光学层叠体和显示装置的制作方法

1.本发明涉及光学层叠体，进一步涉及包含光学层叠体的显示装置。


背景技术：

2.专利文献1中，记载了一种层叠体，在弯折具有多个粘合剂层的层叠体时，凸侧的最外面的粘合剂层的储能模量与其它的粘合剂层的储能模量基本相同或更小。
3.专利文献2中，公开了一种可以变形的显示器用的粘合剂组合物，其维持常温和高温下的粘接特性的同时即使在
‑
20℃的超低温下也不产生浮动、断裂。
4.现有技术文献
5.专利文献
6.专利文献1：日本特开2018
‑
28573号公报
7.专利文献2：韩国公开专利第10
‑
2019
‑
0069334号公报


技术实现要素：

8.在使包含具有多个粘合剂层的光学层叠体的显示装置弯曲的情况下，光学层叠体中的粘合剂层中有时会产生气泡。
9.本发明的目的在于提供即使弯曲也可以抑制气泡产生的光学层叠体，和包含该光学层叠体的显示装置。
10.本发明提供以下例示的光学层叠体和显示装置。
11.〔1〕一种光学层叠体，依次具有：前面板、使用第1粘合剂组合物形成的第1粘合剂层、偏振板、使用第2粘合剂组合物形成的第2粘合剂层、以及背面板，
12.并且，在使用上述第1粘合剂组合物形成的厚度200μm的第1基准粘合剂层中，将形变反复荷载试验前后的温度25℃的剪切回复率分别设为r1a[％]和r1b[％]，在使用上述第2粘合剂组合物形成的厚度200μm的第2基准粘合剂层中，将形变反复荷载试验前后的在温度25℃的剪切回复率分别设为r2a[％]和r2b[％]时，满足下述的关系式(1)和(2)。
[0013]
δr1＝{(r1a)
‑
(r1b)}/200≤0.2
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)
[0014]
δr2＝{(r2a)
‑
(r2b)}/200≤0.2
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(2)
[0015]
〔2〕根据〔1〕所述的光学层叠体，进一步满足下述的关系式(3)。
[0016]
r1a≤r2a
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(3)
[0017]
〔3〕根据〔1〕或〔2〕所述的光学层叠体，进一步满足下述的关系式(4)。
[0018]
δr1≤δr2
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(4)
[0019]
〔4〕根据〔1〕～〔3〕中任一项所述的光学层叠体，其中，r1a[％]为20％以上。
[0020]
〔5〕根据〔1〕～〔4〕中任一项所述的光学层叠体，其中，上述背面板为触控传感器面板。
[0021]
〔6〕一种显示装置，包含〔1〕～〔5〕中任一项所述的光学层叠体。
[0022]
〔7〕根据〔6〕所述的显示装置，能够以上述前面板侧为内侧进行弯曲。
[0023]
根据本发明，可以提供即使弯曲也可以抑制气泡产生的光学层叠体和显示装置。
附图说明
[0024]
图1为表示本发明涉及的光学层叠体的一个例子的剖面示意图。
[0025]
图2为示意性地表示本发明涉及的光学层叠体的制造方法的剖面图。
[0026]
附图标记说明
[0027]
100层叠体、101前面板、102第1粘合剂层、103偏振板、104第2粘合剂层、105背面板。
具体实施方式
[0028]
以下，参照图例对本发明涉及的光学层叠体的实施方式进行说明，但本发明并不限定于以下实施方式。在以下的所有图例中，为了容易地理解各结构元件，将比例尺适当调节后进行展示，图例中各结构元件的比例尺与实际的结构元件的比例尺不一定一致。
[0029]
＜光学层叠体＞
[0030]
图1示出本发明的一个方式涉及的光学层叠体的剖面示意图。光学层叠体100依次包含前面板101、第1粘合剂层102、偏振板103、第2粘合剂层104、背面板105。第1粘合剂层102由第1粘合剂组合物形成，第2粘合剂层104由第2粘合剂组合物形成。以下，也将第1粘合剂层102和第2粘合剂层104合称为粘合剂层。
[0031]
光学层叠体100的厚度根据光学层叠体所要求的功能和光学层叠体的用途等而不同，因此没有特别限定，例如为30μm～1500μm，优选为40μm～1000μm，更优选为50μm～500μm。
[0032]
光学层叠体100的平面视图形状例如可以为方形形状，优选为具有长边和短边的方形形状，更优选为长方形。光学层叠体100的面方向的形状为长方形的情况下，长边的长度例如可以为10mm～1400mm，优选为50mm～600mm。短边的长度例如可以为5mm～800mm，优选为30mm～500mm，更优选为50mm～300mm。构成光学层叠体100的各层中，角部可以进行r加工，端部可以进行缺口加工、打孔加工。
[0033]
光学层叠体100例如可用于显示装置等。显示装置没有特别限定，例如可举出有机致电发光(有机el)显示装置、无机致电发光(无机el)显示装置、液晶显示装置、电致发光显示装置等。光学层叠体100适用于可以弯曲的显示装置。
[0034]
[剪切回复率和通过形变反复荷载试验的剪切回复率的减少率]
[0035]
使用第1粘合剂组合物形成的厚度200μm的第1基准粘合剂层中，将形变反复荷载试验前后的在温度25℃的剪切回复率分别设为r1a[％]和r1b[％]，使用第2粘合剂组合物形成的厚度200μm的第2基准粘合剂层中，将形变反复荷载试验前后的在温度25℃的剪切回复率分别设为r2a[％]和r2b[％]时，光学层叠体100满足下述的关系式(1)和(2)。
[0036]
δr1＝{(r1a)
‑
(r1b)}/200≤0.2
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)
[0037]
δr2＝{(r2a)
‑
(r2b)}/200≤0.2
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(2)
[0038]
可明确得知：依次层叠前面板、第1粘合剂层、偏振板、第2粘合剂层和背面板的光学层叠体中，在弯曲时粘合剂层中容易产生气泡，特别是在内径侧的粘合剂层中容易产生气泡。满足上述式(1)和(2)的光学层叠体100中，即使弯曲也可以抑制气泡产生，特别是，即
使在弯曲光学层叠体100并维持该状态一定时间的时候，也可以抑制气泡产生。本说明书中，可以抑制气泡产生是指，例如，即使在将光学层叠体100沿直径10mm以下的圆筒状夹具即芯棒(mandrel)弯折并放置24小时的情况下，在粘合剂层中、以及粘合剂层与和粘合剂层相接的层之间也不产生气泡。以下，将这样的性能称为弯曲耐久性优异。气泡的产生可以通过光学显微镜下的观察来判断。
[0039]
本说明书中，“弯曲”中包含弯折部分形成曲面的弯折形态，弯折的内面的弯曲半径没有特别限定。此外，“弯曲”中包含内面的折射角大于0度且小于180度的折射形态，也包含内面的弯曲半径近似于零、或内面的折射角为0度的折叠形态。
[0040]
δr1和δr2是用形变反复荷载试验执行前后的剪切回复率的减少量除以第1基准粘合剂层或第2基准粘合剂层的厚度(200μm)而算出的。
[0041]
由此，可以求出相对于厚度1μm的使用第1粘合剂组合物或第2粘合剂组合物而形成的粘合剂层的、形变反复荷载试验的剪切回复率的减少量。δr1和δr2小，意味着即使进行形变反复荷载试验(加速试验)，粘合剂层的剪切回复率也难以降低。即，δr1和δr2小，可以认为即使进行重复弯曲，粘合剂的凝聚力也难以降低，易于维持粘合剂的性能。
[0042]
光学层叠体100优选满足下述的关系式(1')和(2')。
[0043]
δr1＝{(r1a)
‑
(r1b)}/200≤0.1
ꢀꢀ
(1')
[0044]
δr2＝{(r2a)
‑
(r2b)}/200≤0.1
ꢀꢀ
(2')
[0045]
如果光学层叠体100满足式(1')和(2')，可以使弯曲耐久性进一步提高。δr1和δr2例如可以是0.001以上，也可以是0.003以上。
[0046]
光学层叠体100进一步优选满足下述的关系式(4)。
[0047]
δr1≤δr2
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(4)
[0048]
光学层叠体100更优选满足下述的关系式(4')。
[0049]
δr1＜δr2
ꢀꢀ
(4')
[0050]
如果使光学层叠体100以前面板101为内侧进行弯曲，则内径侧的粘合剂层即第1粘合剂层102中会产生大于第2粘合剂层104的应力。在应力更大的内径侧配置形变反复荷载试验执行前后的剪切回复率的变化量小的粘合剂层，从而可以使光学层叠体100的弯曲耐久性进一步提高。
[0051]
光学层叠体100优选满足下述的关系式(3)。
[0052]
r1a≤r2a
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(3)
[0053]
光学层叠体100更优选满足下述的关系式(3')。
[0054]
r1a＜r2a
ꢀꢀ
(3')
[0055]
如果粘合剂层的剪切回复率大，则在去除形变时，粘合剂层容易恢复原来的形状，如果粘合剂层的剪切回复率小，则在去除形变时，粘合剂层难以恢复原来的形状。为了易于缓和形变，优选作为外径侧的粘合剂层的剪切回复率高于内径侧的粘合剂层的剪切回复率。满足式(3)的光学层叠体100即使在以前面板101为内侧进行弯曲时，也易于抑制气泡产生。粘合剂层的剪切回复率按照后述的实施例一栏中记载的方法而求出。
[0056]
从提高光学层叠体100的表面硬度的观点出发，形变反复荷载试验前的剪切回复率r1a和r2a优选为20％以上，更优选为30％以上，更优选为40％以上。形变反复荷载试验后的剪切回复率r1b和r2b优选为15％以上，更优选为30％以上。上限值没有特别限定，形变反
复荷载试验前的剪切回复率r1a和r2a例如为100％以下，可以为65％以下，也可以小于60％，还可以为55％以下。只要满足式(1)和式(2)，则上限值没有特别限定，形变反复荷载试验后的剪切回复率r1b和r2b例如为50％以下，也可以为40％以下。
[0057]
形变反复试验前的剪切回复率r1a和r2a、以及形变反复试验后的剪切回复率r1b和r2b通过调节构成粘合剂组合物所包含的基础聚合物的单体的种类和配合量、聚合引发剂的种类和配合量、活性能量射线的种类和照射量等，可以设为期望的数值范围。
[0058]
[前面板]
[0059]
前面板101只要是可以透过光的板状体即可，材料和厚度没有限定。前面板101可以仅由1层构成，也可以由2层以上构成。
[0060]
作为前面板101，可举出树脂制的板状体(例如，树脂板、树脂片、树脂膜等)、玻璃制的板状体(例如，玻璃板、玻璃膜等)、树脂制的板状体与玻璃制的板状体的层叠体。前面板101构成显示装置的最外表面。
[0061]
前面板101的厚度例如可以为10μm～300μm，优选为20μm～200μm，更优选为30μm～100μm。本发明中，构成光学层叠体100的各层的厚度可以按照后述的实施例中说明的厚度测定方法进行测定。
[0062]
作为构成树脂制的板状体的树脂，例如可举出三乙酰纤维素、乙酰纤维素丁酸酯、乙烯
‑
乙酸乙烯酯共聚物、丙酰纤维素、丁酰纤维素、乙酰丙酰纤维素、聚酯、聚苯乙烯、聚酰胺、聚醚酰亚胺、聚(甲基)丙烯酸、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯基缩醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚砜、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚酰胺酰亚胺等高分子。这些高分子可以单独使用或将2种以上混合使用。从提高强度和透明性的观点出发，树脂制的板状体优选为由聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺等的高分子形成的树脂膜。
[0063]
从硬度的观点出发，前面板101可以是具备硬涂层的树脂膜。硬涂层可以在树脂膜的一侧的面形成，也可以在两面形成。通过设置硬涂层，从而可以使硬度和耐刮擦性提高。硬涂层例如为紫外线固化型树脂的固化层。作为紫外线固化型树脂，例如可举出丙烯酸系树脂、硅系树脂、聚酯系树脂、聚氨酯系树脂、酰胺系树脂、环氧系树脂等。为了使强度提高，硬涂层也可以包含添加剂。添加剂没有特别限定，可举出无机系微粒、有机系微粒、或这些的混合物。在树脂膜的两面都具有硬涂层的情况下，各硬涂层的组成和厚度可以彼此相同，也可以不同。
[0064]
前面板101为玻璃板的情况下，玻璃板优选使用显示器用强化玻璃。玻璃板的厚度例如可以为10μm～1000μm，也可以为10μm～100μm。通过使用玻璃板，可以构成具有优异的机械强度和表面硬度的前面板101。
[0065]
在将光学层叠体100用于显示装置的情况下，前面板101不仅可以具有保护显示装置的前面(画面)的功能(作为窗膜的功能)，还可以具有作为触控传感器的功能、防蓝光功能、视角调节功能等。
[0066]
[第1粘合剂层]
[0067]
第1粘合剂层102介于前面板101与偏振板103之间，将它们贴合。第1粘合剂层102可以由1层形成，也可以由2层以上形成，但优选由1层形成。
[0068]
第1粘合剂层102可以由以(甲基)丙烯酸系树脂、橡胶系树脂、聚氨酯系树脂、酯系树脂、硅系树脂、聚乙烯醚系树脂为主成分(基础聚合物)的粘合剂组合物构成。作为构成第1粘合剂层102的粘合剂组合物，优选透明性、耐候性、耐热性等优异的以(甲基)丙烯酸系树脂为基础聚合物的粘合剂组合物。粘合剂组合物可以是活性能量射线固化型或热固化型。
[0069]
作为用于粘合剂组合物的(甲基)丙烯酸系树脂，优选使用以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸2
‑
乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯中的1种或2种以上为单体的聚合物或共聚物。基础聚合物中，优选使极性单体共聚。作为极性单体，可举出(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酸2
‑
羟丙基化合物、(甲基)丙烯酸羟乙基化合物、(甲基)丙烯酸酰胺化合物、n,n
‑
二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯化合物、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯化合物等具有羧基、羟基、酰胺基、氨基、环氧基等的单体。
[0070]
活性能量射线固化型粘合剂组合物具有受到紫外线、电子束这样的活性能量射线的照射而固化的性质，还具有可以在活性能量射线照射前就具有粘合性，从而与膜等被粘合体密合，通过活性能量射线的照射而固化来进行密合力的调节的性质。活性能量射线固化型粘合剂组合物优选为紫外线固化型。活性能量射线固化型粘合剂组合物除基础聚合物、交联剂之外，还含有活性能量射线聚合性化合物。根据需要，可以含有光聚合引发剂、光敏剂等。
[0071]
作为活性能量射线聚合性化合物，例如可举出分子内至少具有1个(甲基)丙烯酰氧基的(甲基)丙烯酸酯单体；使2种以上的含官能团化合物反应而得到的、分子内具有至少2个(甲基)丙烯酰氧基的(甲基)丙烯酸酯低聚物等含(甲基)丙烯酰氧基化合物等(甲基)丙烯酸系化合物。如果使用具有环己基的(甲基)丙烯酸系化合物、具有乙氧基的(甲基)丙烯酸系化合物来作为作为活性能量射线聚合性化合物，则易于提高粘合剂层内的凝聚力并满足式(1)和式(2)。作为具有环己基的(甲基)丙烯酸系化合物，例如可举出miwon specialty chemical公司的miramer m1130、miramer m1150等。作为具有乙氧基的(甲基)丙烯酸系化合物例如可举出miwon specialty chemical公司的miramer m140、miramer m142、miramer m144等。相对于粘合剂组合物的固体成分100质量份，粘合剂组合物可以包含0.1质量份以上或5质量份以上的活性能量射线聚合性化合物，可以包含30质量份以下、10质量份以下、5质量份以下或2质量份以下的活性能量射线聚合性化合物。
[0072]
作为光聚合引发剂，例如可举出二苯甲酮、苄基二甲基缩酮、1
‑
羟基环己基酮等。光聚合引发剂可以包含1种或2种以上。如果粘合剂组合物包含光聚合引发剂，其总含量相对于粘合剂组合物的固体成分100质量份，可以是0.01质量份～3.0质量份。
[0073]
粘合剂组合物可以包含赋予光散射性的微粒、珠(树脂珠、玻璃珠等)、玻璃纤维、基础聚合物以外的树脂、粘合性赋予剂、填充剂(金属粉、其他的无机粉末等)、抗氧化剂、紫外线吸收剂、染料、颜料、着色剂、消泡剂、抗腐蚀剂、光聚合引发剂等添加剂。
[0074]
第1粘合剂层102可以将上述粘合剂组合物的有机溶剂稀释液涂布在基材上，进行干燥，从而形成。第1粘合剂层102可以使用粘合片形成，该粘合片是使用粘合剂组合物形成的。使用活性能量射线固化型粘合剂组合物的情况下，通过对形成的粘合剂层照射活性能量射线，可以制成具有期望的固化度的粘合剂层。
[0075]
第1粘合剂层102的厚度没有特别限定，例如优选为1μm～100μm，更优选为3μm～50μm，也可以是20μm以上。
[0076]
[偏振板]
[0077]
偏振板103例如可以是线偏振板、圆偏振板、椭圆偏振板等。圆偏振板具备线偏振板和相位差层。圆偏振板中，为了可以吸收图像显示装置中反射的外光，可以对光学层叠体100赋予作为反射防止膜的功能。
[0078]
偏振板103的厚度通常为5μm以上，可以为20μm以上，也可以为25μm以上，还可以为30μm以上。此外，偏振板103的厚度优选为80μm以下，更优选为60μm以下。
[0079]
(线偏振板)
[0080]
线偏振板具有从自然光等非偏振光的光线中选择性地使某一方向的直线偏振光透过的功能。线偏振板可以具有如下层来作为起偏器层：吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸层；包含聚合性液晶化合物的固化物和二色性色素，二色性色素在聚合性液晶化合物的固化物中分散并取向的液晶层等。如果色素在有各向异性的介质中分散并取向，则从某个方向看是着色的，从与其垂直的方向看基本是无色的。将示出这样的现象的色素称为二色性色素。与吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸层相比，将液晶层用作起偏器层的线偏振板的弯曲方向不受限制，因此优选。
[0081]
(1)作为吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸层的起偏器层
[0082]
作为吸附有二色性色素的拉伸膜的起偏器层通常可以经由如下工序而制造：对聚乙烯醇系树脂膜进行单轴拉伸的工序；用碘等二色性色素对聚乙烯醇系树脂膜进行染色，使该二色性色素吸附的工序；用硼酸水溶液对吸附有二色性色素的聚乙烯醇系树脂膜进行处理的工序；以及，在硼酸水溶液的处理后进行水洗的工序。
[0083]
起偏器层的厚度通常为30μm以下，优选为18μm以下，更优选为15μm以下。使起偏器层的厚度变薄对偏振板103的薄膜化是有利的。起偏器层的厚度通常为1μm以上，例如可以是5μm以上。
[0084]
聚乙烯醇系树脂可以通过将聚乙酸乙烯酯系树脂皂化而得到。作为聚乙酸乙烯酯系树脂，除乙酸乙烯酯的均聚物即聚乙酸乙烯酯之外，还可以使用乙酸乙烯酯与可与其共聚的其它单体的共聚物。作为可与乙酸乙烯酯共聚的其它单体，例如可举出不饱和羧酸系化合物、烯烃系化合物、乙烯醚系化合物、不饱和砜系化合物、具有铵基的(甲基)丙烯酸酰胺系化合物。
[0085]
聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为85摩尔％～100摩尔％左右，优选为98摩尔％以上。聚乙烯醇系树脂可以改性，可以使用醛类改性的聚乙烯甲缩醛、聚乙烯基缩醛等。聚乙烯醇系树脂的聚合度通常为1000～10000，优选为1500～5000。
[0086]
作为吸附有二色性色素的拉伸层的起偏器层通常可以经由如下工序而制造：将包含上述聚乙烯醇系树脂的涂布液在基材膜上涂布工序；对得到的层叠膜进行单轴拉伸的工序；用二色性色素，对单轴拉伸过的层叠膜的聚乙烯醇系树脂层染色，使该二色性色素吸附，制成起偏器层的工序；用硼酸水溶液对吸附有二色性色素的膜进行处理的工序；以及，在硼酸水溶液的处理后进行水洗的工序。为了形成起偏器层而使用的基材膜可以用作起偏器层的保护层。根据需要，可以从起偏器层剥离除去基材膜。基材膜的材料和厚度可以与后述的热塑性树脂膜的材料和厚度相同。
[0087]
作为吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸层的起偏器层可以直接用作线偏振板，也可以在其单面或两面形成保护层后用作线偏振板。作为保护层，可以使用后述的热塑性树
脂膜。得到的线偏振板的厚度优选为2μm～40μm。
[0088]
热塑性树脂膜例如可举出环聚烯烃系树脂膜；由三乙酰纤维素、二乙酰纤维素等树脂形成的乙酸纤维素系树脂膜；由聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯等树脂形成的聚酯系树脂膜；聚碳酸酯系树脂膜；(甲基)丙烯酸系树脂膜；聚丙烯系树脂膜等该领域中公知的膜。起偏器层与保护层经由后述的贴合层而层叠。
[0089]
从薄型化的观点出发，热塑性树脂膜的厚度通常为100μm以下，优选为80μm以下，更优选为60μm以下，进一步优选为40μm以下，更进一步优选为30μm以下，此外，通常为5μm以上，优选为10μm以上。
[0090]
可以在热塑性树脂膜上形成硬涂层。硬涂层可以在热塑性树脂膜的一侧的面形成，也可以在两面形成。通过设置硬涂层，从而可以制成使硬度和耐刮擦性提高的热塑性树脂膜。硬涂层可以与上述的树脂膜中形成的硬涂层同样地形成。
[0091]
(2)作为液晶层的起偏器层
[0092]
为了形成液晶层而使用的聚合性液晶化合物是具有聚合性反应基且显示液晶性的化合物。聚合性反应基是与聚合反应相关的基团，优选为光聚合性反应基。光聚合性反应基是指通过由光聚合引发剂产生的活性自由基、酸等而与聚合反应相关联的基团。作为光聚合性官能基，可举出乙烯基、乙烯氧基、1
‑
氯乙烯基、异丙烯基、4
‑
乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙烷基、环氧丙烷基等。其中，优选丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯氧基、环氧乙烷基和环氧丙烷基，更优选丙烯酰氧基。聚合性液晶化合物的种类没有特别限定，可以使用棒状液晶化合物、圆盘状液晶化合物和这些的混合物。对于聚合性液晶化合物的液晶性而言，液晶性可以是热致液晶也可以是溶致液晶，作为相秩序结构，可以是向列液晶也可以是近晶液晶。
[0093]
作为用于作为液晶层的起偏器层的二色性色素，优选在300～700nm的范围具有最大吸收波长(λmax)。作为这样的二色性色素，例如可举出吖啶色素、恶嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素和蒽醌色素等，其中优选偶氮色素。作为偶氮色素，可举出单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素和茋偶氮色素等，优选为双偶氮色素和三偶氮色素。二色性色素可以单独使用，也可以组合2种以上使用，优选组合3种以上使用。特别优选组合3种以上的偶氮化合物使用。二色性色素的一部分可以具有反应性基团，，此外，也可以具有液晶性。
[0094]
作为液晶层的起偏器层例如可以在形成于基材膜上的取向膜上涂布包含聚合性液晶化合物和二色性色素的起偏器层形成用组合物，使聚合性液晶化合物聚合并固化，从而形成。也可以在基材膜上涂布起偏器层形成用组合物，形成涂膜，将该涂膜与基材膜一并拉伸，形成起偏器层。为了形成起偏器层而使用的基材膜可以用作起偏器层的保护层。基材膜的材料和厚度可以与上述热塑性树脂膜的材料和厚度相同。
[0095]
作为包含聚合性液晶化合物和二色性色素的起偏器层形成用组合物、和使用该组合物的起偏器层的制造方法，可以例示特开2013
‑
37353号公报、特开2013
‑
33249号公报、特开2017
‑
83843号公报等记载的方法。起偏器层形成用组合物除聚合性液晶化合物和二色性色素之外，还可以进一步包含溶剂、聚合引发剂、交联剂、流平剂、抗氧化剂、可塑剂、敏化剂等添加剂。这些成分可以分别使用1种，也可以组合2种以上使用。
[0096]
起偏器层形成用组合物可以含有的聚合引发剂是可以引发聚合性液晶化合物的
聚合反应的化合物，从在更低温条件下可以引发聚合反应的点来考虑，优选光聚合性引发剂。具体而言，可举出由光的作用而产生活性自由基或酸的光聚合引发剂，其中，优选由光的作用而产生自由基的光聚合引发剂。相对于聚合性液晶化合物的总量100质量份，聚合引发剂的含量优选为1质量份～10质量份，更优选为3质量份～8质量份。如果在该范围内，则聚合性基团的反应会充分地进行，且容易使液晶化合物的取向状态稳定化。
[0097]
作为液晶层的起偏器层的厚度通常为10μm以下，优选为0.5μm～8μm，更优选为1μm～5μm。
[0098]
作为液晶层的起偏器层可以不剥离除去基材膜而用作线偏振板，也可以从起偏器层剥离除去基材膜后作为线偏振板。作为液晶层的起偏器层可以具有取向膜，也可以没有。作为液晶层的起偏器层也可以在其单面或两面形成保护层后用作线偏振板。作为保护层可以使用上述的热塑性树脂膜。
[0099]
以起偏器层的保护等为目的，作为液晶层的起偏器层可以在起偏器层的单面或两面具有外涂层。外涂层例如可以在起偏器层上涂布用于形成外涂层的材料(组合物)而形成。作为构成外涂层的材料，例如可举出光固化性树脂、水溶性聚合物等。作为构成外涂层的材料，可以使用(甲基)丙烯酸系树脂、聚乙烯醇系树脂等。
[0100]
(相位差层)
[0101]
相位差层可以是1层，也可以是2层以上。相位差层可以具有保护其表面的外涂层、支承相位差层的基材膜等。相位差层包含λ/4层，可以进一步包含λ/2层或正c层中的至少一种。相位差层包含λ/2层的情况下，自线偏振板侧依次层叠λ/2层和λ/4层。相位差层包含正c层的情况下，可以自线偏振板侧依次层叠λ/4层和正c层，也可以自线偏振板侧依次层叠正c层和λ/4层。相位差层的厚度例如为0.1μm～10μm，优选为0.5μm～8μm，更优选为1μm～6μm。
[0102]
相位差层可以由作为保护层的材料而例示的树脂膜形成，也可以由聚合性液晶化合物固化的层形成。相位差层可以进一步包含取向膜。相位差层可以具有贴合λ/4层、λ/2层和正c层的贴合层。
[0103]
使聚合性液晶化合物固化而形成相位差层的情况下，相位差层可以通过将包含聚合性液晶化合物的组合物涂布在基材膜上并固化，从而形成。可以在基材膜与涂布层之间形成取向层。基材膜的材料和厚度可以与上述热塑性树脂膜的材料和厚度相同。在由使聚合性液晶化合物固化而成的层形成相位差层的情况下，相位差层可以以具有取向层和基材膜的形态与光学层叠体组合。相位差层可以经由后述的贴合层而贴合在与线偏振板的目视侧相反一侧的面上。
[0104]
[第2粘合剂层]
[0105]
第2粘合剂层104介于偏振片103与背面板105之间，将它们贴合。第2粘合剂层104可以是1层，也可以由2层以上形成，但优选为1层。
[0106]
对于构成第2粘合剂层104的粘合剂组合物的组成和配合成分、粘合剂组合物的类型(是否是活性能量射线固化型、热固化型等)、可配合于粘合剂组合物的添加剂、第2粘合剂层的制作方法、第2粘合剂层的厚度等，与上述第1粘合剂层102的说明中所示相同。
[0107]
第2粘合剂层104中，粘合剂组合物的组成和配合成分、厚度等可以与第1粘合剂层102相同，也可以不同。
[0108]
[贴合层]
[0109]
光学层叠体100包含用于将2个层接合的贴合层。贴合层是由粘合剂或粘接剂构成的层。作为贴合层的材料的粘合剂可以使用与构成上述第1粘合剂层102粘合剂组合物相同的粘合剂组合物。
[0110]
贴合层也可以使用其它粘合剂，例如与构成第1粘合剂层102粘合剂不同的(甲基)丙烯酸系粘合剂、苯乙烯系粘合剂、硅系粘合剂、橡胶系粘合剂、聚氨酯系粘合剂、聚酯系粘合剂、环氧系共聚物粘合剂等。
[0111]
作为贴合层的材料的粘接剂，例如可以组合水系粘接剂、活性能量射线固化型粘接剂等中的1种或2种以上而形成。作为水系粘接剂，例如可举出聚乙烯醇系树脂水溶液、水系二液型聚氨酯系乳液粘接剂等。活性能量射线固化型粘接剂是通过照射紫外线等的活性能量射线而固化的粘接剂，例如可举出包含聚合性化合物和光聚合性引发剂的粘接剂，包含光反应性树脂的粘接剂、包含粘结剂树脂和光反应性交联剂的粘接剂等。作为上述聚合性化合物，可举出光固化性环氧系单体、光固化性丙烯酸系单体、光固化性聚氨酯系单体等光聚合性单体、以及来自这些单体的低聚物等。作为上述光聚合引发剂，可举出包含照射紫外线等的活性能量射线而产生中性自由基、阴离子自由基、阳离子自由基这些活性物质的物质的化合物。
[0112]
贴合层的厚度例如可以是1μm以上，优选为1μm～25μm，更优选为2μm～15μm，进一步优选为2.5μm～5μm。
[0113]
经由贴合层而贴合的相对的两个表面可以预先进行电晕处理、等离子处理、火焰处理等，也可以具有底漆层等。
[0114]
[背面板]
[0115]
作为背面板105，可以使用可以透过光的板状体、可用于通常的显示装置的构成要素等。
[0116]
背面板105的厚度例如可以是5μm～2000μm，优选为10μm～1000μm，更优选为15μm～500μm。
[0117]
作为可用于背面板105的板状体，可以仅由1层构成，也可以由2层以上构成。作为背面板105，可以使用前面板101中例示的板状体。
[0118]
作为可用于通常的显示装置的构成要素，例如可举出触控传感器面板、有机el显示元件等。作为显示装置中的构成要素的层叠顺序，例如可举出前面板/圆偏振板/触控传感器面板/有机el显示元件、前面板/触控传感器面板/圆偏振板/有机el显示元件等。背面板105优选为触控传感器面板。
[0119]
(触控传感器面板)
[0120]
触控传感器面板只要是具有能检出触碰位置的传感器(即触控传感器)的面板就没有限定。触控传感器的检出方式没有限定，可例示电阻膜方式、电容耦合方式、光传感方式、超声波方式、电磁感应耦合方式、表面声波方式等的触控传感器面板。从低成本来考虑，优选使用电阻膜方式、电容耦合方式的触控传感器面板。
[0121]
作为电阻膜方式的触控传感器的一个例子，可举出由相互相对配置的一对基板、夹持在这一对基板间的绝缘性垫片、设置在各基板内侧的前面来作为电阻膜的透明导电膜、触碰位置检测回路构成的构件。
[0122]
在设置了电阻膜方式的触控传感器的图像显示装置中，如果触碰前面板的表面，
则相对的电阻膜会短路，电阻膜中有电流流过。触碰位置检测回路可以检测到此时的电压变化，检出触碰的位置。
[0123]
作为电容耦合方式的触控传感器的一个例子，可举出由基板、设置在基板整面的位置检出用透明电极、以及触碰位置检测回路构成的构件。设置了电容耦合方式的触控传感器的图像显示装置中，如果触碰前面板的表面，则可以在触碰的点经由人体的电容而使透明电极接地。触碰位置检测回路可以检测到透明电极的接地，检出触碰的位置。
[0124]
触控传感器面板的厚度例如为5μm～2000μm，优选为5μm～100μm，进一步优选为5μm～50μm，也可以是5μm～20μm。
[0125]
触控传感器面板可以是在基材膜上形成有触控传感器的图案的构件。基材膜的例示可以与上述热塑性树脂膜的说明中的例示相同。此外，触控传感器面板也可以自基材膜经由粘合剂层而转印到被粘物上。即，触控传感器面板也可以没有基材膜。触控传感器图案的厚度例如为1μm～20μm。
[0126]
[光学层叠体的制造方法]
[0127]
光学层叠体100可以通过包含如下工序的方法而制造：经由粘合剂层而使构成光学层叠体100的层彼此贴合的工序。经由粘合剂层、贴合层而使层彼此贴合的情况下，以调节密合力为目的，优选相对于贴合面的一方或两方施加电晕处理等表面活性化处理。电晕处理的条件可以适当设定，贴合面的一侧的面与其它面的条件也可以不同。
[0128]
[显示装置]
[0129]
本发明涉及的显示装置包含上述光学层叠体100。显示装置没有特别限定，例如可举出有机el显示装置、无机el显示装置、液晶显示装置、电致发光显示装置等图像显示装置。对于光学层叠体，可以进一步层叠触控传感器，显示装置也可以具有触碰面板功能。包含本发明的光学层叠体100的显示装置的弯曲耐久性优异，可以用作能弯曲或卷绕等的柔性显示器。
[0130]
显示装置中，光学层叠体100朝向以前面板101为外侧(与显示元件侧为相反侧，即目视侧)，配置在显示装置具有的显示元件的目视侧。显示装置可以以前面板101侧为内侧进行弯曲。
[0131]
作为图像显示装置具有的图像显示元件，例如可举出有机el显示元件、无机el显示元件、液晶显示元件、等离子显示元件、电场发射型显示元件等。
[0132]
本发明涉及的显示装置可用作智能手机和平板电脑等移动设备、电视、数码相框、电子招牌、测定仪器、计量仪器、办公设备、医疗设备、计算机设备等。
[0133]
实施例
[0134]
以下，列举实施例对本发明进行更详细的说明，但本发明并不限定于此。
[0135]
[测定方法]
[0136]
本实施例使用的各物性值(层的厚度、粘合剂层的性质等)的测定方法和计算方法如下所述。
[0137]
＜层的厚度＞
[0138]
使用接触式膜厚测定装置(株式会社尼康制“ms
‑
5c”)进行测定。对于起偏器层和取向膜，使用激光显微镜(奥林巴斯株式会社制“ols3000”)进行测定。
[0139]
＜剪切回复率＞
[0140]
剪切回复率使用粘弹性测定装置(mcr
‑
301、anton paar公司)进行测定。将粘合片裁断为宽度20mm
×
长度20mm，剥去剥离膜，层叠8张厚度25μm的粘合剂层，形成厚度200μm的基准粘合剂层，与玻璃板接合。以与测定芯片粘接的状态，在25℃的温度、normal force1n、torque1200μnm的条件下进行测定，测定1200秒中的剪切变形量，然后，变更为torque0μnm的条件，持续测定，测定1206秒中的剪切变形量。基于这些测定值，根据以下的式子算出剪切回复率r。
[0141]
r＝{(1200秒剪切变形量
‑
1206秒剪切变形量)/1200秒剪切变形量}
×
100[％]
[0142]
＜形变反复荷载试验＞
[0143]
作为加速试验的形变反复荷载试验使用粘弹性测定装置(mcr
‑
301、anton paar公司)进行。将粘合片裁断为宽度20mm
×
长度20mm，剥去剥离膜，层叠8张厚度25μm的粘合剂层，形成厚度200μm的基准粘合剂层，与玻璃板接合。以与上述装置中的测定芯片粘接的状态，在温度25℃、normal force free、频率2hz的条件下，对玻璃板上的基准粘合剂层重复给予0％与1000％的strain(形变)的荷载，持续1000秒。
[0144]
[包含粘合剂层的粘合片的制作]
[0145]
在具备冷却管、氮气导入管、温度計和搅拌机的1l的反应容器中，按表1所示的配合量，投入丙烯酸2
‑
乙基己酯(2
‑
eha)、丙烯酸丁酯(ba)、丙烯酸β羧乙酯(b
‑
cea)、丙烯酸(aa)、甲基丙烯酸缩水甘油酯(gma)、甲基丙烯酸2
‑
羟乙酯(2
‑
hema)的单体混合溶液。使氮气环流1小时，除去容器内的氧，将内温维持在60℃。将上述单体混合溶液均匀地混合后，以表1所示的配合量投入光聚合引发剂苄基二甲基缩酮(i
‑
651)和1
‑
羟基环己基苯酮(i
‑
184)。边搅拌边照射uv灯(10mw)，制造(甲基)丙烯酸系聚合物a1～a6。
[0146]
[表1]
[0147][0148]
将得到的(甲基)丙烯酸系聚合物a1～a6、丙烯酸3,3,5
‑
三甲基环己酯(miramer m1130)、丙烯酸月桂酯(miramer m120)、丙烯酸2
‑
苯氧基乙酯(miramer m140)和1
‑
羟基环己基苯酮(i
‑
184)按表2所示的配合量混合，制造粘合剂组合物b1～b8。
[0149]
[表2]
[0150][0151]
将粘合剂组合物b1～b8以厚度为25μm的方式涂布在涂覆有硅脱模剂的剥离膜a(聚对苯二甲酸乙二酯膜、厚度38μm)上。在其上接合剥离膜b(聚对苯二甲酸乙二酯膜、厚度38μm)，进行uv照射，制作由剥离膜a/粘合剂层/剥离膜b形成的粘合片。uv照射的条件为累积光量400mj/cm2、照度1.8mw/cm2(uvv基准)。
[0152]
表1和表2中的化合物的来源如下所示。
[0153]2‑
eha：东京化成工业株式会社、日本
[0154]
ba：东京化成工业株式会社、日本
[0155]
b
‑
cea：sigma
‑
aldrich公司、美国
[0156]
aa：东京化成工业株式会社、日本
[0157]
gma：sigma
‑
aldrich公司、美国
[0158]2‑
hema：东京化成工业株式会社、日本
[0159]
i
‑
651：basf公司、德国
[0160]
i
‑
184：basf公司、德国
[0161]
miramer m1130：miwon specialty chemical公司、韩国
[0162]
miramer m120：miwon specialty chemical公司、韩国
[0163]
miramer m140：miwon specialty chemical公司、韩国
[0164]
[前面板]
[0165]
作为前面板101，准备在树脂膜一侧的面上形成有硬涂层的膜(50μm)。树脂膜为厚度40μm的聚酰亚胺膜。硬涂层的厚度为10μm，由包含在末端具有多官能丙烯酸基的树枝状化合物的组合物形成。
[0166]
[起偏器层]
[0167]
1)作为基材膜，准备三乙酰纤维素(tac)膜(kc2ua、柯尼卡美能达株式会社制、厚度25μm)。
[0168]
2)将下述所示的聚合物1以浓度5质量％溶解于环戊酮。得到溶液，准备该溶液来作为取向膜形成用组合物。聚合物1由以下的结构单元形成，具有光反应性基团。
[0169][0170]
3)准备起偏器层形成用组合物。
[0171]
首先，作为聚合性液晶化合物，准备式(1
‑
1)表示的聚合性液晶化合物[以下也称为化合物(1
‑
1)]和式(1
‑
2)表示的聚合性液晶化合物[以下也称为化合物(1
‑
2)]。
[0172][0173]
化合物(1
‑
1)和化合物(1
‑
2)按照lub et al.recl.trav.chim.pays
‑
bas、115、321
‑
328(1996)记载的方法合成。
[0174]
作为二色性色素，准备下述式(2
‑
1a)、(2
‑
1b)、(2
‑
3a)表示的日本特开2013
‑
101328号公报的实施例所记载的偶氮色素。
[0175][0176]
起偏器层形成用组合物通过将化合物(1
‑
1)75质量份、化合物(1
‑
2)25质量份、作为二色性染料的上述式(2
‑
1a)、(2
‑
1b)、(2
‑
3a)表示的偶氮色素各2.5质量份、作为聚合引发剂的2
‑
二甲基氨基
‑2‑
苯基
‑1‑
(4
‑
吗啉苯基)丁基
‑1‑
酮(irgacure369、basf japan公司制)6质量份、作为流平剂的聚丙烯酸酯化合物(byk
‑
361n、byk
‑
chemie公司制)1.2质量份在作为溶剂的甲苯400质量份中混合，将得到的混合物在80℃搅拌1小时，从而制备。
[0177]
4)保护层形成用组合物
[0178]
保护层形成用组合物通过将水100质量份、聚乙烯醇树脂粉末(kuraray co.,ltd.制、平均聚合度18000、商品名：kl
‑
318)3质量份、聚酰胺环氧树脂(交联剂、sumika chemtex co.，ltd.制、商品名：sr650(30))1.5质量份混合，从而制备。
[0179]
5)按照下述所示的步骤，制作起偏器层。
[0180]
首先，在基材膜的tac膜侧施加1次电晕处理。电晕处理的条件为输出0.3kw、处理速度3m/分钟。其后，在该tac膜上用棒涂法涂布取向膜形成用组合物，在80℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟。对得到的干燥被膜施加偏振光uv照射处理，形成第1取向膜(al1)。偏振光uv处理在如下条件进行：使从uv照射装置(spot cure sp
‑
7；ushio inc.制)照射的光透过线栅(uis
‑
27132##、ushio inc.制)，在波长365nm测定的累积光量为100mj/cm2。第1取向膜的厚度为100nm。
[0181]
接下来，在第1取向膜上使用棒涂法涂布起偏器层形成用组合物，用120℃的干燥烘箱加热干燥1分钟后，冷却至室温。使用上述uv照射装置，以累积光量1200mj/cm2(365nm基准)对干燥被膜照射紫外线，从而形成起偏器层。得到的起偏器层的厚度为1.8μm。
[0182]
6)在起偏器层上使用棒涂法涂布保护层形成用组合物，使干燥后的厚度为1.0μm，在温度80℃干燥3分钟。以这样的方式得到由“基材膜/起偏器层/外涂层)”形成的线偏振板。
[0183]
[相位差层]
[0184]
1)作为基材膜，准备厚度100μm的聚对苯二甲酸乙二酯(pet)膜。
[0185]
2)取向膜形成用组合物使用与上述取向膜形成用组合物相同的组合物。
[0186]
3)将下述所示的各成分混合，将得到的混合物在80℃搅拌1小时，从而得到相位差层形成用组合物。
[0187]
下述式表示的化合物(b
‑
1)：80质量份
[0188][0189]
下述式表示的化合物(b
‑
2)：20质量份
[0190][0191]
聚合引发剂(irgacure369、2
‑
二甲基氨基
‑2‑
苯基
‑1‑
(4
‑
吗啉苯基)丁基
‑1‑
酮、basf japan公司制)：6质量份
[0192]
流平剂(byk
‑
361n、聚丙烯酸酯化合物、byk
‑
chemie公司制)：0.1质量份
[0193]
溶剂(环戊酮)：400质量份。
[0194]
4)按照下述所示的步骤，制作相位差层。
[0195]
首先，在基材膜上用棒涂法涂布取向膜形成用组合物，在80℃的干燥烘箱中加热干燥1分钟。对得到的干燥被膜施加偏振光uv照射处理，形成第2取向膜。偏振光uv处理使用上述uv照射装置，在波长365nm测定的累积光量为100mj/cm2的条件进行。偏振光uv的偏振光方向以相对于起偏器层的吸收轴为45
°
的方式进行。
[0196]
5)接下来，在第2取向膜上使用棒涂法涂布相位差层形成用组合物，用120℃的干燥烘箱加热干燥1分钟后，冷却至室温。使用上述uv照射装置，以累积光量1000mj/cm2(365nm基准)对得到的干燥被膜照射紫外线，从而形成相位差层。得到的相位差层的厚度为2.0μm。相位差层是在面内方向表示λ/4的相位差值的λ/4板。以这样的方式得到由“基材膜/λ/4相位差层”形成的相位差层。
[0197]
[贴合片]
[0198]
将下述成分在氮气气氛下搅拌并在55℃反应，得到丙烯酸树脂。
[0199]
丙烯酸丁酯：70质量份
[0200]
丙烯酸甲基：20质量份
[0201]
丙烯酸：2.0质量份
[0202]
自由基聚合引发剂(2,2'
‑
偶氮双异丁腈)：0.2质量份。
[0203]
接下来，将下述成分混合，得到贴合层用组合物。
[0204]
丙烯酸树脂：100质量份
[0205]
交联剂(tosoh株式会社制“coronate l”)：1.0质量份
[0206]
硅烷偶联剂(信越化学工业株式会社制“x
‑
12
‑
981”)：0.5质量份。
[0207]
对得到的贴合层用组合物以总固体成分浓度为10质量％的方式添加乙酸乙酯，制备溶液。
[0208]
利用上涂装置，将制备的贴合层用组合物以干燥后的厚度为5μm的方式涂布在脱模处理过的剥离膜a(聚对苯二甲酸乙二酯膜、厚度38μm)上，得到涂布层。将该涂布层在100℃干燥1分钟，得到具备贴合层的膜。其后，在贴合层的露出面上接合脱模处理过的剥离膜b(聚对苯二甲酸乙二酯膜、厚度38μm)。在温度23℃、相对湿度50％rh的条件养护7天，得到具有剥离膜a/贴合层/剥离膜b的层结构的贴合片。
[0209]
[背面板]
[0210]
作为背面板105，准备依次层叠有透明导电层、分离层、粘接剂层和基材层的触控传感器面板。透明导电层包含ito层，分离层包含丙烯酸系树脂组合物的固化层，两者的厚度合计为7μm。粘接剂层的厚度为2μm。基材层为环烯烃(cop)膜(zf
‑
14、日本瑞翁株式会社制、厚度23μm)。
[0211]
[光学层叠体的制作]
[0212]
按照图2(a)～(e)所示的步骤，制造实施例1～5和比较例1的光学层叠体。由表2所示的粘合剂组合物形成的粘合片如表3所示，用作第1粘合剂层或第2粘合剂层。
[0213]
首先，准备包含起偏器层的线偏振板410[基材膜301/起偏器层302/外涂层303]和上述贴合片420(剥离膜a304/贴合层305/剥离膜b306)(图2(a))。在包含起偏器层的线偏振
板410的外涂层303侧、以及贴合片420的将剥离膜a304剥离后的面上施加电晕处理(输出0.3kw、速度3m/分钟)，之后贴合，得到层叠体a430。此外，准备相位差层440[基材膜308/λ/4相位差层307]。(图2(b))。
[0214]
在相位差层440的λ/4相位差层307侧、以及层叠体a430的将剥离膜b306剥离后的面上施加电晕处理(输出0.3kw、速度3m/分钟)，之后贴合，得到圆偏振板450。此外，作为粘合片460(剥离膜a309/粘合剂层310/剥离膜b311)，准备上述制作的粘合片(图2(c))。
[0215]
粘合片460的粘合剂层310相当于第2粘合剂层。
[0216]
在圆偏振板450的将基材膜308剥离后的面、以及粘合片460的将剥离膜a309剥离后的面上施加电晕处理(输出0.3kw、速度3m/分钟)，之后贴合，得到层叠体b470。进而，作为粘合片490(剥离膜a314/粘合剂层315/剥离膜b316)，准备上述制作的粘合片。在将剥离膜a314剥离后的面、以及前面板480(树脂膜313/硬涂层312)的树脂膜313侧上，施加电晕处理(输出0.3kw、速度3m/分钟)，之后贴合，得到层叠体c500(图2(d))。粘合片490的粘合剂层315相当于第1粘合剂层。
[0217]
在层叠体c500的将剥离膜b316剥离的面、以及层叠体b470的基材膜301侧上，施加电晕处理(输出0.3kw、速度3m/分钟)，之后贴合，得到层叠体d510(图2(e))。
[0218]
在层叠有透明导电层317、分离层318、粘接剂层319和基材层320的触控传感器面板520的透明电极层317侧、以及层叠体d510的将剥离膜b311剥离后的面上施加电晕处理(输出0.3kw、速度3m/分钟)，之后贴合，得到光学层叠体。
[0219]
对于实施例1～5和比较例1的光学层叠体，进行下述弯曲性试验和表面硬度试验。结果示于表3。
[0220]
＜弯曲性评价试验＞
[0221]
将各实施例和各比较例的光学层叠体以前面板101侧为内侧进行弯折(弯曲半径1.5mm)、即以相对的前面板之间的距离为3.0mm的方式进行弯折，在温度60℃、湿度90％rh的条件下放置24小时，之后取出，在常温放置30分钟(耐久试验)。
[0222]
在耐久试验结束后，解除光学层叠体的弯折状态。使用supercutter，以弯曲部为正中的方式，从耐久试验后的光学层叠体中切出长度100mm和宽度10mm的试验片。对于该试验片，使用tp技研株式会社制的耐弯曲性试验机(圆筒法芯棒法)，以试验片中的前面板为内侧的方式，将试验片卷绕在圆筒状的芯棒(mandrel)的周围，在温度25℃，使试验片沿长度方向弯曲，进行弯曲性评价试验(芯棒试验)。
[0223]
由此，求出在试验片的粘合剂层中不产生气泡的芯棒的最小直径，基于以下的基准分出等级。在弯曲性评价试验中，该最小直径的值越小，则可以评价粘合剂层的弯曲耐久性越优异。
[0224]
a：在卷绕于直径(φ)10mm以下的芯棒的情况下，粘合剂层中产生气泡。
[0225]
b：在卷绕于超过φ10mm且φ15mm以下的芯棒的情况下，粘合剂层中产生气泡。
[0226]
c：在卷绕于超过φ15mm且φ20mm以下的芯棒的情况下，粘合剂层中产生气泡。
[0227]
d：在卷绕于超过φ20mm的芯棒的情况下，粘合剂层中产生气泡。
[0228]
＜表面硬度评价试验＞
[0229]
将各实施例和各比较例的光学层叠体以前面板101侧为内侧进行弯折(弯曲半径1.5mm)、即以相对的前面板之间的距离为3.0mm的方式进行弯折，在温度60℃、湿度90％rh
的条件下放置24小时，之后取出，在常温放置30分钟(耐久试验)。
[0230]
对于耐久试验后的光学层叠体的弯曲部中的前面板101侧的表面，使用铅笔硬度试验机(pht、韩国sokubo科学(sukbo science)公司制)，在温度25℃。使用荷载100g荷重状态的铅笔(三菱铅笔株式会社制、芯的硬度为6b)在上述表面形成凹部痕。其后，测定直到凹部痕消失为止的时间，基于以下的基准划分等级，评价各实施例和各比较例的光学层叠体的表面硬度。在该表面硬度试验中，直到凹部痕消失为止的时间越短，可以评价为表面硬度性越优异。
[0231]
a：在小于30分钟时凹部痕消失。
[0232]
b：在30分钟以上且小于60分钟时，凹部痕消失。
[0233]
c：在60分钟以上且小于90分钟时，凹部痕消失。
[0234]
d：即使经过90分钟，凹部痕也没有消失。
[0235]
[表3]
[0236]