曝光系统的制作方法

本发明涉及曝光技术领域，特别是涉及曝光系统。

背景技术：

目前，曝光系统通过将曝光平台和光罩放置平台进行对位，利用紫外线照射光罩放置平台上的光罩，能够使得光罩上的图案转移至曝光平台上放置的玻璃样品上。

然而，在执行曝光工序时，往往在曝光后玻璃样品上出现的图案偏移，导致曝光工序的成品率低。

技术实现要素：

基于此，有必要针对曝光后玻璃样品上出现的图案偏移，导致曝光工序的成品率低问题，提供一种曝光系统。

一种曝光系统，包括：

曝光平台，用于放置执行曝光工序的玻璃样品；

光罩放置平台，设置于所述曝光平台的顶部，用于放置携带图案的光罩，以使执行所述曝光工序时紫外线照射所述光罩将所述图案转移至所述玻璃样品上；

对位调整装置，与所述曝光平台连接，用于在执行所述曝光工序时控制所述曝光平台移动和/或旋转以使所述曝光平台与所述光罩放置平台进行对位。

在其中一个实施例中，所述对位调整装置包括：

距离调整装置，与所述曝光平台连接，用于以第一步长控制所述曝光平台在垂直方向移动以调整所述光罩与所述玻璃样品之间的距离；

间隙调整模块，与所述曝光平台连接，用于以第二步长控制所述曝光平台在垂直方向移动以调整所述光罩与所述玻璃样品之间的距离，所述第一步长大于所述第二步长；

xyθ调整模块，与所述曝光平台连接，用于控制所述曝光平台平移和/或旋转使所述曝光平台与所述光罩放置平台平行且所述光罩和所述玻璃样品的中心重合。

在其中一个实施例中，所述间隙调整模块包括：

间隙检测探头，用于获取所述光罩和所述玻璃样品之间的当前距离；

间隙微调单元，与所述间隙检测探头连接，用于根据所述当前距离控制所述曝光平台在垂直方向移动。

在其中一个实施例中，所述间隙调整模块至少包括三个所述间隙微调单元，且三个所述间隙微调单元不在一条直线上。

在其中一个实施例中，所述xyθ调整模块包括：

平行调整单元，用于控制所述曝光平台在位移，以使所述光罩和所述玻璃样品的中心重合；

角度调整单元，用于控制所述曝光平台旋转以使所述曝光平台与所述光罩放置平台平行。

在其中一个实施例中，所述曝光平台上设有贯穿的顶针通道，所述曝光系统还包括：顶针平台，位于所述曝光平台的底部，所述顶针平台包括：可伸缩顶针，所述可伸缩顶针用于执行所述曝光工序之前经所述顶针通道伸出所述曝光平台以接收所述玻璃样品的放置，并收缩至所述顶针通道以使所述玻璃样品放置于所述曝光平台上。

在其中一个实施例中，所述可伸缩顶针还用于当所述曝光工序结束后经所述顶针通道伸出所述曝光平台托起完成所述曝光工序的玻璃样品以待所述完成所述曝光工序的玻璃样品被取出。

在其中一个实施例中，所述光罩放置平台包括：

光罩定位模块，用于对所述光罩进行整列以确保所述光罩放置于预设位置；

多个不同规格的光罩切换卡槽，设置于所述预设位置，每个所述光罩切换卡槽用于放置对应规格的光罩。

在其中一个实施例中，所述光罩放置平台还包括：光罩固定压块，用于当所述光罩放置于对应规格的光罩切换卡槽内后固定所述光罩。

在其中一个实施例中，所述系统还包括：光罩吹风装置，与所述光罩放置平台对应设置，用于在执行曝光工序时吹出冷却风为所述光罩降温。

上述曝光系统包括：曝光平台、光罩放置平台和对位调整装置，其中，曝光平台，用于放置执行曝光工序的玻璃样品；光罩放置平台，设置于所述曝光平台的顶部，用于放置携带图案的光罩，以使执行所述曝光工序时紫外线照射所述光罩将所述图案转移至所述玻璃样品上；对位调整装置，与所述曝光平台连接，用于在执行所述曝光工序时控制所述曝光平台移动和/或旋转以使所述曝光平台与所述光罩放置平台进行对位。本申请利用对位调整装置控制曝光平台移动和/或旋转实现所述曝光平台与所述光罩放置平台间的精准对位，可以有效缓解由于曝光台与光罩放置平台的对位不精确造成的曝光图案移位的问题，提升了曝光后玻璃样品的成品率。

附图说明

图1为本申请一实施例中曝光系统的爆炸示意图；

图2为本申请一实施例中曝光系统的测试图。

具体实施方式

本申请提供一种曝光平台系统，如图1所示，曝光平台系统包括：光罩放置平台10、曝光平台20和对位调整装置30，其中，曝光平台20，用于放置执行曝光工序的玻璃样品；光罩放置平台10，设置于曝光平台20的顶部，用于放置携带图案的光罩，执行曝光工序时，光罩放置平台10和曝光平台20准确对位且光罩的底面和玻璃样品的顶面接触，当紫外线照射在光罩上能够将光罩上的图案转移至玻璃样品上。利用与曝光平台20连接的对位调整装置30，在执行曝光工序时当出现光罩放置平台10和曝光平台20对位不准确时，控制曝光平台20移动和/或旋转以使曝光平台20与光罩放置平台10进行对位。

具体的，当光罩放置平台10和曝光平台20之间的距离不满足距离预设条件时，对位调整装置30控制曝光平台20在垂直方向移动，以使光罩放置平台10和曝光平台20之间的间隙小于阈值，如10um、5um、3um或1um，此处不作限定；当光罩放置平台10上放置的光罩和曝光平台20上放置的玻璃样品中心不重合时，对位调整装置30控制曝光平台20在所在平面上位移,以使光罩和玻璃样品中心重合；当光罩放置平台10所在平面和曝光平台20所在平面不平行时，对位调整装置30控制曝光平台20沿x轴或沿y轴旋转以使光罩放置平台10所在平面和曝光平台20所在平面互相平行。即当光罩放置平台10和曝光平台20满足上述任意一种或多种情况时，按照对应的方式使对位调整装置30调整曝光平台20移动和/或旋转。

上述曝光系统包括：曝光平台20、光罩放置平台10和对位调整装置30，其中，曝光平台20，用于放置执行曝光工序的玻璃样品；光罩放置平台10，设置于曝光平台20的顶部，用于放置携带图案的光罩，以使执行曝光工序时紫外线照射光罩将图案转移至玻璃样品上；对位调整装置30，与曝光平台20连接，用于在执行曝光工序时控制曝光平台20移动和/或旋转以使曝光平台20与光罩放置平台10进行对位。本申请利用对位调整装置30控制曝光平台20移动和/或旋转实现曝光平台20与光罩放置平台10间的精准对位，可以有效缓解由于曝光台与光罩放置平台10的对位不精确造成的曝光图案移位的问题，提升了曝光后玻璃样品的成品率。

在其中一个实施例中，如图1所示，对位调整装置30包括：距离调整模块310、间隙调整模块320和xyθ调整模块330，其中，距离调整模块310，与曝光平台20连接，用于以第一步长控制曝光平台20在垂直方向移动以调整光罩与玻璃样品之间的距离；间隙调整模块320，与曝光平台20连接，用于以第二步长控制曝光平台20在垂直方向移动以调整光罩与玻璃样品之间的距离，其中，第一步长大于第二步长；xyθ调整模块330，与曝光平台20连接，用于控制曝光平台20平移和/或旋转使曝光平台20与光罩放置平台10平行且光罩和玻璃样品的中心重合。

具体的，当光罩放置平台10和曝光平台20间的当前距离大于预设值时，利用距离调整模块310以第一步长粗调光罩放置平台10和曝光平台20间的距离；当光罩放置平台10和曝光平台20间的当前距离处于第一预设值和第二预设值之间时，利用间隙调整模块320以第二步长微调整光罩放置平台10和曝光平台20间的距离，其中，第一预设值大于第二预设值，举例来说，第一预设值为1mm，第二预设值为1um；当光罩放置平台10上放置的光罩和曝光平台20上放置的玻璃样品中心不重合时，xyθ调整模块330控制曝光平台20在所在平面上位移；当光罩放置平台10所在平面和曝光平台20所在平面不平行时，xyθ调整模块330控制曝光平台20沿x轴或沿y轴旋转。本实施中，当利用光罩放置平台10和曝光平台20间的距离不满足曝光要求时，利用距离调整模块310粗调，再利用间隙调整模块320微调，当光罩放置平台10所在平面和曝光平台20所在平面不平行，则利用xyθ调整模块330进行平移或旋转，能够提高对位精度，进一步的可以提高玻璃样品的成品率。

在其中一个实施例中，间隙调整模块包括：间隙检测探头，用于获取光罩和玻璃样品之间的当前距离；间隙微调单元，与间隙检测探头连接，用于根据当前距离控制曝光平台20在垂直方向移动。

具体的，间隙调整模块包括：间隙检测探头和间隙微调单元，间隙检测探头检测光罩和玻璃样品之间的当前距离，当进行粗调之后的当前距离仍不满于预设条件时，利用间隙微调单元控制曝光平台20在垂直方向移动调整直至光罩放置平台10和曝光平台20间的距离满足预设条件。其中，预设条件可以是光罩放置平台10和曝光平台20间的距离小于1um、2um或3um。在其中一个实施例中，间隙调整模块至少包括三个间隙微调单元，且三个间隙微调单元不在一条直线上。三个在在一条直线上的点形成一个平面，利用不在一条直线上的三个间隙微调单元控制曝光平台20在垂直方向移动，可以精确地控制整个曝光平台20在垂直方向上均匀移动，避免了曝光平台20垂直方向移动的不对称，即曝光平台20一侧满足间隙预设条件另外一侧不满足间隙预设条件。

在其中一个实施例中，xyθ调整模块330包括：平行调整单元，用于控制曝光平台20在位移，以使光罩和玻璃样品的中心重合；角度调整单元，用于控制曝光平台20旋转以使曝光平台20与光罩放置平台10平行。

具体的，当光罩放置平台10上放置的光罩和曝光平台20上放置的玻璃样品中心不重合时，平行调整单元控制曝光平台20在所在平面上位移；当光罩放置平台10所在平面和曝光平台20所在平面不平行时，角度调整单元控制曝光平台20沿x轴或沿y轴旋转以使光罩放置平台10所在平面和曝光平台20所在平面平行。

在其中一个实施例中，曝光平台20上设有贯穿的顶针通道，曝光平台系统还包括：顶针平台，位于曝光平台20的底部，顶针平台包括：可伸缩顶针，可伸缩顶针用于执行曝光工序之前经顶针通道伸出曝光平台20以接收玻璃样品的放置，并收缩至顶针通道以使玻璃样品放置于曝光平台20上。在其中一个实施例中，可伸缩顶针还用于当曝光工序结束后经顶针通道伸出曝光平台20托起完成曝光工序的玻璃样品以待完成曝光工序的玻璃样品被取出。

具体的，曝光平台20上设有贯穿性的顶针通道，顶针通道的数量与可伸缩顶针的数量相同，顶针通道的尺寸与可伸缩顶针的尺寸匹配。可收缩顶针在伸出状态时，可经过顶针通道伸出曝光平台20表面；可收缩顶针在收缩状态时，处于顶针通道内不伸出曝光平台20表面。在执行曝光工序之前，可收缩顶针经过顶针通道伸出曝光平台20表面，将玻璃样品放置在伸出的可收缩顶针上；然后可收缩顶针缓慢收缩至顶针通道内，可收缩顶针上的玻璃样品自然搁置在曝光平台20上，以使玻璃样品执行曝光工序；当执行完成曝光工序之后，可伸缩顶针伸出曝光平台20托起完成曝光工序的玻璃样品，以使工作人员或机械手取出执行完曝光工序的玻璃样品。利用可收缩顶针和顶针通道可以实现玻璃样品的轻拿轻放，以免在移动玻璃样品造成剐蹭。

在其中一个实施例中，如图1和图2所示，光罩放置平台10包括：光罩定位模块，用于对光罩进行整列以确保光罩放置于预设位置；多个不同规格的光罩切换卡槽，设置于预设位置，每个光罩切换卡槽用于放置对应规格的光罩。光罩定位模块为定位标记，在光罩放置平台10放置光罩时，实验人员或机械手基于光罩定位模块将光罩放置于预设位置。且预设位置为光罩放置平台10上中心区域的一块区域，在预设位置设有多个不同规格的光罩切换卡槽，根据用于曝光的光罩的尺寸，将光罩放置于对应规格的光罩切换卡槽，放入光罩切换卡槽之后，光罩切换卡槽能够将光罩卡紧。本实施例中，光罩定位模块用于标记放置光罩的预设位置，多个不同规格的光罩切换卡槽能够提高曝光系统的兼容性，使其支持多种规格的曝光光罩。

在其中一个实施例中，光罩放置平台10还包括：光罩固定压块，用于当光罩放置于对应规格的光罩切换卡槽内后固定光罩。光罩固定压块压住光罩的边缘，防止光罩在执行曝光工序时产生移动或晃动，影响曝光效果。

在其中一个实施例中，曝光系统还包括：光罩吹风装置，与光罩放置平台10对应设置，用于在执行曝光工序时吹出冷却风为光罩降温。在执行曝光工序时，由于紫外线照射光罩会出现升温，进一步地会影响与之接触的玻璃样品，玻璃样品温度上升会使表面镀膜的膨胀，造成曝光图案与预期存在偏差，影响玻璃样品的成品率。利用光罩吹风装置给光罩降温，防止光罩温度上升影响玻璃样品的成品率。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。