1.一种双面微透镜阵列，其特征在于，包括玻璃基板，所述玻璃基板的双侧均带有微透镜阵列结构。
2.根据权利要求1所述的双面微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜阵列结构为平面六边形排列的微透镜阵列结构，所述透镜的边长为29微米至31微米，填充系数为99％至100％。
3.一种双面微透镜阵列制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
s1、在玻璃基板的双侧涂布光刻胶；
s2、将涂好光刻胶的玻璃基板放置在光刻平台上；
s3、使用光刻机进行曝光；
s4、曝光后进行显影操作；
s5、将显影后的玻璃基板放入恒温箱中；
s6、通过图形转移方式将光刻胶图案转移到玻璃基板上。
4.根据权利要求3所述的双面微透镜阵列制备方法，其特征在于，在步骤s1中，所述光刻胶为负性光刻胶。
5.根据权利要求4所述的双面微透镜阵列制备方法，其特征在于，在步骤s3中，所述光刻机为dmd光刻机。
6.根据权利要求5所述的双面微透镜阵列制备方法，其特征在于，在步骤s3中，只进行一次曝光，透明材质的玻璃基板上下两侧的光刻胶都得到曝光。
7.根据权利要求6所述的双面微透镜阵列制备方法，其特征在于，在步骤s4中，将曝光过的玻璃基板放入显影液中进行显影。
8.根据权利要求7所述的双面微透镜阵列制备方法，其特征在于，在步骤s4中，显影后的玻璃基板双侧的光刻胶形成有若干个独立的六边形柱体阵列结构。
9.根据权利要求8所述的双面微透镜阵列制备方法，其特征在于，在步骤s5中，将恒温箱的温度设定到光刻胶的玻璃化转变温度，六边形柱体阵列结构变为六边形球面透镜结构。
10.根据权利要求9所述的双面微透镜阵列制备方法，其特征在于，在步骤s6中，通过湿蚀刻或干蚀刻的方式将光刻胶所形成的图案转移到玻璃基板上。