技术特征：
1.一种用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：包括，曝光工位(1)，所述曝光工位(1)包括平行光光源(11)以及掩模版(12)，所述平行光光源(11)设置在掩模版(12)上方；氧气隔离机构(2)，所述氧气隔离机构(2)设置在掩模版(12)的下方，所述氧气隔离机构(2)包括气管(21)以及喷嘴(22)，所述气管(21)固定连接喷嘴(22)，所述喷嘴(22)能够喷出惰性气体，所述喷嘴的出气口长度大于待加工产品中与喷嘴最接近的边的长度。2.根据权利要求1所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：所述喷嘴(22)包括气腔(221)以及喷头(222)，所述气腔(221)一端连接气管(21)，所述气腔(221)另一侧固定连接喷头(222)，所述喷头(222)从靠近气腔(221)的一端到远离气腔(221)的一端体积逐渐减小。3.根据权利要求1所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：所述曝光工位(1)还包括升降件(13)，所述掩模版(12)两侧固定连接升降件(13)。4.根据权利要求1～3任一所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：所述曝光工位(1)还包括掩模版横向移动件(14)，所述掩模版横向移动件(14)与所述掩模版(12)连接，所述掩模版横向移动件(14)能够带动掩模版(12)沿水平方向移动。5.根据权利要求1所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：还包括传输机构(4)，所述传输机构(4)设置在掩模版(12)的下方，所述传输机构(4)上设有氧气隔离机构(2)，所述氧气隔离机构(2)设置在传输机构(4)的一侧。6.根据权利要求5所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：还包括承载台(3)，所述承载台(3)设置在掩模版(12)的下方，所述承载台(3)设置在平行光光源(11)的正下方。7.根据权利要求6所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：还包括传输机构(4)，所述传输机构(4)与所述承载台(3)相平齐。8.根据权利要求7所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：所述传输机构(4)的一侧设有转移件(41)，所述转移件(41)包括旋转电机(411)、旋转支架(412)以及吸盘(413)，所述旋转电机(411)输出轴固定连接旋转支架(412)，所述旋转支架(412)两端固定设有吸盘(413)。9.根据权利要求8所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：所述转移件(41)上设有氧气隔离机构(2)，所述氧气隔离机构(2)设置在转移件(41)的一侧。10.根据权利要求5～9任一所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：所述传输机构(4)上设有定位相机，所述定位相机固定在所述传输机构(4)的正上方，所述定位相机的镜头正对于传输机构(4)。11.根据权利要求1或2所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：所述喷嘴(22)中设有流量计，且所述喷嘴(22)出气口与所述掩模版(12)底面之间的距离小于0.2mm。
技术总结
本实用新型的一种用于附有湿膜的产品的曝光装置，属于光伏曝光技术领域。该装置包括曝光工位以及氧气隔离机构，所述曝光工位包括平行光光源以及掩模版，所述平行光光源设置在掩模版上方；所述氧气隔离机构设置在掩模版的下方，所述氧气隔离机构包括气管以及喷嘴，所述气管固定连接喷嘴，所述喷嘴能够喷出惰性气体。采用了曝光面积更大的平行光光源对附有湿膜的产品进行曝光，减少了曝光时间，提高了产能。同时，在产品曝光的过程中通以惰性气体对湿膜进行保护，尽量达到氧气隔绝，确保了附有湿膜的产品不会受到氧阻聚的影响，提高了附有湿膜的产品的成品率。湿膜的产品的成品率。湿膜的产品的成品率。
技术研发人员：胡广豹 王伟 姚青松 郁操 洪飞 龚志清
受保护的技术使用者：苏州迈为科技股份有限公司
技术研发日：2022.11.21
技术公布日：2023/3/21