技术特征：1.一种数字曝光装置，将被空间性地调制后的光向基板照射，在基板得到希望的样式的已曝光区域，其特征在于，
2.如权利要求1所述的数字曝光装置，其特征在于，
3.如权利要求1所述的数字曝光装置，其特征在于，
4.如权利要求3所述的数字曝光装置，其特征在于，
5.如权利要求1所述的数字曝光装置，其特征在于，
技术总结目的是在使用空间光调制器的数字曝光装置中兼顾高解析力化和生产性提高。基板(W)穿过被照射第一第二空间光调制器(21、22)所形成的样式的光的曝光作业区(E)而移动。第一空间光调制器(21)和第二空间光调制器(22)的各像素被调制器控制系统(8)以开启关闭周期为单位切换开启关闭，第一空间光调制器(21)和第二空间光调制器(22)被设为开启关闭周期的周期长一致且相位偏移的状态。第一照射系统(31)将脉冲光的周期与第一空间光调制器(21)的开启关闭周期一致且脉冲宽度为开启关闭周期的开启的时间带的一半的脉冲光向第一空间光调制器(21)照射，第二照射系统(32)将脉冲光的周期与第二空间光调制器(22)的开启关闭周期一致且脉冲宽度为开启关闭周期的开启的时间带的一半的脉冲光向第二空间光调制器(22)照射。
技术研发人员：石野裕久
受保护的技术使用者：株式会社阿迪泰克工程
技术研发日：技术公布日：2024/3/5