一种用于航天器和军用计算机上的光互连基板及其制造方法_3

文档序号:8379837阅读:来源:国知局
然后将生瓷层压,最后 将生瓷切割后进行低温共烧,得到开有腔体的LTCC基板。LTCC基板开腔截面示意图见图5 所示。
[0061] 4)将带有复合波导的硅片通过粘接剂粘接到LTCC基板的空腔内,将第一反射镜 7、第二反射镜6组装在硅片2上,且第一反射镜7位于复合波导的一端,第二反射镜6位于 复合波导的另一端;在VCSEL器件10和第一反射镜7之间设置第一微透镜阵列8-1,在 器件11和第二反射镜6之间设置第二微透镜阵列8-2 ;VCSEL器件10和器件11通过粘 接剂粘接在LTCC基板1另一侧,VCSEL器件10发射的光束通过孔垂直射入第一微透镜阵 列8-1中,经第一反射镜反射后水平射入复合波导19中,经复合波导19的光束再经第二反 射镜反射后,透过第二微透镜阵列被ro器件接收。
[0062] 本发明通过先在硅片上制造复合波导,复合波导端面经准分子激光切割,性能达 到传输要求,划片分离;硅片腐蚀方法制造第一反射镜和第二反射镜,表面金属化后经粘接 工艺固定于复合波导两端;LTCC基板开腔打孔,制作完成的复合波导和第一反射镜上粘接 第一微透镜阵列,复合波导和第二反射镜上粘接第二微透镜阵列,经粘接工艺组装于LTCC 基板上;如图1所示,第一微透镜阵列和第二微透镜阵列均包括设置在LTCC基板上和硅片 上的微透镜,LTCC基板上组装的微透镜、波导上的微透镜与LTCC基板另一侧开设的孔耦合 对准;LTCC基板另一面上组装发射组件、接收组件及无源元件13,通过传输线14完成电气 互连。
[0063] 本发明采用硅片上复合波导和反射镜制造,经VCSEL、ro等光电组件和驱动电路 组装,微透镜聚焦耦合,在LTCC基板上实现了光互连。本发明具有体积小、重量轻、集成密 度高的特点,可使用于航天器和军用计算机,大幅提高传输带宽和传输速率,满足现代国防 和军事武器对高速数据传输的需求,具有重要的国防和军事意义。
【主权项】
1. 一种用于航天器和军用计算机上的光互连基板,其特征在于,包括第一反射镜(7)、 第二反射镜(6)、第一微透镜阵列(8-1)、第二微透镜阵列(8-2)、发射组件、接收组件、单面 抛光的硅片(2)以及一侧开设有空腔的LTCC基板(1);其中,发射组件集成了VCSEL器件 (io)、vcsel接口电路板和驱动电路芯片;接收组件集成了ro器件(ii)、ro接口电路板、驱 动电路芯片;所述LTCC基板(1)的空腔内设置有单面抛光的硅片(2),单面抛光的硅片(2) 的抛光面上设置有复合波导(19);复合波导(19)的一端设置第一反射镜(7),另一端设置 第二反射镜(6); 发射组件、接收组件组装在LTCC基板(1)的另一侧,且LTCC基板(1)的另一侧开设 有孔,VCSEL器件(10)和器件(11)组装在LTCC基板(1)的另一侧开孔处,VCSEL器件 (10)和第一反射镜(7)之间设置第一微透镜阵列(8-1),^)器件(11)和第二反射镜(6)之 间设置有第二微透镜阵列(8-2) ;VCSEL器件(10)垂直激发的光束透过孔后穿过第一微透 镜阵列(8-1)、经第一反射镜(7)水平反射入复合波导(19),光束经复合波导(19)全反射 传输后水平传输给第二反射镜(6),由第二反射镜(6)垂直反射入第二微透镜阵列(8-2), 最后光束经第二微透镜阵列(8-2)、穿过孔进入器件(11)中,实现光互连。
2. 根据权利要求1所述的用于航天器和军用计算机上的光互连基板,其特征在于,所 述单面抛光的硅片(2)抛光面的表面粗糙度小于30A。
3. 根据权利要求1所述的用于航天器和军用计算机上的光互连基板,其特征在于,所 述复合波导(19)包括上包覆层(4)、下包覆层(5)以及设置在上包覆层(4)、下包覆层(5) 之间的波导芯层(3)。
4. 根据权利要求3所述的用于航天器和军用计算机上的光互连基板,其特征在于,所 述波导芯层(3)材质为SU-8,上包覆层(4)、下包覆层(5)材质均为PDMS。
5. 根据权利要求1所述的用于航天器和军用计算机上的光互连基板,其特征在于,所 述第一反射镜(7)、第二反射镜(6)的反射面上沉积有A1或Au。
6. 根据权利要求1或5所述的用于航天器和军用计算机上的光互连基板,其特征在于, 所述第一反射镜(7)和第二反射镜(6)均通过粘接剂(9)粘接在单面抛光的硅片(2)上; VCSEL器件(10)和器件(11)通过粘接剂粘接在LTCC基板(1)上。
7. -种用于航天器和军用计算机上的光互连基板的制造方法,其特征在于,包括以下 步骤: 1) 制造复合波导: 首先在单片抛光的硅片(2)上制作复合波导(19),复合波导(19)包括上包覆层(4)、 下包覆层(5)、以及设置在上包覆层(4)、下包覆层(5)之间的波导芯层(3),其中,波导芯层 (3)的宽为10ym,高为10ym,长为20mm,上包覆层⑷和下包覆层(5)的厚度均为60ym; 2) 制造反射镜: 将第一反射镜(7)和第二反射镜(6)组装在硅片(2)上,且第一反射镜(7)和第二反 射镜(6)分别位于复合波导(19)的两端; 3. LTCC基板开腔、打孔: 在LTCC基板一侧开设台阶状空腔,并在LTCC基板另一侧进行打孔; 4) 将带有复合波导(19)的硅片通过粘接剂粘接到LTCC基板的空腔内;将发射组件和 接收组件组装到LTCC基板的另一侧,其中,发射组件集成了VCSEL器件(10)、VCSEL接口 电路板和驱动电路芯片;接收组件集成了ro器件(11)、ro接口电路板、驱动电路芯片;在 VCSEL器件(10)和第一反射镜(7)之间设置第一微透镜阵列(8-1),在ro器件(11)和第二 反射镜(6)之间设置第二微透镜阵列(8-2) ;VCSEL器件(10)发射的光束通过孔垂直射入 第一微透镜阵列(8-1)中,由第一微透镜阵列(8-1)射向第一反射镜(7),第一反射镜(7) 将光束水平射入复合波导(19)中,经复合波导(19)的光束水平射向第二反射镜(6),由第 二反射镜(6)射入第二微透镜阵列(8-2),第二微透镜阵列(8-2)将光束射入器件(11) 中。
8. 根据权利要求7所述的用于航天器和军用计算机上的光互连基板的制造方法,其特 征在于,所述第一反射镜(7)和第二反射镜(6)的具体制备方法如下:在〈100>晶向并且厚 度为500ym的双面抛光硅片的正反两面通过LPCVD淀积厚度为1 〇〇〇A的Si3N4,作为腐蚀 时的掩膜,再采用负胶光刻在硅片上制作待刻蚀图形,然后通过等离子刻蚀技术刻蚀Si3N4, 湿法腐蚀制作出反射面,再采用磷酸去除硅片正反两面的Si3N4,得到第一反射镜(7)和第 二反射镜(6);第一反射镜(7)与第二反射镜(6)的反射面上沉积有A1或Au;所述步骤3) 中波导芯层(3)材质为SU-8,上包覆层(4)、下包覆层(5)材质均为PDMS。
9. 根据权利要求8所述的用于航天器和军用计算机上的光互连基板的制造方法,其特 征在于,所述波导芯层(3)通过以下方法制得:首先,将衬底材料硅片清洗后先于500rpm转 速下匀胶l〇s,再于3000rpm转速下匀胶30s,然后于70°C下进行前烘5min,再于270W、光强 为2. 7mW/cm2下曝光380s后于70°C下烘烤,然后显影30s,最后98°C烘烤固化5min,得到 波导芯层SU-8。
10. 根据权利要求7所述的用于航天器和军用计算机上的光互连基板的制造方法,其 特征在于,所述步骤2)中刻蚀采用的反应气体CFJP0 2,且CF4、02的流量分别为65SCCm、 38SCCm,刻蚀功率为100W,采用的腐蚀液为K0H、DI水、异丙醇的混合溶液,且KOH:DI水:异 丙醇=200g:400mL:40mL。
【专利摘要】一种用于航天器和军用计算机上的光互连基板及其制造方法,包括发射组件、接收组件以及一侧开设有空腔的LTCC基板,所述LTCC基板的空腔内设置有单面抛光的硅片,硅片的抛光面上设置有复合波导;复合波导的一端设置第一反射镜,另一端设置第二反射镜;LTCC基板的另一侧组装有发射组件中的VCSEL器件和接收组件中的PD器件,VCSEL器件和第一反射镜之间设置第一微透镜阵列,PD器件和第二反射镜之间设置有第二微透镜阵列;本发明的LTCC光互连基板具有体积小、重量轻、集成密度更高的特点,非常适合制造用于航天器和军用计算机中,且更容易实现与光电组件的组装工艺。
【IPC分类】G02B6-43
【公开号】CN104698552
【申请号】CN201510114954
【发明人】姜伟, 郑东飞, 李建国
【申请人】中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所
【公开日】2015年6月10日
【申请日】2015年3月16日
当前第3页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1