1.一种曝光系统，其特征在于，包括：
曝光平台，用于放置执行曝光工序的玻璃样品；
光罩放置平台，设置于所述曝光平台的顶部，用于放置携带图案的光罩，以使执行所述曝光工序时紫外线照射所述光罩将所述图案转移至所述玻璃样品上；
对位调整装置，与所述曝光平台连接，用于在执行所述曝光工序时控制所述曝光平台移动和/或旋转以使所述曝光平台与所述光罩放置平台进行对位。
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述对位调整装置包括：
距离调整装置，与所述曝光平台连接，用于以第一步长控制所述曝光平台在垂直方向移动以调整所述光罩与所述玻璃样品之间的距离；
间隙调整模块，与所述曝光平台连接，用于以第二步长控制所述曝光平台在垂直方向移动以调整所述光罩与所述玻璃样品之间的距离，所述第一步长大于所述第二步长；
xyθ调整模块，与所述曝光平台连接，用于控制所述曝光平台平移和/或旋转使所述曝光平台与所述光罩放置平台平行且所述光罩和所述玻璃样品的中心重合。
3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述间隙调整模块包括：
间隙检测探头，用于获取所述光罩和所述玻璃样品之间的当前距离；
间隙微调单元，与所述间隙检测探头连接，用于根据所述当前距离控制所述曝光平台在垂直方向移动。
4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述间隙调整模块至少包括三个所述间隙微调单元，且三个所述间隙微调单元不在一条直线上。
5.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述xyθ调整模块包括：
平行调整单元，用于控制所述曝光平台在位移，以使所述光罩和所述玻璃样品的中心重合；
角度调整单元，用于控制所述曝光平台旋转以使所述曝光平台与所述光罩放置平台平行。
6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述曝光平台上设有贯穿的顶针通道，所述曝光系统还包括：
顶针平台，位于所述曝光平台的底部，所述顶针平台包括：可伸缩顶针，所述可伸缩顶针用于执行所述曝光工序之前经所述顶针通道伸出所述曝光平台以接收所述玻璃样品的放置，并收缩至所述顶针通道以使所述玻璃样品放置于所述曝光平台上。
7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，所述可伸缩顶针还用于当所述曝光工序结束后经所述顶针通道伸出所述曝光平台托起完成所述曝光工序的玻璃样品以待所述完成所述曝光工序的玻璃样品被取出。
8.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光罩放置平台包括：
光罩定位模块，用于对所述光罩进行整列以确保所述光罩放置于预设位置；
多个不同规格的光罩切换卡槽，设置于所述预设位置，每个所述光罩切换卡槽用于放置对应规格的光罩。
9.根据权利要求8所述的系统，其特征在于，所述光罩放置平台还包括：
光罩固定压块，用于当所述光罩放置于对应规格的光罩切换卡槽内后固定所述光罩。
10.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统还包括：
光罩吹风装置，与所述光罩放置平台对应设置，用于在执行曝光工序时吹出冷却风为所述光罩降温。