液晶面板及其制造方法与流程

本发明是有关于显示器领域，特别是有关于一种液晶面板及其制造方法。

背景技术：

在液晶显示器(lcd)中，背光模块的功能之一在于把点光源转换成面光源，因此在背光模块中会形成各种光学膜片，以促进上述的功能。然而，按照现有方式制作的光学膜片数量过多，进而使得液晶面板的厚度增加，因此仍有改善空间。

故，有必要提供一种液晶面板及其制造方法，以解决现有技术所存在的问题。

技术实现要素：

有鉴于此，本发明提供一种液晶面板及其制造方法，以解决现有技术所存在的液晶面板的厚度增加的问题。

本发明的一目的在于提供一种液晶面板及其制造方法，其通过纳米压印步骤在所述背光模块上或所述阵列基板上形成一第一金属线栅层，以减少液晶面板的厚度。

为达成本发明的前述目的，本发明一实施例提供一种液晶面板，其中所述液晶面板包含：相对设置的一背光模块及一阵列基板；及一第一金属线栅层，设在所述背光模块及所述阵列基板之间，其中所述第一金属线栅层通过一纳米压印步骤形成以具有大于零且小于等于0.1毫米的厚度，所述第一金属线栅层包含多个第一金属线，所述多个第一金属线之间的间距大于零且小于120纳米，所述多个第一金属线各具有一宽度大于零且小于60纳米

在本发明的一实施例中，所述阵列基板还包含依序设置的一外层玻璃、一第二金属线栅层、一彩色滤光片、一液晶层及一基板，其中所述第二金属线栅层是通过一纳米压印法形成，以及所述第一金属线栅层设在所述背光模块及所述基板之间。

在本发明的一实施例中，所述第二金属线栅层的材质包含所述阵列基板还包含依序设置的一外层玻璃、一量子点彩色滤光片、一第二金属线栅层、一液晶层及一基板，其中所述第二金属线栅层是通过一纳米压印法形成，以及所述第一金属线栅层设在所述背光模块及所述基板之间。

在本发明的一实施例中，所述背光模块包含一光源及一偏光片，其中所述光源邻近所述偏光片。

在本发明的一实施例中，所述偏光片包含：一反射片、一导光板及一扩散片。所述导光板设于所述反射片上。所述扩散片设于所述导光板上，其中所述光源邻近所述导光板，及所述第一金属线栅层设于所述扩散片上。

在本发明的一实施例中，所述偏光片还包含一增亮膜，所述增亮膜设于所述第一金属线栅层与所述扩散片之间。

在本发明的一实施例中，所述偏光片还包含一玻璃基板，所述玻璃基板设于所述扩散片上，以及所述第一金属线栅层设于所述玻璃基板上。

在本发明的一实施例中，所述导光板还包含多个网点，其中所述多个网点通过一纳米压印法形成，所述多个网点各具有一尺寸介于0.1至1毫米之间，以及所述多个网点之间的一间距介于0.1至10毫米之间。

在本发明的一实施例中，所述第一金属线栅层的材质包含铝、铁、铜、铬、银及金中的至少一种。

再者，本发明另一实施例提供一种液晶面板的制造方法，其中所述液晶面板的制造方法包含步骤：提供一背光模块及一阵列基板；进行一纳米压印步骤，以在所述背光模块上或所述阵列基板上形成一第一金属线栅层；及组装所述背光模块及所述阵列基板，其中所述第一金属线栅层位于所述背光模块及所述阵列基板之间。

与现有技术相比较，本发明的液晶面板及其制造方法，其通过纳米压印步骤在所述背光模块上或所述阵列基板上形成一第一金属线栅层，以减少液晶面板的厚度。

为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：

附图说明

图1是本发明一实施例的液晶面板的制造方法的流程图。

图2a是本发明一实施例的液晶面板的剖面示意图。

图2b是本发明另一实施例的液晶面板的剖面示意图。

图2c是本发明再一实施例的液晶面板的剖面示意图。

图2d是本发明又一实施例的液晶面板的剖面示意图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。再者，本发明所提到的方向用语，例如上、下、顶、底、前、后、左、右、内、外、侧面、周围、中央、水平、横向、垂直、纵向、轴向、径向、最上层或最下层等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。

请参照图1所示，本发明一实施例的液晶面板的制造方法10包含步骤11至13：提供一背光模块及一阵列基板(步骤11)；进行一纳米压印步骤，以在所述背光模块上或所述阵列基板上形成一第一金属线栅层(步骤12)；及组装所述背光模块及所述阵列基板，其中所述第一金属线栅层位于所述背光模块及所述阵列基板之间(步骤13)。

请一并参照图1、图2a及图2b。本发明实施例的液晶面板20的制造方法10的步骤11是：提供一背光模块21及一阵列基板22。在本步骤11中，所述背光模块21及所述阵列基板22的材料与制作方法可参考一般半导体工艺中常见材料或制作方法。在一实施例中，所述背光模块21及所述阵列基板22中的一部分的构件可以通过纳米压印法形成，以减少液晶面板20的厚度。在一范例中，所述阵列基板21还包含一第二金属线栅层211，其中所述第二金属线栅层211是通过一纳米压印法形成，因此可以减少液晶面板20的厚度。在另一范例中，所述第二金属线栅层211的材质包含铝、铁、铜、铬、银及金中的至少一种。在又一范例中，所述第二金属线栅层211包含多个第二金属线211a，相邻的第二金属线之间的间距大于零且小于120纳米，所述多个第二金属线211a各具有一宽度大于零且小于60纳米。在一范例中，形成所述第二金属线栅层211之前，需要进行消光材质(氧化金属层)的制作，例如可以是氧化钼、氧化铬等金属氧化物。

要提到的是，在一范例中，所述第二金属线栅层211例如是作为一内置偏光片，例如设置于外层玻璃212与彩色滤光片213之间。在另一实施例中，所述阵列基板21例如包含依序设置的所述外层玻璃212、所述第二金属线栅层211、所述彩色滤光片213、液晶层214及基板215，其中所述第二金属线栅层211是通过一纳米压印法形成，以及所述第一金属线栅层设在所述背光模块22及所述基板215之间。

值得一提的是，纳米压印法是一种利用电子束微影技术(electronbeamlithography)在母模(template)上制作出纳米尺度图形，然后将母模压在涂布材料上，以达到图形转移目的。所述纳米压印法具有可量产、低成本以及图形薄等优点。

在一实施例中，所述背光模块22包含一光源221及一偏光片222，其中所述光源221邻近所述偏光片222。在一范例中，所述光源221例如是一侧入式光源。在另一范例中，所述偏光片222包含：一反射片223、一导光板224及一扩散片225。所述反射片223具有反射凸块223a，用于反射光线。所述导光板224设于所述反射片223上。所述扩散片225设于所述导光板224上，其中所述第一金属线栅层226设于所述扩散片225上，所述光源221邻近所述导光板224。在一实施例中，所述扩散片225可包含多个扩散粒子225a，例如使用涂布方式来把所述多个扩散粒子225a涂布在所述扩散片上。在再一范例中，所述导光板224还包含多个网点224a，其中所述多个网点224a通过一纳米压印法形成，所述多个网点224a各具有一尺寸介于0.1至1毫米之间，以及所述多个网点224a之间的一间距介于0.1至10毫米之间。由于导光板224的网点224a通过纳米压印法形成，因此可以减少液晶面板的厚度。在一范例中，所述网点224a的形状例如包含圆形、椭圆形及多边形中的至少一种，其中多边形例如是方形或六角形。

在一实施例中，所述偏光片22还包含一增亮膜227，所述增亮膜227设于所述第一金属线栅层226与所述扩散片225之间，用于增加光线亮度。在一范例中，所述增亮膜227具有一棱镜结构227a，所述棱镜结构227a的折射率介于1.5至1.6之间。所述增亮膜227可以通过纳米压印法形成。但值得一提的是，可通过省略所述增亮膜的制作以降低所述背光模块的厚度。

本发明实施例的液晶面板的制造方法10的步骤12是：进行一纳米压印步骤，以在所述背光模块21上或所述阵列基板22上形成一第一金属线栅层226。在本步骤12中，主要是通过纳米压印法以在所述背光模块22上或所述阵列基板21上形成所述第一金属线栅层226，进而减少液晶面板20的厚度。在一实施例中，所述第一金属线栅层226的材质包含铝、铁、铜、铬、银及金中的至少一种。在又一范例中，所述第一金属线栅层226包含多个第一金属线226a，相邻的第一金属线226a之间的间距大于零且小于120纳米，所述多个第一金属线226a各具有一宽度大于零且小于60纳米。这边要提到的是，一般而言，所述背光模块22及所述阵列基板21各具有外层玻璃或外层塑料作为基板。在上述的情况下，可在所述背光模块22的外层玻璃或外层塑料上或所述阵列基板21的外层玻璃或外层塑料上形成第一金属线栅层226。举例而言，所述背光模块22的偏光片222可包含一玻璃基板228(如图2b或2d所示)，所述玻璃基板228设于所述扩散片225上，以及在所述纳米压印步骤中，所述第一金属线栅层226形成于所述玻璃基板228上。这边提到的是，玻璃基板228的表面平整性优于塑料基板，因此有助于使用纳米压印法制作第一金属线栅层226的良率。

在另一方面，所述背光模块22可不包含面朝所述阵列基板21的外层玻璃或外层塑料，并且在进行纳米压印步骤时，所述第一金属线栅层226是形成在阵列基板21的外层玻璃或外层塑料上。因此，此种方式可进一步降低液晶面板20的厚度。

本发明实施例的液晶面板的制造方法10的步骤13是：组装所述背光模块22及所述阵列基板21，其中所述第一金属线栅层226位于所述背光模块22及所述阵列基板21之间。在本步骤13中，组装后的所述背光模块22的光源221远离所述阵列基板21，以使所述光源221发出的光线221a可通过所述背光模块22的各个膜层作用，以达到将点光源转换为面光源的效果。

在一实施例中，本发明实施例的液晶面板的制造方法10亦可应用于制作qdcf型(quantumdotcolorfiltertype)的液晶面板20a(如图2c或图2d所示)，其中qdcf型的液晶面板指的是将量子点应用在彩色滤光片，以取代现有的彩色滤光片。在一范例中，qdcf型(quantumdotcolorfiltertype)的液晶面板20a的阵列基板21a例如包含依序设置的外层玻璃212、量子点彩色滤光片213a、第二金属线栅层211、液晶层214及具有阵列结构的基板215，其中所述第二金属线栅层211是通过一纳米压印法形成，以及所述第一金属线栅层226设在所述背光模块227及所述基板215之间。具体而言，在qdcf型的液晶面板20a中，原本的阵列基板21a在进行金属线栅层的制作会遇到液晶面板20a的厚度无法减低的问题。因此，若是应用纳米压印步骤形成第一金属线栅层226，可将第一金属线栅层226的厚度由约0.4mm减到到约0.1mm(例如大于0mm且小于等于0.1mm)，进而降低液晶面板20a的厚度。

由上可知，本发明实施例的液晶面板的制造方法10至少可具有下列优点：

(1)通过使用纳米压印法制作背光模块中的膜层，以降低背光膜块的厚度。在一些实施例中，还可省去现有背光膜块的外层玻璃或外层塑料，以进一步降低液晶面板的厚度。

(2)通过一纳米压印法形成所述阵列基板的第二金属线栅层，其中所述第二金属线栅层可作为内置偏光片，因此可以减少液晶面板的厚度。

(3)通过形成第一金属线栅层，可以移除增亮膜放入或是减少增亮膜数量，因此可以减少液晶面板的厚度。

(4)通过一纳米压印法形成第一金属线栅层，以降低qdcf型的液晶面板的厚度。

(5)通过一纳米压印法形成qdcf型的液晶面板的第一金属线栅层，可简化qdcf型的液晶面板工艺难度。

本发明另提出一种液晶面板，其可利用本发明任一实施例的液晶面板的制造方法制成。

另外要提到的是，本发明实施例的液晶面板并不仅限于本发明任一实施例的液晶面板的制造方法制成，如下所述。

请一并参照图2a至2d。本发明一实施例提供一种液晶面板20(或液晶面板20a)，其中所述液晶面板20(或液晶面板20a)包含：相对设置的一背光模块21及一阵列基板22；及一第一金属线栅层226，设在所述背光模块21及所述阵列基板22之间，其中所述第一金属线栅层226通过一纳米压印步骤形成以具有大于零且小于等于0.1毫米的厚度，所述第一金属线栅层226包含多个第一金属线226a，所述多个第一金属线226a之间的间距大于零且小于120纳米(例如1、2、3、5、10、20、40、50、60、70、90、100或110纳米)，所述多个第一金属线226a各具有一宽度大于零且小于60纳米(例如1、2、3、5、10、20、40、50、55纳米)。

这边要提到的是，需通过纳米压印步骤才能快速形成具有纳米结构的第一金属线栅层226，其中所述多个第一金属线226a形成该纳米结构，其厚度小于现有技术的金属线栅层的厚度，并且具有纳米等级的间距与宽度，进而减少液晶面板20(或液晶面板20a)的厚度。

要提到的是，本发明实施例的液晶面板20(或液晶面板20a)可包含上述液晶面板的制造方法10中的各个实施例所提到的各个膜层或构件。由于已经在上面详细描述，故不再赘述。

本发明已由上述相关实施例加以描述，然而上述实施例仅为实施本发明的范例。必需指出的是，已公开的实施例并未限制本发明的范围。相反地，包含于权利要求书的精神及范围的修改及均等设置均包括于本发明的范围内。