阵列基板及其制作方法、显示面板与流程

本公开涉及显示，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板。

背景技术：

1、液晶显示面板以体积小，重量轻，低辐射等优点广泛应用于各种领域。

2、液晶显示面板内的阵列基板包括相对设置的像素电极和公共电极。为了防止影响液晶显示面板的透光率，一般公共电极采用透明氧化物导电材料制备，例如为氧化铟锡或者氧化铟锌，其方阻远远大于通常的金属材料，因此导致公共电极的电阻较大，进而导致液晶显示面板的串扰和发绿(greenish)等现象，影响液晶显示面板的画面品质。

技术实现思路

1、本公开的实施例的目的在于提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板，用于提高显示面板的显示效果。

2、为达到上述目的，本公开的实施例提供了如下技术方案：

3、一方面，提供了一种阵列基板。阵列基板包括衬底基板，以及层叠设置在衬底基板上的公共电极层、第一金属层和透明保护层。公共电极层位于衬底基板的一侧，公共电极层包括公共电极。第一金属层位于公共电极层远离衬底基板的一侧，且与公共电极层接触电连接。第一金属层包括第一金属线。透明保护层位于第一金属层远离的一侧公共电极层，且与第一金属层接触。透明保护层包括保护部，保护部在衬底基板上的正投影，覆盖第一金属线在衬底基板上的正投影。

4、上述阵列基板，包括衬底基板，以及层叠设置在衬底基板上的公共电极层、第一金属层和透明保护层。设置第一金属层和公共电极层相接处，以使第一金属线和公共电极接触电连接，以及设置第一金属层和透明保护层接触，以使保护部在衬底基板上的正投影，覆盖第一金属线在衬底基板上的正投影。既可以利用第一金属层中的第一金属线降低公共电极的电阻，防止阵列基板出现串扰和发绿(greenish)等现象，提高显示面板的画面品质。同时，还利用透明保护层防止第一金属线被腐蚀，提高第一金属线的使用寿命，也即还可以确保公共电极电阻的稳定性，进一步提高显示面板的画面品质。

5、在一些实施例中，第一金属线在衬底基板上的正投影，位于公共电极在衬底基板上的正投影范围内。

6、在一些实施例中，阵列基板还包括驱动电路层。驱动电路层位于衬底基板和公共电极层之间。驱动电路层包括多条扫描线和多条数据线，多条数据线与多条扫描线交叉设置限定出多个子像素区域，子像素区域包括开口区。第一金属线在衬底基板上的正投影，与开口区在衬底基板上的正投影无交叠。

7、在一些实施例中，第一金属线的形状为网格状。

8、在一些实施例中，保护部的形状和第一金属线的形状相同。

9、在一些实施例中，阵列基板还包括像素电极层。像素电极层位于驱动电路层和公共电极层之间，像素电极层包括多个像素电极。

10、在一些实施例中，阵列基板还包括配向膜。配向膜包括第一子部和第二子部，第一子部位于保护部远离公共电极层的一侧，第二子部位于公共电极远离衬底基板的一侧。

11、在一些实施例中，阵列基板还包括像素电极层。像素电极层位于透明保护层远离第一金属层的一侧；像素电极层包括多个像素电极。

12、在一些实施例中，保护层位于第一金属层和像素电极层之间，且保护层为整层连续的膜层。

13、另一方面，提供一种阵列基板的制作方法。阵列基板包括衬底基板，以及层叠设置在衬底基板上的像素电极层、公共电极层、第一金属层以及透明保护层。制作方法包括：在衬底基板上形成像素电极层，利用一道第一掩膜板对像素电极层进行光刻工艺，形成多个像素电极。在像素电极层远离衬底基板的一侧，顺次形成公共电极层、第一金属层和透明保护层。利用一道第二掩膜版，对公共电极层、第一金属层和透明保护层进行光刻工艺，形成多个公共电极、多条第一金属线和多个保护部，以使透明保护层包括多个保护部。保护部在衬底基板上的正投影，覆盖第一金属线在衬底基板上的正投影。

14、在一些实施例中，第二掩膜版包括全透明区域、部分透明区域以及遮光区域。利用一道第二掩膜版，对公共电极层、第一金属层和透明保护层进行光刻工艺，包括步骤：在透明保护层远离第一金属层的一侧形成第一有机光感材料层。利用第二掩膜版对第一有机光感材料层进行曝光显影，以使第一有机光感材料层形成第一部分、第二部分和第一开口。第一部分的厚度小于第二部分的厚度。第一部分在衬底基板上的正投影，部分透明区域在衬底基板上的正投影至少部分交叠。第二部分在衬底基板上的正投影，与遮光区域在衬底基板上的正投影至少部分交叠。第一开口在衬底基板上的正投影，与全透明区域在衬底基板上的正投影至少部分交叠。经由第一开口，通过第一道刻蚀工艺对透明保护层进行刻蚀，形成多个保护图案。经由第一开口，通过第二道刻蚀工艺对第一金属层和公共电极层进行刻蚀，形成多个第一金属图案和多个公共电极。对第一有机光感材料层进行灰化处理，去除第一部分，以形成第二开口。第一开口和第二开口连通形成第一透光开口。经由第一透光开口，通过第三道刻蚀工艺对保护图案进行刻蚀，形成多个保护部。经由第一透光开口，通过第四道刻蚀工艺对第一金属图案进行刻蚀，形成多个第一金属线。

15、在一些实施例中，部分透明区域的透光率为20％～30％。

16、又一方面，提供一种阵列基板的制作方法。阵列基板包括衬底基板，以及层叠设置在衬底基板上的公共电极层、第一金属层、透明保护层以及像素电极层。制作方法包括：在衬底基板的一侧，顺次形成公共电极层和第一金属层。利用一道第三掩膜版，对公共电极层和第一金属层进行光刻工艺，形成至少一个公共电极和至少一条第一金属线。在第一金属层远离衬底基板的一侧形成透明保护层。透明保护层在衬底基板上的正投影，覆盖第一金属线在衬底基板上的正投影。在透明保护层远离衬底基板的一侧形成像素电极层。利用一道第五掩膜版，对像素电极层进行光刻工艺，形成多个像素电极。

17、在一些实施例中，第三掩膜版包括全透明区域、部分透明区域以及遮光区域。利用一道第三掩膜版，对公共电极层和第一金属层进行光刻工艺，包括步骤：在第一金属层远离公共电极层的一侧形成第二有机光感材料层。利用第三掩膜版对第二有机光感材料层进行曝光显影，以使第二有机光感材料层形成第三部分、第四部分和第三开口。第三部分的厚度小于第四部分的厚度。第三部分在衬底基板上的正投影，与部分透明区域在衬底基板上的正投影至少部分交的。第四部分在衬底基板上的正投影，与遮光区域在衬底基板上的正投影至少部分交叠。第三开口在衬底基板上的正投影，与全透明区域在衬底基板上的正投影至少部分交叠。经由第三开口，通过第一道刻蚀工艺对第一金属层和公共电极层进行刻蚀，形成多个第一金属图案和多个公共电极。对第二有机光感材料层进行灰化处理，去除第三部分，以形成第四开口。第三开口和第四开口连通形成第二透光开口。经由第二透光开口，通过第二道刻蚀工艺队第一金属图案进行刻蚀，形成多个第一金属线。

18、又一方面，提供一种显示面板。显示面板包括如上述任一实施例所述的阵列基板、对置基板和液晶层。阵列基板和对至基板相对设置，且液晶层设于阵列基板和对置基板之间。

19、上述显示面板具有与上述一些实施例中提供的阵列基板相同的结构和有益技术效果，在此不再赘述。