掩模设计版图模糊检测方法、存储介质及图形修复设备与流程

【】本发明涉及掩模版图检测，特别涉及一种掩模设计版图模糊检测方法、存储介质及图形修复设备。

背景技术

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背景技术：

1、在半导体集成电路的制造过程中，需要多次对芯片光刻掩模的设计版图进行建模，修改建模产生的坏点，以修复掩膜设计中潜在的缺陷。

2、对芯片掩模设计的模拟是复杂且占用时间的，而且对掩模的修改也是重复且繁琐的过程，由于通常掩模设计的图形具有重复性，产生坏点的部位也是重复的，因此，应用模式匹配技术可以大幅缩短检测掩膜缺陷的时间和流程。

3、掩模版图在具有重复性的同时，也存在大量的微小差异性或图形缺失，从而导致哈希校验值不同而无法分类坏点和检测坏点的位置，精确的模式匹配方法匹配到图形的概率大幅降低，无法有效地减少o p c(光学邻近效应矫正)的流程和版图修改的次数。

4、对此，本发明在图形匹配过程中引入掩模设计版图的d r c(设计规则检查)结果信息，对l r c(光刻规则检查)的坏点进行模糊分类，建立坏点数据库，通过坏点数据库中的坏点对新的掩模设计版图模糊匹配，从而找到掩模设计版图的潜在l r c坏点。

技术实现思路

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技术实现要素：

1、为解决掩膜中的图形通常存在缺失或者大量微小的修改，精确的模式匹配方法匹配到图形的概率大幅降低的技术问题，本发明提供了一种掩模设计版图模糊检测方法、存储介质及图形修复设备。

2、本发明解决技术问题的方案是提供一种掩模设计版图模糊检测方法，包括以下步骤：

3、提供初始掩模设计版图，获取所述初始掩模设计版图的图形点信息；

4、提供预设的坏点数据库，在坏点数据库中通过设计规则检查将坏点图形打断成若干个由矩形组成的图形，以对坏点信息进行模糊分类，得到模糊分类后的坏点信息；

5、将所述初始掩模设计版图中图形点信息与预设的坏点数据库中坏点信息进行匹配，若匹配成功则判定初始掩模设计版图中存在坏点。

6、优选地，构建坏点数据库具体包括以下步骤：

7、对掩模设计版图中的图形点信息进行光刻规则检查，提取出坏点信息；

8、对光刻规则检查所提取出的坏点信息进行模糊分类；

9、将模糊分类后的坏点信息存入坏点数据库。

10、优选地，对坏点信息的模糊分类包括以下步骤：

11、通过d r c规则，检查坏点图像中不符合规则的部分，以获得宽度、空隙关系的薄弱点，将所有图形框中的多边形打断成由矩形组成的图形。

12、优选地，在提取出坏点信息之后、进行模糊分类之前，还包括以下步骤：

13、将坏点信息中的坏点图像向外进行扩充，得到扩充后的坏点图像；

14、将扩充前、扩充后的坏点图像一并保存至坏点信息内。

15、优选地，将模糊分类后的坏点信息存入坏点数据库，需要经过以下步骤：

16、利用每个坏点等级中一个图形的边界框切出坏点图形的设计版图，所述设计版图以g d s的文件格式储存。

17、优选地，与预设的坏点数据库中坏点信息的匹配规则为模糊匹配，具体包括以下步骤：

18、以第一预设拆分规则将坏点数据库中的图形拆分成若干个矩形；

19、以第二预设拆分规则将初始掩模设计版图拆分成若干个矩形，

20、挑选出宽度和空隙在预设范围内的矩形；

21、计算以两种拆分规则得到的矩形在图形框内的位置信息，计算这些矩形的大小信息；

22、根据初始掩模设计版图拆分所得到的矩形在图形框内的位置信息，反推可能的图形位置；

23、将初始掩模设计版图拆分得到的矩形与坏点数据库中图形拆分得到的矩形进行位置、大小信息匹配，计算相匹配的矩形数量。

24、优选地，所述第一预设拆分规则和/或所述第二预设拆分规则为d r c规则。

25、优选地，上述方法在匹配后还包括以下步骤：

26、继续将初始掩模设计版图中图形点信息与预设的坏点数据库中坏点信息进行匹配，若匹配成功，则对初始掩模设计版图进行修正；

27、当匹配失败时，输出修正后的掩模设计版图。

28、本发明还提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序指令，所述计算机程序指令在被处理器执行时实现上述的掩模设计版图模糊检测方法。

29、本发明还提供一种图形修复设备，包括设备运行程序和执行所述设备运行程序的设备本体，所述设备本体在执行所述设备运行程序时实现上述的掩模设计版图模糊检测方法。

30、与现有技术相比，本发明提供的一种掩模设计版图模糊检测方法、存储介质及图形修复设备，具有以下优点：

31、1、本发明实施例提供一种掩模设计版图模糊检测方法，包括以下步骤：提供初始掩模设计版图，获取初始掩模设计版图的图形点信息；提供预设的坏点数据库，在坏点数据库中通过设计规则检查将坏点图形打断成若干个由矩形组成的图形，以对坏点信息进行模糊分类，得到模糊分类后的坏点信息；将初始掩模设计版图中图形点信息与预设的坏点数据库中坏点信息进行匹配，若匹配成功则判定初始掩模设计版图中存在坏点。

32、可以理解，掩膜中的图形通常存在缺失或者大量微小的修改，采用精确的模式匹配方法匹配到图形的概率大幅降低。

33、可以理解地，本发明的坏点数据库中包括坏点信息，将坏点数据库中的坏点与初始掩膜设计版图进行匹配，可以通过坏点数据库的坏点对初始掩膜设计版图更好地进行坏点检测，避免了重复使用o p c(光学邻近效应矫正)检查和修复掩模设计版图坏点的操作，简化了坏点检查的流程，大幅度提高了检测的效率。

34、需要说明的是，本发明还通过d r c(设计规则检查)方法对坏点数据库中的坏点信息进行模糊分类，将坏点图形打断成由若干个矩形组成的图形，通过匹配的矩形确定匹配程度，再通过设定阈值，使相似但不相同的坏点图形可以用一个图形表示，简化数据库中的坏点数量，减少了后续坏点图形匹配的图形数量。

35、2、本发明实施例提供的掩模设计版图模糊检测方法，构建坏点数据库具体包括以下步骤：对掩模设计版图中的图形点信息进行光刻规则检查，提取出坏点信息；对光刻规则检查所提取出的坏点信息进行模糊分类；将模糊分类后的坏点信息存入坏点数据库。

36、可以理解地，本发明根据所需要的坏点或者以往的经验建立坏点数据库，该坏点数据库主要包括针对初始掩模设计版图的坏点信息，采用所需要的坏点，可以确保在后续的匹配过程中不需要进行多余的匹配，后续就可以直接对掩模设计版图上存在的坏点直接进行替换修正，不需要再次进行仿真模拟修正，在节约时间的同时也减少了匹配运算所耗费的资源，并且不会出现修正错误这一问题。

37、3、本发明实施例提供的掩模设计版图模糊检测方法，对坏点信息的模糊分类包括以下步骤：通过d r c规则，检查坏点图像中不符合规则的部分，以获得宽度、空隙关系的薄弱点，将所有图形框中的多边形打断成由矩形组成的图形。

38、需要说明的是，本发明在图形匹配过程中引入掩模设计版图的d r c(设计规则检查)结果信息，对l r c(光刻规则检查)的坏点进行模糊分类，建立坏点数据库，通过坏点数据库中的坏点对新的掩模设计版图模糊匹配，从而找到掩模设计版图中潜在的l r c坏点。

39、可以理解地，本发明可以根据初始掩膜设计版图的情况或者根据需要修复的掩膜设计版图中坏点的类型，来对坏点库进行坏点选择，从而选择出所需要的坏点库中的坏点来进行和待修复的掩膜设计版图进行匹配，通过此设计，可以更好的减少不必要的运算，节约时间、资源。

40、4、本发明实施例提供的掩模设计版图模糊检测方法，在提取出坏点信息之后、进行模糊分类之前，还包括以下步骤：将坏点信息中的坏点图像向外进行扩充，得到扩充后的坏点图像；将扩充前、扩充后的坏点图像一并保存至坏点信息内。

41、可以理解地，对芯片掩模设计的模拟是复杂且占用时间的，而且对掩模的修改也是重复且繁琐的过程，由于通常掩模设计版图的图形具有重复性，故产生坏点的部位也是重复的。

42、需要说明的是，掩模设计版图的图形在具有重复性的同时，也存在着大量的微小差异性或图形缺失，从而导致哈希校验值不同而无法分类坏点和检测坏点的位置，通过将坏点信息中的坏点图像向外扩充，可以提高匹配成功的概率。

43、5、本发明实施例提供的掩模设计版图模糊检测方法，将模糊分类后的坏点信息存入坏点数据库，需要经过以下步骤：利用每个坏点等级中一个图形的边界框切出坏点图形的设计版图，设计版图以g d s的文件格式储存。

44、可以理解地，提前将存入坏点数据库的坏点信息利用图形的边界框切出，以便于初始掩模设计版图在后续对坏点信息的匹配；需要说明的是，g d s文件格式是集成电路板图设计中最常用的图形数据描述语言文件的格式。

45、6、本发明实施例提供的掩模设计版图模糊检测方法，与预设的坏点数据库中坏点信息的匹配规则为模糊匹配，具体包括以下步骤：以第一预设拆分规则将坏点数据库中的图形拆分成若干个矩形；以第二预设拆分规则将初始掩模设计版图拆分成若干个矩形，挑选出宽度和空隙在预设范围内的矩形；计算以两种拆分规则得到的矩形在图形框内的位置信息，计算这些矩形的大小信息；根据初始掩模设计版图拆分所得到的矩形在图形框内的位置信息，反推可能的图形位置；将初始掩模设计版图拆分得到的矩形与坏点数据库中图形拆分得到的矩形进行位置、大小信息匹配，计算相匹配的矩形数量。

46、可以理解地，本发明引入了模糊匹配的方法，使得在匹配图形时可以匹配存在残缺多边形和一定修改的掩模设计版图，提高了匹配成功的概率。

47、需要说明的是，当需要进行大量的坏点检测时采用模糊匹配来进行匹配，可以减少匹配所需要的时间，进而达到最优的匹配效果，与此同时，还能减少不必要的运算。

48、7、本发明实施例提供的掩模设计版图模糊检测方法，第一预设拆分规则和/或第二预设拆分规则为d r c规则。

49、可以理解地，使用第一预设拆分规则将坏点数据库中的图形拆分成若干个矩形，使用第二预设拆分规则将初始掩模设计版图拆分成若干个矩形，挑选出宽度和空隙在预设范围内的矩形。

50、需要说明的是，通过使用d r c规则对坏点数据库中的图形和初始掩模设计版图中的图形进行模糊分类，由匹配的矩形确定匹配程度，可以通过设定阈值，或相似但不相同的坏点图形可以用同一个图形表示，以简化坏点数据库中的坏点数量，减少后续坏点图形匹配的图形数量。

51、8、本发明实施例提供的掩模设计版图模糊检测方法，上述方法在匹配后还包括以下步骤：继续将初始掩模设计版图中图形点信息与预设的坏点数据库中坏点信息进行匹配，若匹配成功，则对初始掩模设计版图进行修正；当匹配失败时，输出修正后的掩模设计版图。

52、可以理解地，在完成初始的图形坏点替换修正后输出修正后的掩膜设计版图，不需要对初始掩膜设计版图进行仿真运算，即可得到修正后的掩膜设计版图，即可以直接输出修正后的掩膜设计版图，通过此设计，节约了修复掩膜设计版图的时间，减少了资源的使用，避免浪费资源。

53、针对全局设计图形，进行重点区域的模拟以及对掩模设计版图中的坏点图形与坏点数据库进行坏点匹配后，可以利用坏点所对应的修正点对掩模设计版图中的待修正图形进行替换修正；通过此设计，可以大幅度节约时间，同时只需要少量的运算对掩模设计版图进行修正，大大节约了资源。可以理解，将初始掩膜设计版图上与匹配库的坏点匹配成功的部分进行直接用该坏点所对应的修正点进行替换，可以减少修复掩模设计版图所需要的时间。

54、9、本发明实施例还提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序指令，计算机程序指令在被处理器执行时实现上述的掩模设计版图模糊检测方法。

55、该计算机可读存储介质具有与上述的掩模设计版图模糊检测方法相同的有益效果，在此不做赘述。

56、10、本发明实施例还提供一种图形修复设备，包括设备运行程序和执行设备运行程序的设备本体，设备本体在执行设备运行程序时实现上述的掩模设计版图模糊检测方法。

57、该图形修复设备具有与上述的掩模设计版图模糊检测方法相同的有益效果，在此不做赘述。