弯曲显示装置及其制造方法
【专利说明】
[0001] 本申请要求于2013年12月18日提交的第10-2013-0158429号韩国专利申请的 优先权以及所有权益，该韩国专利申请的内容通过引用包含于此。
技术领域
[0002] 本发明涉及一种图像显示装置及其制造方法。更具体地说，本发明涉及一种具有 弯曲的形状的弯曲显示装置和一种制造该弯曲显示装置的方法。
【背景技术】
[0003] 液晶显示器（IXD)包括两个透明基底和设置在两个透明基底之间的液晶层。IXD 驱动液晶层的液晶分子来控制每个像素中的透光率，从而显示期望的图像。
[0004] 在IXD的各种操作模式中的垂直取向（VA)模式IXD中，当在两个基底之间产生电 场时，液晶层的液晶分子相对于两个基底垂直地取向，垂直地取向的液晶分子透射光，从而 显示图像。VA模式LCD包括使液晶分子沿不同的方向取向所需的液晶畴，因此改善了 LCD 的视角。
[0005] 近年来，已经开发出了弯曲IXD。弯曲IXD向用户提供弯曲的显示面板，因此弯曲 LCD向用户提供具有改善了的三维（3D)效果、临场感以及虚拟呈现的图像。
【发明内容】
[0006] 本发明提供了一种能够有效地防止在其边缘处出现斑点并防止漏光的弯曲显示 装置。
[0007] 本发明提供了一种制造弯曲显示装置的方法。
[0008] 本发明的实施例提供了一种弯曲显示装置，该弯曲显示装置包括：显示基底，在平 面图中沿第一方向弯曲，并且包括显示区域和外周区域，显示区域包括被构造为显示图像 的多个像素，外周区域邻近于显示区域设置；相对基底，结合到显示基底以面对显示基底， 并沿着显示基底在第一方向上弯曲；灰度级控制层，设置在显示基底与相对基底之间；结 合构件，设置在外周区域中，设置在显示基底与相对基底之间并且被构造为将显示基底结 合到相对基底。结合构件包括沿第一方向延伸的第一密封部分，并且第一密封部分包括光 阻挡材料。
[0009] 本发明的实施例提供了一种制造弯曲显示装置的方法，所述方法包括下述步骤： 提供在平面图中沿第一方向弯曲的显示基底，所述显示基底包括显示区域和外周区域，显 示区域包括被构造为显示图像的多个像素，外周区域邻近于显示区域设置；提供沿着显示 基底在第一方向上弯曲的相对基底；在显示基底和相对基底中的一个上涂覆密封剂，以提 供结合构件；将相对基底与显示基底组装；使密封剂固化，以将显示基底结合到相对基底； 在显示基底与相对基底之间设置灰度级控制层。结合构件包括沿第一方向延伸的第一密封 部分，并且第一密封部分包括光阻挡材料。
[0010] 根据上文，当结合构件包括光阻挡材料时，增大了结合构件的宽度。结果，可以有 效地防止在显示装置弯曲时由施加到结合构件的应力导致的边缘斑点。
[0011] 另外，当结合构件包括光阻挡材料时，改善了通过照射紫外（UV)光来使结合构件 固化的固化工艺的设计自由度，并且可以有效地防止结合构件在其一部分中未固化。因此， 可以有效地防止在结合构件的未固化部分中出现漏光。
【附图说明】
[0012] 当结合附图考虑时，通过参照下面的详细描述，本发明的上述和其它优点将变得 容易理解，在附图中：
[0013] 图IA是示出根据本发明的弯曲显示装置的示例性实施例的透视图；
[0014] 图IB是示出图IA中示出的弯曲显示装置的平面图；
[0015] 图2是沿图IB的Ι-Γ线截取的剖视图；
[0016] 图3是示出根据本发明的弯曲显示装置的另一示例性实施例的平面图；
[0017] 图4A是沿图3的ΙΙ-ΙΓ线截取的剖视图；
[0018] 图4B是沿图3的ΙΙΙ-ΙΙΓ线截取的剖视图；
[0019] 图5是示出根据本发明的弯曲显示装置的另一示例性实施例的剖视图；
[0020] 图6是示出根据本发明的弯曲显示装置的另一示例性实施例的平面图；
[0021] 图7是沿图6的IV-IV'线和V-V'线截取的剖视图；
[0022] 图8是示出根据本发明的弯曲显示装置的另一示例性实施例的平面图；
[0023] 图9是示出应力根据结合构件的宽度的变化的曲线图；
[0024] 图IOA是示出应力根据弯曲显示装置的曲率半径的变化的曲线图；
[0025] 图IOB是示出应力根据结合构件的宽度的变化的曲线图；
[0026] 图11是示出根据本发明的弯曲显示装置的像素的示例性实施例的平面图；
[0027] 图12是图11的剖视图；
[0028] 图13是示出在像素区域中限定的畴以及液晶取向方向的图；
[0029] 图14是示出根据本发明的弯曲显示装置的像素的另一示例性实施例的平面图；
[0030] 图15是沿图14的VI-VI'线截取的剖视图；
[0031] 图16是示出根据本发明的弯曲显示装置的制造工艺的示例性实施例的流程图。
【具体实施方式】
[0032] 将理解的是，当元件或层被称作"在"另一元件或层"上"或者"连接到"或"结合 到"另一元件或层时，该元件或层可以直接在另一元件或层上或者直接连接到或结合到另 一元件或层，或者可以存在中间元件或中间层。相反，当元件或层被称作"直接在"另一元 件或层"上"或者"直接连接到"或"直接结合到"另一元件或层时，不存在中间元件或中间 层。同样的标号始终表示同样的元件。如在这里使用的，术语"和/或"包括一个或多个相 关所列项的任意组合和全部组合。
[0033] 将理解的是，尽管在这里可使用术语第一、第二等来描述各种元件、组件、区域、层 和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应该受这些术语的限制。这些术语 仅是用来将一个元件、组件、区域、层或部分与另一个元件、组件、区域、层或部分区分开来。 因此，在不脱离本发明的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可被命 名为第二元件、组件、区域、层或部分。
[0034] 为了方便描述，在这里可使用空间相对术语，如"在…之下"、"在…下方"、"下面 的"、"在…上方"、"上面的"等，用来描述在图中所示的一个元件或特征与其它元件或特征 的关系。将理解的是，空间相对术语意在包含除了在附图中描述的方位之外的装置在使用 或操作中的不同方位。例如，如果在附图中的装置被翻转，则描述为"在"其它元件或特征 "下方"或"之下"的元件随后将被定位为"在"其它元件或特征"上方"。因而，示例性术语 "在…下方"可包括"在…上方"和"在…下方"两种方位。所述装置可被另外定位（旋转90 度或者在其它方位），并对在这里使用的空间相对描述符做出相应的解释。
[0035] 这里使用的术语仅为了描述特定实施例的目的，而不意图限制本发明。如这里所 使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式的"一个（种）"和"所述（该）"也意图 包括复数形式。还将理解的是，当在本说明书中使用术语"包含"和/或"包括"时，说明存 在所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但不排除存在或附加一个或更多个其它特 征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。
[0036] 在这里使用的"大约"或"接近"包括了所述值，并且表示在针对具体值的可接受 范围的偏差内，所述偏差是指本领域普通技术人员顾及到正在考虑的测量和与具体量的测 量相关联的误差（即，测量系统的局限性）的情况下所确定的。例如，"大约"可以表示在