幅作用在粘着层14，因此，在曝光原板1上残留的残渣会变多。

又，关于四个防尘薄膜框架支持销21，在设定为“以单轴机械臂24独立，且同时使负载检测元件23所输出的测量值成为最小的方式，将防尘薄膜框架11上抬”的构成的情形下，在不易剥离处，为了不让因剥离力而产生的负载大幅作用于粘着层14，而增加施予剥离时间，为此，例如，使负载检测元件23的测量值成为既定的设定值(临界值)以下，而使防尘薄膜框架支持销21例如以0.1mm/秒的速度上升。其结果，能以“因剥离力产生的负载不会大幅作用于粘着层14”的方式进行剥离，并减少残留在曝光原板1上的残渣。

另一方面，在容易剥离处，负载检测元件23的测量值成为既定的设定值(临界值)以下，因此，与不易剥离处同样地，若使防尘薄膜框架支持销21例如以0.1mm/秒的速度上升，则能以“因剥离力产生的负载不会大幅作用于粘着层14”的方式进行剥离，并减少残留在曝光原板1上的残渣。

由此，能以剥离力不偏移的方式，控制四个单轴机械臂24的动作，在从曝光原板1剥离防尘薄膜组件10时，可减少残留在曝光原板1上的残渣，并能以柔和的清洗条件实施曝光原板的再清洗。

本发明的防尘薄膜组件剥离方法，为了使从遮罩剥离防尘薄膜组件时的剥离力降至最小，较佳为视情形指示与防尘薄膜组件的剥离方向不同的动作，而使粘着层14的剥离损坏降至最小。在此，所谓“视情形指示与防尘薄膜组件的剥离方向不同的动作”是指，例如在使防尘薄膜框架支持销例如以0.1mm/秒的速度上升的设定下，在负载检测元件的测量值超过临界值时，或停止防尘薄膜框架支持销的上升，或以微小尺寸的量使其下降，或使上升速度变小。

所谓独立地控制四个防尘薄膜框架支持销而将防尘薄膜组件剥离，是非常近似于通过熟知防尘薄膜组件步骤的作业员，以双手进行作业而从遮罩将防尘薄膜组件剥离的动作。实际上，作业员以双手进行作业而使用剥离冶具进行剥离操作的情形，一般而言，若防尘薄膜组件的一部分开始剥离，剥离动作便会以与至今为止的动作无法比拟的速度进行。当为熟知剥离步骤的作业员的情形，会将剥离开始的现象，通过剥离冶具作为感觉体会，并控制手的动作而将剥离动作缓和，以使防尘薄膜组件粘着剂的损坏降至最小。

[实施例]

以下，说明适用了本发明的防尘薄膜组件的剥离装置20及防尘薄膜组件的剥离方法的实施例。又，实施例及比较例中的“遮罩”、“倍缩遮罩”是作为图1所示的“曝光原板1”的例子而加以记载的。

(实施例1)

首先，针对实施例1中使用的防尘薄膜组件的制作加以叙述。将铝合金制的防尘薄膜框架(外形大小149mm×115mm×3.5mm×厚度2mm，遮罩粘附用粘着剂涂布端面的平坦度，15um)精密清洗后，在该粘着剂涂布端面涂布综研化学公司制的丙烯酸粘着剂(制品名；skdyne，sk－1425)，并在室温下静置60分钟而设置粘着剂，其后，在较防尘薄膜框架更大的铝板的顶面部(平坦度为5um)放置隔离部，并将涂布了上述粘着剂的防尘薄膜框架以粘着剂向下的方式放置。由此，粘着剂接触平坦的隔离部而受到平坦加工。接着，将铝板上的防尘薄膜框架置入60℃的烘箱中60分钟，而使上述粘着剂硬化后，将防尘薄膜组件连同铝板取出，并将形成有粘着剂的防尘薄膜框架从铝板侧的隔离部剥离。接着，在与防尘薄膜框架的粘着剂涂布面相反侧的端面涂布旭硝子公司制的接着剂(商品名；cytopctx－a)，其后，在130℃下进行防尘薄膜框架的加热，使接着剂硬化至呈现接着力的状态，最后，在叠至于比上述防尘薄膜框架大上一圈的铝框上而取得铝框形状的防尘薄膜上，粘贴上述防尘薄膜框架的接着剂涂布端面，再将较防尘薄膜框架更外侧的部分除去。依此方式，而完成防尘薄膜组件。

接着，将6025遮罩基板与上述完成的防尘薄膜组件设定于依本实施例的加压装置的平台上，并在粘附负重100n(花费60秒到达设定负重为止)、负重时间30秒下加压，而将防尘薄膜组件粘附至遮罩基板，并于室温下搁置七天。

七天后，将装设有防尘薄膜组件的遮罩基板设定于本实施例的剥离装置的平台上，并启动剥离装置的开关而进行剥离试验。当启动剥离装置的开关而开始剥离动作，各个防尘薄膜框架支持销21会对于负载检测元件23的剥离力进行反馈而独立地上下运作，使作用在防尘薄膜组件粘着剂的力缓和。在目视下观察剥离后的基板确认并无明显的剥离残渣。将防尘薄膜组件剥离时的最大剥离强度为8.5n。

(实施例2)

将“与实施例1依相同程序完成的防尘薄膜组件”粘附于“与实施例1同样的6025遮罩基板”并在室温下搁置七天。七天后将粘附有上述防尘薄膜组件的遮罩基板设定于该剥离装置。此时，在将插入相同边的治具孔的防尘薄膜框架支持销21以每单侧两支为单位一并进行剥离装置的控制的状况下，进行剥离试验。观察到剥离装置的控制后，虽然相较于实施例1的将四个防尘薄膜框架支持销21独立控制的情形，仅剥离强度较高，但在目视下确认剥离后的基板，并无确认到明显的剥离残渣。将防尘薄膜组件剥离时的最大剥离强度为10.2n。

(实施例3)

将“与实施例1依相同程序完成的防尘薄膜组件”粘附于“与实施例1同样的6025遮罩基板”并在室温下搁置七天。七天后粘附有上述防尘薄膜组件的遮罩基板设定于该剥离装置。此时，在将插入治具孔的防尘薄膜框架支持销一并进行剥离装置的控制的状况下，进行剥离。虽然相较于实施例1的将四个防尘薄膜框架支持销21独立控制而剥离时，或相较于实施例2分别控制相对的边而剥离的情形，剥离强度较高，但在目视下确认剥离后的基板，并无确认到明显的剥离残渣。将防尘薄膜组件剥离时的最大剥离强度为12.3n。

(比较例1)

与实施例1～3依相同程序完成防尘薄膜组件，粘附至遮罩基板，进行七天的静置，七天后，将粘附有防尘薄膜组件的遮罩基板设定于该剥离装置，将使负载检测元件的测量值降至最小的计算机控制关闭(off)，通过四个单轴机械臂24使四个防尘薄膜框架支持销21同时以既定速度上升，而进行完剥离试验。虽然剥离速度是与实施例1～3的剥离开始速度相同而实施，但防尘薄膜组件剥离时的最大剥离强度相较于实施例1～3是非常高的42.7n，并于剥离时产生了数次剥离音。在目视下确认剥离后的基板，在最初开始剥离的附近，确认到剥离残渣。

(比较例2)

与实施例1～3及比较例1依相同程序完成防尘薄膜组件，并粘附之，而进行七天静置，七天后，将粘附有防尘薄膜组件的遮罩基板设定至剥离装置，关闭(off)使负载检测元件的测量値降至最小的计算机控制，并以既定速度同时使四个单轴机械臂24的四个防尘薄膜框架支持销21上升，而进行完剥离试验。虽然剥离速度为实施例1～3的剥离开始速度的一半，是以0.05mm/秒实施，然而最大剥离强度为29.5n，剥离时产生了一次小的剥离音。在目视下确认剥离后的基板，仅在最初开始剥离的附近，确认到剥离残渣。

(补充)

上述实施例1～3的剥离开始速度，是朝向遮罩基板上方而以0.1mm/秒使其动作。又，进行组合了使负载检测元件的测量值降至最小的程序的计算机控制，由此，使四个防尘薄膜框架支持销21的动作，在最大剥离速度不超过0.1mm/秒的情况下分别各自上升，或是停止或相反动作，由此，对于粘着层小幅地抑制因剥离力产生的负载。另一方面，比较例1中，四个防尘薄膜框架支持销21从开始剥离动作至结束为止，以固定的0.1mm/秒进行动作。又，比较例2中从剥离开始至结束为止，以固定的0.05mm/秒进行动作。

如上述说明，依本发明，能将上述熟练的作业者所感到的感觉，通过设置于各自的防尘薄膜框架支持销的负载检测元件定量地掌握，并能以计算机取得数据而控制各自的单轴机械臂的动作，而以使剥离力降至最小的方式控制各自的防尘薄膜框架支持销的动作，而对于防尘薄膜组件的剥离方法及防尘薄膜组件的剥离装置有所助益。

以上所述仅为本发明较佳实施例，然其并非用以限定本发明的范围，任何熟悉本项技术的人员，在不脱离本发明的精神和范围内，可在此基础上做进一步的改进和变化，因此本发明的保护范围当以本申请的权利要求书所界定的范围为准。