匀光器、发射模组、电子设备及用于光学元件的防伪结构的制作方法

1.本技术涉及匀光器防伪技术领域，具体涉及一种匀光器、发射模组、电子设备及用于光学元件的防伪结构。


背景技术：

2.匀光器是一类能将输入光束变换成特定输出光束的微光学元件，能生成特定需求的光斑形状和能量分布。匀光器在飞行时间发射器中具有重要的作用，飞行时间发射器所发出的光束进入匀光器的微结构之后，投影出各种光场分布。匀光器通常在非光学区压印标识以实现防伪功能。
3.在实现本技术的过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：匀光器被切割成小颗产品以使该小颗产品上不具有压印标识，从而将该小颗产品进行盗用，给匀光器的生产者造成经济损失。


技术实现要素：

4.鉴于以上内容，有必要提出一种匀光器、发射模组、电子设备及用于光学元件的防伪结构，以解决技术问题：匀光器被切割成小颗产品以使该小颗产品上不具有压印标识，从而将该小颗产品进行盗用，给匀光器的生产者造成经济损失。
5.本技术提供一种匀光器，包括：
6.基体，具有一出光面；
7.多个微透镜，设于所述出光面以构成匀光区；
8.所述匀光区内设置有至少一防伪区，所述防伪区由位于所述出光面的一虚拟轨迹线限定；
9.与所述虚拟轨迹线相邻的微透镜的顶点在所述出光面的投影向所述虚拟轨迹线偏移；与所述虚拟轨迹线不相邻的微透镜的顶点在所述出光面的投影按照初始规则分布，所述初始规则用于使得与所述虚拟轨迹线不相邻的微透镜具有匀光效果。
10.上述匀光器，通过在基体的出光面上设置多个微透镜以构成匀光区，匀光区内设置有至少一防伪区，防伪区由位于出光面的虚拟轨迹线限定，与虚拟轨迹线相邻的微透镜的顶点在出光面的投影向虚拟轨迹线偏移，与虚拟轨迹线相邻的微透镜之间会形成密集交接，该密集交接的边界被光源照射时会产生较强的散射效果，在视觉上会与其他非密集交接的区域明显不同，从而使得匀光器在匀光区内形成防伪区，在被切割盗用时，如果想保留匀光器的光学效果，就必然会有防伪区被保留，从而保证被盗用的匀光器能够被检测到，进而遏制盗用行为，保证匀光器生产者的经济效益。
11.在一些实施例中，所述初始规则为与所述虚拟轨迹线不相邻的微透镜的顶点在所述出光面的投影为随机偏移。
12.如此，通过初始规则，使得与虚拟轨迹线不相邻的微透镜具有匀光效果，且匀光器具有较好的投影光场的效果，避免匀光器所投影出来的光场出现衍射叠影的条纹现象
13.在一些实施例中，与所述虚拟轨迹线不相邻的微透镜为第一微透镜；
14.与所述虚拟轨迹线相邻的微透镜分别为第二微透镜和第三微透镜，所述第二微透镜和所述第三微透镜分别位于所述虚拟轨迹线的两侧；
15.所述匀光器满足以下条件式：
16.0.3《a/b《0.4；
17.其中，a为所述第二微透镜或所述第三微透镜的顶点在所述出光面的投影与所述虚拟轨迹线之间的距离，b为相邻两个所述第一微透镜的顶点在所述出光面的投影之间的距离的平均值。
18.如此，匀光器通过满足上述条件式，使得第二微透镜和第三微透镜之间能够产生较强的散射效果，在视觉上与第一微透镜所形成的匀光区产生明显不同，第二微透镜和第三微透镜所形成的防伪区的防伪特征明显，易于被检测。
19.在一些实施例中，所述匀光器还满足以下条件式：
20.c》b；
21.其中，c为与所述第二微透镜相邻的所述第一微透镜的顶点在所述出光面的投影与所述第二微透镜的顶点在所述出光面的投影之间的距离，或，c为与所述第三微透镜相邻的所述第一微透镜的顶点在所述出光面的投影与所述第三微透镜的顶点在所述出光面的投影之间的距离。
22.如此，匀光器通过满足上述条件式，防伪区与匀光区的交界处为非密集交接，不易产生较强的散射效果，防伪区与匀光区容易被区分，防伪区的特征明显，易于被检测。
23.在一些实施例中，所述第二微透镜与所述第三微透镜的数量相等且一一对应设置于所述虚拟轨迹线的两侧。
24.如此，通过第二微透镜与第三微透镜一一对应设置于虚拟轨迹线的两侧，第二微透镜与第三微透镜所交接的边界更为密集，容易产生更强的散射效果，防伪区的特征明显。
25.在一些实施例中，所述多个微透镜在所述出光面的投影为不规则多边形。
26.如此，匀光器通过满足上述条件，匀光器所投影出的光场分布的形状种类丰富，能够适应多种要求。
27.在一些实施例中，所述多个微透镜在所述出光面呈阵列排布。
28.如此，匀光器易于加工成型，产品良率高。
29.本技术同时提供一种发射模组，包括如上所述的匀光器。
30.上述发射模组，通过在匀光器的基体的出光面上设置多个微透镜以构成匀光区，匀光区内设置有至少一防伪区，防伪区由位于出光面的虚拟轨迹线限定，与虚拟轨迹线相邻的微透镜的顶点在出光面的投影向虚拟轨迹线偏移，与虚拟轨迹线相邻的微透镜之间会形成密集交接，该密集交接的边界被光源照射时会产生较强的散射效果，在视觉上会与其他非密集交接的区域明显不同，从而使得匀光器在匀光区内形成防伪区，在被切割盗用时，如果想保留匀光器的光学效果，就必然会有防伪区被保留，从而保证被盗用的匀光器能够被检测到，进而盗用行为，保证匀光器生产者的经济效益。
31.本技术还提供一种电子设备，包括如上所述的发射模组。
32.上述电子设备，通过在匀光器的基体的出光面上设置多个微透镜以构成匀光区，匀光区内设置有至少一防伪区，防伪区由位于出光面的虚拟轨迹线限定，与虚拟轨迹线相
邻的微透镜的顶点在出光面的投影向虚拟轨迹线偏移，与虚拟轨迹线相邻的微透镜之间会形成密集交接，该密集交接的边界被光源照射时会产生较强的散射效果，在视觉上会与其他非密集交接的区域明显不同，从而使得匀光器在匀光区内形成防伪区，在被切割盗用时，如果想保留匀光器的光学效果，就必然会有防伪区被保留，从而保证被盗用的匀光器能够被检测到，进而遏制盗用行为，保证匀光器生产者的经济效益。
33.本技术还提供一种用于光学元件的防伪结构，包括：
34.一虚拟平面及一位于所述虚拟平面的虚拟轨迹线；
35.位于所述虚拟平面的多个微透镜，所述多个微透镜位于所述虚拟轨迹线的两侧且分别与所述虚拟轨迹线相邻，所述多个微透镜的顶点在所述虚拟平面的投影向所述虚拟轨迹线偏移。
36.上述用于光学元件的防伪结构，通过使多个微透镜的顶点在虚拟平面的投影分别朝向虚拟轨迹线偏移，多个微透镜在虚拟轨迹线处会形成密集交接的边界，该密集交接的边界被光源照射时会产生较强的散射效果，在视觉上会与其他非密集交接的区域明显不同，从而使得该防伪结构用于光学元件如匀光器时会在匀光器的光学区内形成防伪区，在被切割盗用时，如果想保留匀光器的光学效果，就必然会有防伪区被保留，从而保证被盗用的匀光器能够被检测到，进而遏制盗用行为，保证匀光器生产者的经济效益。
附图说明
37.图1是本技术第一实施例提供的匀光器的部分结构主视示意图。
38.图2是本技术第一实施例提供的匀光器的部分结构排布示意图。
39.图3是图2所示的排布简化示意图。
40.图4是本技术第二实施例提供的匀光器的部分结构排布简化示意图。
41.图5是本技术第三实施例提供的匀光器的部分结构排布简化示意图。
42.图6是本技术第四实施例提供的匀光器的部分结构排布简化示意图。
43.图7是本技术第五实施例提供的用于光学元件的防伪结构的排布简化示意图。
44.图8是本技术第六实施例提供的发射模组的示意图。
45.图9是本技术第七实施例提供的电子设备的示意图。
46.主要元件符号说明
47.电子设备
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
1000
48.发射模组
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100
49.匀光器
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10、20、30、40
50.基体
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11
51.出光面
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112
52.入光面
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114
53.匀光区
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12
54.防伪区
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13
55.第一微透镜
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14
56.第二微透镜
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15
57.第三微透镜
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16
58.虚拟轨迹线
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17
59.防伪结构
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52
60.虚拟平面
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522
61.光源
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60
62.壳体
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200
63.接收模组
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
300
具体实施方式
64.为了能够更清楚地理解本技术的目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施例对本技术进行详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术的实施例及实施例中的特征可以相互结合。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术，所述描述的实施例仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
65.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
66.除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
67.本技术实施例提供一种匀光器，包括：
68.基体，具有一出光面；
69.多个微透镜，设于出光面以构成匀光区；
70.匀光区内设置有至少一防伪区，防伪区由位于出光面的一虚拟轨迹线限定；
71.与虚拟轨迹线相邻的微透镜的顶点在出光面的投影向虚拟轨迹线偏移；与虚拟轨迹线不相邻的微透镜的顶点在出光面的投影按照初始规则分布，初始规则用于使得与虚拟轨迹线不相邻的微透镜具有匀光效果。
72.本技术实施例同时提供一种发射模组，包括如上所述的匀光器。
73.本技术实施例还提供一种电子设备，包括如上所述的发射模组。
74.上述匀光器、发射模组、电子设备，通过在基体的出光面上设置多个微透镜以构成匀光区，匀光区内设置有至少一防伪区，防伪区由位于出光面的虚拟轨迹线限定，与虚拟轨迹线相邻的微透镜的顶点在出光面的投影向虚拟轨迹线偏移，与虚拟轨迹线相邻的微透镜之间会形成密集交接，该密集交接的边界被光源照射时会产生较强的散射效果，在视觉上会与其他非密集交接的区域明显不同，从而使得匀光器在匀光区内形成防伪区，在被切割盗用时，如果想保留匀光器的光学效果，就必然会有防伪区被保留，从而保证被盗用的匀光器能够被检测到，进而遏制盗用行为，保证匀光器生产者的经济效益。
75.本技术实施例还提供一种用于光学元件的防伪结构，包括：
76.一虚拟平面及一位于虚拟平面的虚拟轨迹线；
77.位于虚拟平面的多个微透镜，多个微透镜位于虚拟轨迹线的两侧且分别与虚拟轨
迹线相邻，多个微透镜的顶点在虚拟平面的投影向虚拟轨迹线偏移。
78.上述用于光学元件的防伪结构，通过使多个微透镜的顶点在虚拟平面的投影分别朝向虚拟轨迹线偏移，多个微透镜在虚拟轨迹线处会形成密集交接的边界，该密集交接的边界被光源照射时会产生较强的散射效果，在视觉上会与其他非密集交接的区域明显不同，从而使得该防伪结构用于光学元件如匀光器时会在匀光器的光学区内形成防伪区，在被切割盗用时，如果想保留匀光器的光学效果，就必然会有防伪区被保留，从而保证被盗用的匀光器能够被检测到，进而遏制盗用行为，保证匀光器生产者的经济效益。
79.下面结合附图，对本技术的一些实施方式作详细说明。
80.请参见图1，为本技术第一实施例提供的匀光器的部分结构主视示意图。匀光器10包括基体11及多个微透镜。
81.请一并参见图2，基体11具有一出光面112；多个微透镜设于出光面112以构成匀光区12；匀光区12内设置有至少一防伪区13，防伪区13由位于出光面112的一虚拟轨迹线17限定；与虚拟轨迹线17相邻的微透镜的顶点在出光面112的投影向虚拟轨迹线17偏移；与虚拟轨迹线17不相邻的微透镜的顶点在出光面112的投影按照初始规则分布，初始规则用于使得与虚拟轨迹线17不相邻的微透镜具有匀光效果。其中，“向虚拟轨迹线17偏移”也可以理解为向虚拟轨迹线17靠近。
82.上述匀光器10，通过在基体11上设置多个微透镜以构成匀光区12，匀光区12内设置有至少一防伪区13，防伪区13由位于出光面112的虚拟轨迹线17限定，与虚拟轨迹线17相邻的微透镜的顶点在出光面112的投影向虚拟轨迹线17偏移，与虚拟轨迹线17相邻的微透镜之间会形成密集交接，虚拟轨迹线17也可以理解为该密集交接的边界，该密集交接的边界被光源照射时会产生较强的散射效果，在视觉上会与其他非密集交接的区域明显不同，从而使得该匀光器10在匀光区12内形成防伪区13，该匀光器10被切割盗用时，如果想保留该匀光器10的光学效果，就必然会有防伪区13被保留，从而保证被盗用的匀光器10能够被检测到，进而遏制盗用行为，保证匀光器10生产者的经济效益。
83.需要说明的是，匀光器10在使用过程中需要看匀光器10的整体匀光效果，匀光效果主要依靠匀光器10的匀光区12投影光场分布形成。在基体11上，防伪区13所占的出光面112的区域相对匀光区12所占的出光面112的区域较小，匀光区12的整体匀光效果可以保证匀光器10不受防伪区13的影响。
84.可以理解地，至少一防伪区13构成匀光器10的防伪印记，该防伪印记可以仅有一个防伪区13形成，也可以由两个或两个以上的防伪区13组合形成。有两个或两个以上的防伪区13时，防伪区13之间可以相互连接、首尾连接，也可以分开设置，可以理解为每个防伪区13的虚拟轨迹线17之间可以相互连接、首尾连接，也可以分开设置。
85.为了便于说明，本技术中，与虚拟轨迹线17不相邻的微透镜定义为第一微透镜14；与虚拟轨迹线17相邻的微透镜分别定义为第二微透镜15和第三微透镜16，第二微透镜15和第三微透镜16分别位于虚拟轨迹线17的两侧。
86.基体11大致为板状，基体11的材质具有高透光率，例如高于90％的透光率。基体11的材质可以为玻璃、塑料中的任一者。
87.第一微透镜14、第二微透镜15及第三微透镜16的材质具有高透过率，例如高于90％的透过率。各微透镜的材质可以为玻璃、塑料、光学胶中的任一者。
88.本实施例中，第一微透镜14、第二微透镜15及第三微透镜16远离出光面112的一面为凸面，第一微透镜14的凸面的顶点、第二微透镜15的凸面的顶点及第三微透镜16的凸面的顶点可以处于同一平面，也可以处于不同平面，该平面指平行于出光面112的面。
89.可以理解地，在其他的实施例中，第一微透镜14远离出光面112的一面也可以为凹面，凹面的最低点也可以理解为顶点。
90.在一些实施方式中，初始规则为第一微透镜14的顶点在出光面112的投影为随机偏移。对应地，第二微透镜15的顶点在出光面112的投影向虚拟轨迹线17偏移，第三微透镜16的顶点在出光面112的投影向虚拟轨迹线17偏移。如此，通过初始规则，使得与虚拟轨迹线17不相邻的微透镜具有匀光效果，且匀光器10具有较好的投影光场的效果，避免匀光器10所投影出来的光场出现衍射叠影的条纹现象。
91.请继续参见图1，在一些实施方式中，为了保证防伪区13与匀光区12之间能够被容易区分，匀光器10满足以下条件式：
92.0.3《a/b《0.4；其中，a为第二微透镜15或第三微透镜16的顶点在出光面112的投影与虚拟轨迹线17之间的距离，b为相邻两个第一微透镜14的顶点在出光面112的投影之间的距离的平均值。需要说明的是，多个第一微透镜14可以形成n对相邻两个第一微透镜14，n为整数，则b可以理解为n对相邻两个第一微透镜14的距离之和与n的比值。
93.如此，匀光器10通过满足上述条件式，使得第二微透镜15和第三微透镜16所形成的密集交接的边界能够产生较强的散射效果，在视觉上与多个第一微透镜14所形成的匀光区12产生明显不同，虚拟轨迹线17、第二微透镜15和第三微透镜16所形成的防伪区13的防伪特征明显，易于被检测。然而，当a/b的值小于0.3时，第二微透镜15和第三微透镜16的顶点在出光面112的投影与虚拟轨迹线17之间的距离偏小，第二微透镜15和第三微透镜16不易被加工。当a/b的值大于0.4时，第二微透镜15和第三微透镜16的顶点在出光面112的投影与虚拟轨迹线17之间的距离偏大，第二微透镜15和第三微透镜16在虚拟轨迹线17处所形成的交接边界不够密集，无法与第一微透镜14所形成的匀光区12明显区分，防伪特征不明显，不易被检测。
94.可以理解地，a/b的值可以为0.3、0.31、0.32、0.33、0.34、0.35、0.36、0.37、0.38、0.39、0.4等。
95.在一些实施方式中，为了使得防伪区13与匀光区12之间能够被进一步区分，匀光器10还满足以下条件式：
96.c》b；其中，c为与第二微透镜15相邻的第一微透镜14的顶点在出光面112的投影与第二微透镜15的顶点在出光面112的投影之间的距离，或，c为与第三微透镜16相邻的第一微透镜14的顶点在出光面112的投影与第三微透镜16的顶点在出光面112的投影之间的距离。
97.如此，匀光器10通过还满足上述条件式，使得防伪区13与匀光区12的交接处为非密集交接，该交接处不易产生较强的散射效果，防伪区13与匀光区12容易被区分，防伪区13的特征明显，易于被检测。然而，当c《b时，第二微透镜15或第三微透镜16的顶点在出光面112的投影与相邻的第一微透镜14的顶点在出光面112的投影之间的距离偏小，防伪区13与匀光区12的交接处可能会形成密集交接，使得防伪区13与匀光区12不易被区分，防伪区13的特征不明显，不易被检测。
98.请一并参见图3，其中，为了便于说明，图3中的“0”表示第一微透镜14，“1”表示第二微透镜15，
“‑
1”表示第三微透镜16，虚拟轨迹线17用虚拟线段表示，“1”和
“‑
1”还用于表示第二微透镜15和第三微透镜16的顶点在出光面112的投影向虚拟轨迹线17偏移。也可以理解为在一些实施方式中，第二微透镜15和第三微透镜16的顶点在出光面112的投影相互靠近。
99.在一些实施方式中，第二微透镜15与第三微透镜16的数量相等且一一对应设置于对应虚拟轨迹线17的两侧，即每个第二微透镜15均有一个对应的第三微透镜16。如此，虚拟轨迹线17两侧的微透镜的数量较多，第二微透镜15与第三微透镜16在虚拟轨迹线17处所交接的边界更为密集，容易产生更强的散射效果，防伪区13的特征更为明显。
100.可以理解地，在其他的实施方式中，虚拟轨迹线17两侧的第二微透镜15和第三微透镜16也可以为错位分布。
101.多个第一微透镜14的顶点在出光面112的投影按照初始规则分布。具体地，在匀光器10的设计中，通过控制矩阵来判定，控制矩阵中值为“0”的第一微透镜14的顶点使用随机的偏移量进行设计；控制矩阵中值为“1”的第二微透镜15和值为
“‑
1”的第三微透镜16使用制定的偏移量进行设计。如此，与虚拟轨迹线17相邻的微透镜的顶点使用固定且相反的偏移量，则该相邻的微透镜的顶点在出光面112的投影就会朝虚拟轨迹线17偏移。
102.本实施例中，可以通过纳米压印的工艺将多个第一微透镜14、多个第二微透镜15及多个第三微透镜16压印于基体11的出光面112上，多个第一微透镜14、多个第二微透镜15及多个第三微透镜16呈阵列排布。如此，匀光器10易于被加工成型，产品良率高。
103.具体地，多个第一微透镜14、多个第二微透镜15及多个第三微透镜16可通过压印的方式在基体11上形成，例如通过热塑成型的方式，使基体11在加热软化的情况下，通过气体压力、液体压力或机械压力，并采用适当的模具或夹具在该表面上压印形成多个第一微透镜14、多个第二微透镜15及多个第三微透镜16。或者，也可在基体11的出光面112设置光学胶，通过模组压印光学胶并对光学胶进行固化的方式形成具有预期面型的微透镜和具有预期偏移量的顶点。实际具体的微透镜的制备方法并不限于以上描述。
104.其中，对于热塑成型的方式，基体11和各微透镜可以理解为一体压印成型，各微透镜与基体11可以理解为一体连接的结构。对于在基体11的出光面112设置光学胶的方式，基体11与各微透镜之间存在一个可分辨的分界面，基体11与各微透镜的材质可以相同，也可以不相同。
105.本实施例中，多个第一微透镜14、多个第二微透镜15及多个第三微透镜16在出光面112的投影为不规则多边形。如此，多个第一微透镜14、多个第二微透镜15及多个第三微透镜16通过满足上述条件，可控制匀光器10所投影出的光场分布的形状，匀光器10所投影出的光场分布的形状种类丰富，能够适应多种要求。
106.在一些实施方式中，第一微透镜14、第二微透镜15及第三微透镜16在出光面112的投影形状可以为不规则的四边形、五边形、六边形等不规则形状。第一微透镜14、第二微透镜15及第三微透镜16在出光面112的投影形状可以相同，也可以不相同。
107.可以理解地，在其他的实施方式中，第一微透镜14、第二微透镜15及第三微透镜16在出光面112的投影形状也可以为规则的矩形、三边形、四边形、五边形、六边形、圆形、椭圆形等规则形状。
108.在一些实施方式中，防伪区13的数量为多个，虚拟轨迹线17为多条，每条虚拟轨迹线17的两侧均设置有第二微透镜15和第三微透镜16，第二微透镜15和第三微透镜16的顶点在出光面112的投影向对应的虚拟轨迹线17偏移，多条虚拟轨迹线17、多个第二微透镜15和多个第三微透镜16相互配合以大致形成“口”字。
109.可以理解地，在其他的实施方式中，多条虚拟轨迹线17、多个第二微透镜15和多个第三微透镜16还可以相互配合以形成其他形状的防伪区13。
110.请参见图4，本技术第二实施例提供了一种匀光器。本实施例提供的匀光器20与第一实施例提供的匀光器10的结构大致相似，不同之处在于：本实施例中，防伪区13的数量为一个，虚拟轨迹线17为连续的，虚拟轨迹线17大致为“f”，虚拟轨迹线17的两侧分别对应设置有第二微透镜15和第三微透镜16，第二微透镜15和第三微透镜16的顶点在出光面112的投影向虚拟轨迹线17偏移，虚拟轨迹线17、多个第二微透镜15和多个第三微透镜16相互配合以大致形成字母“f”。
111.请参见图5，本技术第三实施例提供了一种匀光器。本实施例提供的匀光器30与第一实施例提供的匀光器10的结构大致相似，不同之处在于：本实施例中，防伪区13的数量为多个，虚拟轨迹线17的数量为多条，每条虚拟轨迹线17的两侧均设置有第二微透镜15和第三微透镜16，第二微透镜15和第三微透镜16的顶点在出光面112的投影向对应的虚拟轨迹线17偏移。本实施例中，多条虚拟轨迹线17、多个第二微透镜15和多个第三微透镜16相互配合以大致形成“口”字。
112.请参见图6，本技术第四实施例提供了一种匀光器。本实施例提供的匀光器40与第一实施例提供的匀光器10的结构大致相似，不同之处在于：本实施例中，防伪区13的数量为一个，虚拟轨迹线17的数量为一条，虚拟轨迹线17的两侧错位设置有第二微透镜15和第三微透镜16，第二微透镜15和第三微透镜16的顶点在出光面112的投影向该虚拟轨迹线17偏移。本实施例中，虚拟轨迹线17、多个第二微透镜15及多个第三微透镜16相互配合以大致形成数字“1”或字母“i”。
113.请参见图7，本技术第五实施例提供了一种用于光学元件的防伪结构，该防伪结构52可用于匀光器，使得匀光器在具有光学效果的基础上还具有防伪效果，遏制匀光器被切割盗用的现象。防伪结构52包括一虚拟平面522、一虚拟轨迹线17及多个微透镜。
114.虚拟轨迹线17位于虚拟平面522上；多个微透镜位于虚拟平面522上，多个微透镜位于虚拟轨迹线17的两侧且分别与该虚拟轨迹线17相邻，多个微透镜的顶点在虚拟平面522的投影向虚拟轨迹线17偏移。为了便于说明，本实施例中，虚拟轨迹线17两侧的微透镜分别定义为第二微透镜15和第三微透镜16。
115.上述用于光学元件的防伪结构52，通过使多个微透镜的顶点在虚拟平面522的投影分别朝向虚拟轨迹线17偏移，多个微透镜在虚拟轨迹线17处会形成密集交接的边界，该密集交接的边界被光源照射时会产生较强的散射效果，在视觉上会与其他非密集交接的区域明显不同，从而使得该防伪结构52用于光学元件如匀光器时会在匀光器的匀光区12内形成防伪区13，匀光器在被切割盗用时，如果想保留匀光器的光学效果，就必然会有防伪区13被保留，从而保证被盗用的匀光器能够被检测到，进而遏制盗用行为，保证匀光器生产者的经济效益。
116.本实施例中，该防伪结构52可通过热塑成型的方式在一基体11上形成，也可以通
过在一基体11上设置光学胶形成。
117.请参见图8，本技术第六实施例提供了一种发射模组。发射模组100包括第一实施例至第四实施例中的任一匀光器以及一光源40，发射模组100可用于3d人脸识别。本实施例以第一实施例中的匀光器10为例进行说明。本实施例中，基体11还包括背离出光面112的入光面114，光源40与入光面114相对设置，光源40所发出的光束经入光面114入射至基体11，并从基体11的出光面112出射，出射后的光束经多个微透镜14的反射、散射、折射、衍射等作用后，投影出光场分布，且该匀光器10具有防伪效果。
118.上述发射模组100，通过在匀光器10的基体的出光面112上设置多个微透镜以构成匀光区12，匀光区12内设置有至少一防伪区13，防伪区13由位于出光面112的虚拟轨迹线17限定，与虚拟轨迹线17相邻的微透镜的顶点在出光面112的投影向虚拟轨迹线17偏移，与虚拟轨迹线17相邻的微透镜之间会形成密集交接，该密集交接的边界被光源照射时会产生较强的散射效果，在视觉上会与其他非密集交接的区域明显不同，从而使得匀光器10在匀光区12内形成防伪区13，发射模组100中的匀光器10在被切割盗用时，如果想保留匀光器10的光学效果，就必然会有防伪区13被保留，从而保证被盗用的匀光器10能够被检测到，进而遏制盗用行为，保证匀光器10生产者的经济效益。
119.本实施例中，发射模组100为飞行时间(tof，time of flight)发射器，光源40为垂直腔面发射激光器(vcsel，vertical cavity surface emitting laser)，垂直腔面发射激光器发出的光束进入匀光器10的微结构之后，投影出各种光场分布。其中，防伪区13与匀光区12之间会产生明显的差异，从而使得防伪区13所形成的防伪标识能够被检测到，发射模组100的匀光器10具有防伪效果。
120.可以理解地，在其他的实施例中，光源40还可以为发光二极管(led)、有机发光二极管(oled)等可以发出光束的元件。
121.请参见图9，本技术第七实施例提供了一种电子设备。电子设备1000包括壳体200、第六实施例中的发射模组100以及接收模组300，发射模组100和接收模组300设置于壳体200内，接收模组300用于接收发射模组100照射至被识别物并被反射的光场分布，从而获取被识别物的表面轮廓信息。
122.上述电子设备1000，通过在匀光器10的基体的出光面112上设置多个微透镜以构成匀光区12，匀光区12内设置有至少一防伪区13，防伪区13由位于出光面112的虚拟轨迹线17限定，与虚拟轨迹线17相邻的微透镜的顶点在出光面112的投影向虚拟轨迹线17偏移，与虚拟轨迹线17相邻的微透镜之间会形成密集交接，该密集交接的边界被光源照射时会产生较强的散射效果，在视觉上会与其他非密集交接的区域明显不同，从而使得匀光器10在匀光区12内形成防伪区13，在电子设备1000中的匀光器10被切割盗用时，如果想保留匀光器10的光学效果，就必然会有防伪区13被保留，从而保证被盗用的匀光器10能够被检测到，进而遏制盗用行为，保证匀光器10生产者的经济效益。
123.本实施例中，电子设备1000包括但不限于手机、笔记本电脑、智能手环等具有3d人脸识别的设备。可以理解地，当电子设备1000为手机、笔记本电脑、智能手环等具有3d人脸识别的设备时，发射模组100可以为电子设备1000的前置摄像头的一部分结构。
124.对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论
从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化涵括在本技术内。
125.最后应说明的是，以上实施例仅用以说明本技术的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本技术进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本技术的技术方案进行修改或等同替换，而不脱离本技术技术方案的精神和范围。