一种用于高速传输的滤光片及光模块的制作方法

[0001]
本实用新型涉及光学器件领域，更具体地，涉及一种用于高速传输的滤光片及光模块。


背景技术：

[0002]
滤光片是一种用于选取所需辐射波段的光学器件，随着通信技术的发展及5g时代的到来，对滤光片的性能要求越来越高。
[0003]
目前使用的滤光片主要使用离子辅助镀膜(李晓平.wdm薄膜滤光片和分束器的设计与制造研究[d].华中科技大学,2005.)，普遍存在膜层较厚的问题，膜层致密性差，且存在pass band、reflection band、center wave length tolerance、ripple within pass band、reflection isolation within pass band等各项参数稳定性差的问题，如下表所示。
[0004][0005]


技术实现要素：

[0006]
本实用新型为克服上述现有技术所述的滤光片膜层较厚、膜层致密性差的缺陷，
提供一种用于高速传输的滤光片，以及一种用于高速传输的光模块。
[0007]
为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案如下：
[0008]
一种用于高速传输的滤光片，包括玻璃基板，玻璃基板一侧面镀设有增透膜，玻璃基板另一侧面镀设有高反膜；增透膜与高反膜的材料相同，膜层结构相同设置。
[0009]
优选地，高反膜由高折射率介质层及低折射率材料介质层交替堆积组成；高反膜的层数大于或等于349层，其中，高折射率介质层作为高反膜第1膜层。
[0010]
优选地，高折射率介质层由ta2o5材料制成。
[0011]
优选地，低折射率介质层由sio2材料制成。
[0012]
优选地，高反膜的层数为349层，高反膜中各膜层厚度如下：
[0013]
第10层sio2低折射率介质层厚度为534.46nm；
[0014]
第23层ta2o5高折射率介质层厚度为60.41nm；
[0015]
第24层sio2低折射率介质层厚度为90.11nm；
[0016]
第25层ta2o5高折射率介质层厚度为60.41nm；
[0017]
第34层sio2低折射率介质层厚度为1068.93nm；
[0018]
第43层ta2o5高折射率介质层厚度为54.06nm；
[0019]
第44层sio2低折射率介质层厚度为107.8nm；
[0020]
第45层ta2o5高折射率介质层厚度为54.06nm；
[0021]
第60层sio2低折射率介质层厚度为1068.93nm；
[0022]
第96层sio2低折射率介质层厚度为20.02nm；
[0023]
第97层ta2o5高折射率介质层厚度为86.15nm；
[0024]
第188层sio2低折射率介质层厚度为1068.93nm；
[0025]
第240层sio2低折射率介质层厚度为1068.93nm；
[0026]
第342层sio2低折射率介质层厚度为534.46nm；
[0027]
其余ta2o5高折射率介质层厚度为187.2nm，sio2低折射率介质层厚度为267.23nm。
[0028]
优选地，增透膜的层数为4层。
[0029]
优选地，增透膜由上至下设置的各膜层的厚度为：ta2o5高折射率介质层36.6nm；sio2低折射率介质层185.5nm；ta2o5高折射率介质层165nm；sio2低折射率介质层187nm。
[0030]
优选地，增透膜另一侧面镀设有能量增强膜。
[0031]
优选地，滤光片的尺寸为1.9mm
×
1.9mm。
[0032]
本实用新型还提出了一种用于高速传输的光模块，该光模块搭载有上述任意一个或多个优选技术方案组合得到的滤光片。
[0033]
与现有技术相比，本实用新型技术方案的有益效果是：本实用新型的滤光片尺寸较小，能够提高单炉产出率，减低成本，提高膜层致密性，且其带通等各项参数稳定性大于实际应用指标，有效提高光信号的传输速率。
附图说明
[0034]
图1为实施例的用于高速传输的滤光片的结构示意图。
[0035]
图2为实施例的用于高速传输的滤光片的实测透射光谱图。
[0036]
图3为实施例的用于高速传输的滤光片的实测反射光谱图。
[0037]
图4为实施例的用于高速传输的滤光片的能谱分析图。
具体实施方式
[0038]
附图仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制；
[0039]
为了更好说明本实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；
[0040]
对于本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。
[0041]
下面结合附图和实施例对本实用新型的技术方案做进一步的说明。
[0042]
本实施例提出一种用于高速传输的滤光片，如图1所示，为本实施例的一种用于高速传输的滤光片的结构示意图。
[0043]
本实施例提出的一种用于高速传输的滤光片中，包括玻璃基板1，玻璃基板1一侧面镀设有增透膜2，玻璃基板1另一侧面镀设有高反膜3。
[0044]
本实施例中，高反膜3由高折射率介质层及低折射率材料介质层交替堆积组成，其中，高折射率介质层由ta2o5材料制成，低折射率介质层由sio2材料制成，高反膜3的层数为349层。具体地，高反膜3中，ta2o5高折射率介质层作为第1膜层，且各膜层厚度如下：
[0045]
第10层sio2低折射率介质层厚度为534.46nm；
[0046]
第23层ta2o5高折射率介质层厚度为60.41nm；
[0047]
第24层sio2低折射率介质层厚度为90.11nm；
[0048]
第25层ta2o5高折射率介质层厚度为60.41nm；
[0049]
第34层sio2低折射率介质层厚度为1068.93nm；
[0050]
第43层ta2o5高折射率介质层厚度为54.06nm；
[0051]
第44层sio2低折射率介质层厚度为107.8nm；
[0052]
第45层ta2o5高折射率介质层厚度为54.06nm；
[0053]
第60层sio2低折射率介质层厚度为1068.93nm；
[0054]
第96层sio2低折射率介质层厚度为20.02nm；
[0055]
第97层ta2o5高折射率介质层厚度为86.15nm；
[0056]
第188层sio2低折射率介质层厚度为1068.93nm；
[0057]
第240层sio2低折射率介质层厚度为1068.93nm；
[0058]
第342层sio2低折射率介质层厚度为534.46nm；
[0059]
其余ta2o5高折射率介质层厚度为187.2nm，sio2低折射率介质层厚度为267.23nm。
[0060]
具体地，高反膜中的膜层结构如下表1所示：
[0061]
表1高反膜各膜层材料及厚度
[0062]
[0063]
[0064][0065]
本实施例中，增透膜2与高反膜3的材料相同，同样采用ta2o5高折射率介质层和sio2低折射率介质层交替堆积组成，具体地，增透膜2由上至下设置的各膜层的厚度为：ta2o5高折射率介质层36.6nm；sio2低折射率介质层185.5nm；ta2o5高折射率介质层165nm；sio2低折射率介质层187nm。
[0066]
此外，本实施例中，增透膜2的另一侧面都设有能量增强膜4。
[0067]
在具体实施过程中，采用高精度溅射镀膜机在玻璃基板1上，提高其膜层附着力，使其膜层致密。将滤光片切割成尺寸为1.9mm
×
1.9mm，提高单炉产出率，降低成本。在实际应用中，其参数稳定大于实际应用指标，具体如图2～4所示，为本实施例的滤光片的实测透射、反射光谱图，以及本实施例的滤光片的能谱分析图。
[0068]
进一步地，将本实施例的滤光片搭载在光模块器件上，可形成一种用于高速传输的光模块。
[0069]
相同或相似的标号对应相同或相似的部件；
[0070]
附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制；
[0071]
显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为清楚地说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。