永久掩模抗蚀剂用感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法和印刷配线板 ...的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及永久掩模抗蚀剂用感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图案的形 成方法和印刷配线板的制造方法。
【背景技术】
[0002] 以前，印刷配线板制造中的永久掩模抗蚀剂是通过对热或者紫外线固化型的抗蚀 剂油墨进行丝网印刷的方法来制作的。近年来随着电子设备的高集成化，要求印刷配线板 中配线图案和绝缘图案的高精细化。但是，在以前的通过丝网印刷进行的抗蚀剂形成方法 中，由于印刷时产生渗出、滴流（夂U )等，因此难以形成高精细的抗蚀剂图像。因此，为了 形成高精细的抗蚀剂图像，开发了通过光刻进行的抗蚀剂图像形成方法。
[0003] 所谓通过光刻进行的抗蚀剂图像形成方法，具体而言，是如下方法：将干膜型的感 光性抗蚀剂热压接在基材上、或者将液状的感光性抗蚀剂帘涂或者喷涂在基材上，隔着负 型掩模照射紫外线等活性光线后进行显影，从而进行抗蚀剂图像的形成。
[0004] 另外，作为抗蚀剂图案的形成方法，不使用掩模图案而将抗蚀剂图案直接描画的 所谓直接描画曝光法受到关注。根据该直接描画曝光法，认为能够以高生产率且高分辨率 形成抗蚀剂图案，而且，能够提高可应对各种各样的基板变形的位置精度。进一步，近年来 具有曝光波长350?450nm的宽波长区域的直接描画曝光机正变得能够实用地使用。
[0005] 关于意图通过使用曝光波长405nm的激光作为活性光源的直接描画曝光法来形 成抗蚀剂图案的感光性树脂组合物，此前也提出了一些方案（例如，参照专利文献1、2)。
[0006] 另外，关于使用了氮氧自由基化合物的感光性树脂组合物，也提出了一些方案 (例如参照专利文献3?6)。
[0007] 现有技术文献
[0008] 专利文献
[0009] 专利文献1 :日本特开2002-296764号公报
[0010] 专利文献2 :日本特开2004-45596号公报
[0011] 专利文献3 :日本特开2003-140329号公报
[0012] 专利文献4 :日本特开2003-215790号公报
[0013] 专利文献5 :日本特开2006-11397号公报
[0014] 专利文献6 :日本特开2007-133398号公报
【发明内容】
[0015] 发明要解决的问题
[0016] 然而，专利文献1和2所记载的感光性树脂组合物虽然对于曝光波长405nm附近 光的灵敏度良好，但是在具有曝光波长350?450nm的宽波长区域的直接描画曝光机中，相 对于曝光量的裕度窄，难以在样品间和同一基板内重现性良好地形成抗蚀剂图案。另外，专 利文献3?6所记载的感光性树脂组合物并非针对具有曝光波长350?450nm的宽波长区 域的直接描画曝光机的感光性树脂组合物，另外对于形成作为永久掩模抗蚀剂的耐热性、 耐湿热性、密合性、机械特性、电特性优异的高性能固化膜而言，有改善的余地。
[0017] 本发明的目的在于提供一种能够相对于曝光量的裕度宽且在样品间和同一基板 内重现性良好地形成抗蚀剂图案的永久掩模抗蚀剂用感光性树脂组合物、使用其的感光性 元件、抗蚀剂图案的形成方法和印刷配线板的制造方法。
[0018] 解决问题的方法
[0019] 本发明提供一种永久掩模抗蚀剂用感光性树脂组合物，其含有（A)酸改性含乙烯 基环氧树脂、(B)光聚合引发剂、以及（C)氮氧自由基化合物，（C)氮氧自由基化合物包含下 述通式（1)所表示的化合物。
[0020] [化 1]
[0021]
【主权项】
1. 一种永久掩模抗蚀剂用感光性树脂组合物，其含有（A)酸改性含乙烯基环氧树脂、 (B) 光聚合引发剂、和 (C) 氮氧自由基化合物， 所述（C)氮氧自由基化合物包含下述通式（1)所表示的化合物，
式（1)中，&表示羟基、碳原子数1?5的烷基、乙酰胺基、氨基、氯乙酰胺基、氰基、苯 甲酰氧基或者下述通式（2)所表示的基团，
式⑵中，nl表示1?12的整数。
2. 根据权利要求1所述的永久掩模抗蚀剂用感光性树脂组合物，所述（A)酸改性含 乙烯基环氧树脂的含量以感光性树脂组合物的固体成分总量作为基准为大于或等于25质 量％。
3. 根据权利要求1或者2所述的永久掩模抗蚀剂用感光性树脂组合物，（A)酸改性含 乙烯基环氧树脂为使从由下述通式（3)所表示的酚醛清漆型环氧树脂、下述通式（4)所表 示的双酚型环氧树脂和下述通式（5)所表示的水杨醛型环氧树脂所组成的组中选择的至 少1种环氧树脂（a)与含乙烯基一元羧酸（b)反应而得到的树脂，
式（3)中，&表示氢原子或者甲基，￥1表示氢原子或者缩水甘油基，Y1*氢原子/缩水 甘油基的摩尔比为0/100?30/70,112表示大于或等于1的整数，另外，存在多个的R 6和Y i 彼此可以相同也可以不同，
式（4)中，&表示氢原子或者甲基，￥2表示氢原子或者缩水甘油基，￥2中氢原子/缩水 甘油基的摩尔比为0/100?30/70,113表示大于或等于1的整数，另外，存在多个的R 7和Y 2 彼此可以相同也可以不同，
式（5)中，￥3表示氢原子或者缩水甘油基，Y 3中氢原子/缩水甘油基的摩尔比为 0/100?30/70,叫表示大于或等于1的整数，另外，存在多个的￥3彼此可以相同也可以不 同。
4. 一种感光性元件，其在支撑体上具有包含权利要求1?3中任一项所述的永久掩模 抗蚀剂用感光性树脂组合物的感光层。
5. -种抗蚀剂图案的形成方法，其包含如下工序： 将包含权利要求1?3中任一项所述的永久掩模抗蚀剂用感光性树脂组合物的感光层 或者权利要求4所述的感光性元件的感光层层叠在基板上的层叠工序；对所述感光层以图 像状照射活性光线而使曝光部光固化的曝光工序；以及将所述曝光部以外的区域除去的显 影工序。
6. -种印刷配线板的制造方法，通过权利要求5所述的抗蚀剂图案的形成方法在基板 上形成永久掩模。
【专利摘要】本发明提供一种永久掩模抗蚀剂用感光性树脂组合物，其含有(A)酸改性含乙烯基环氧树脂、(B)光聚合引发剂和(C)氮氧自由基化合物，(C)氮氧自由基化合物包含具有特定结构的化合物。
【IPC分类】G03F7-004, H05K3-28, G03F7-027
【公开号】CN104520768
【申请号】CN201380041388
【发明人】赖华子, 太田绘美子, 村上泰治, 名越俊昌, 田中惠生
【申请人】日立化成株式会社
【公开日】2015年4月15日
【申请日】2013年8月2日
【公告号】WO2014024804A1