1.一种基于单重态-三重态吸收转换的超分辨光刻方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种基于单重态-三重态吸收转换的超分辨光刻方法，其特征在于，所述单重态-三重态吸收转换材料由具有单重态-三重态吸收转换性质的单种分子构成；或者由供体材料和受体材料组成以构成供体-受体体系，其中，供体材料具有波长λ2吸收系数高，且由单重激发态s1或单重高激发态sn系间窜越至第一三重态t1效率高的性质，受体材料具有跃迁电子位于第一三重态t1时，对于波长λ1吸收系数高的性质。
3.根据权利要求1所述的一种基于单重态-三重态吸收转换的超分辨光刻方法，其特征在于，所述吸收转换层还包括成膜剂，成膜剂是聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚乙烯醇、雌二醇、4,4'-双(n-咔唑)-1,1'-联苯中的一种；和/或
4.根据权利要求1所述的一种基于单重态-三重态吸收转换的超分辨光刻方法，其特征在于，所述多层光刻结构还包括设于所述吸收转换层和光刻胶层之间的辅助吸收层，所述辅助吸收层用于吸收波长λ2的光束；和/或
5.根据权利要求4所述的一种基于单重态-三重态吸收转换的超分辨光刻方法，其特征在于，所述吸收转换层的厚度小于100μm；所述辅助吸收层的厚度小于5μm；所述隔离层的厚度小于500nm；所述光刻胶层的厚度小于5μm。
6.根据权利要求1所述的一种基于单重态-三重态吸收转换的超分辨光刻方法，其特征在于，所述超分辨光刻方法适用于激光直写光刻，刻写光束为实心光束，辅助刻写光束为空心光束，刻写光束和辅助刻写光束重合作用于吸收转换层，辅助刻写光束使刻写光束的边缘光强被所述吸收转换材料转换吸收，从而压缩透过吸收转换层后的刻写光束的线型；或者，
7.根据权利要求6所述的一种基于单重态-三重态吸收转换的超分辨光刻方法，其特征在于，在所述超分辨光刻方法适用于投影曝光光刻时，通过一对图形形状共轭互补的掩膜对刻写光束和辅助刻写光束进行调控，形成以共轭方式重叠的投影图案；或通过同一图形的两个掩膜对刻写光束和辅助刻写光束进行调控，错位形成部分重叠的图案。
8.一种基于单重态-三重态吸收转换的超分辨投影光刻装置，其特征在于，包括：
9.根据权利要求8所述的一种基于单重态-三重态吸收转换的超分辨投影光刻装置，其特征在于，所述第一掩膜和第二掩膜是一对图形形状共轭互补的掩膜，从而使得调制后的投影图案以共轭方式重叠；或者，所述第一掩膜和第二掩膜是同一图形的两个掩膜，通过两个掩膜错位的方式使得调制后的投影图案错位以部分重叠；并且
10.一种基于单重态-三重态吸收转换的超分辨激光直写光刻装置，其特征在于，包括：