感光性树脂组合物、感光性元件、喷砂用掩模材料及被处理物的表面加工方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种感光性树脂组合物、以及使用了该感光性树脂组合物的感光性元 件、喷砂用掩模材料、和被处理物的表面加工方法。
【背景技术】
[0002] 以前，作为选择性切削玻璃、陶瓷等被处理物的规定位置的方法，已知：在被处理 物上设置包含感光性树脂组合物的感光层作为掩模材料，通过对上述感光层进行图案化而 形成抗蚀剂图案（掩模部）后，喷射研磨剂，对非掩模部进行选择性切削（即进行喷砂处 理）的方法。
[0003] 喷砂处理用掩模材料用途中使用的感光性树脂组合物，例如制成在支撑体上设置 了包含感光性树脂组合物的感光层的感光性元件而使用。作为感光性树脂组合物，使用包 含碱溶性树脂、氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯和光聚合引发剂的组成等。作为碱溶性树脂， 例如提出了含羧基纤维素、含羧基丙烯酸树脂等（例如，参照专利文献1和2)。
[0004] 关于这样的以前的感光性树脂组合物，存在如下问题：在制造为感光性元件的情 况下，由于感光性树脂组合物的粘性而难以从支撑体将感光层剥离。另外，为了提高喷砂耐 性（下面，有时仅称为"喷砂耐性"），认为必须降低固化后的被膜即喷砂处理用掩模的弹性 模量，为此，已知尽可能增多氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯的配合量。但是，如果增多氨基 甲酸酯（甲基）丙烯酸酯的配合量，则由于在固化前的阶段感光层的粘着性会增加，因此有 难以从支撑体将感光层剥离的倾向。其结果，有时难以将感光层转印到被处理物上。
[0005] 为了保持喷砂耐性且容易将感光层转印到被处理物上，例如提出了如下方案等： 设置包含聚乙烯醇或者部分皂化聚乙酸乙烯酯的水溶性树脂层，在聚乙烯醇或者部分皂化 聚乙酸乙烯酯中添加了乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等的水溶性树脂层作为剥离层；设置包含 碱溶性纤维素衍生物的剥离层（例如，参照专利文献3或者4)。
[0006] 现有技术文献
[0007] 专利文献
[0008] 专利文献1 :日本专利第3449572号公报
[0009] 专利文献2 :日本专利第3846958号公报
[0010] 专利文献3 :日本特开平6-161098号公报
[0011] 专利文献4 :日本特开2012-27357号公报
【发明内容】
[0012] 发明要解决的问题
[0013] 但是，专利文献1~4等所记载的以前的感光性树脂组合物，与玻璃基板等基材的 密合性不充分，有在该基材上难以形成图案这样的问题。在为了提高密合性而使用密合助 剂等的情况下，碱显影性降低，有难以形成图案的倾向。
[0014] 因此，本发明的目的在于提供一种即使未设置剥离层也能够将支撑体从感光层容 易地剥离，能够在玻璃基板等基材上形成密合性和分辨率优异的抗蚀剂图案的感光性树脂 组合物、使用了其的感光性元件、被处理物的表面加工方法、喷砂用掩模材料。
[0015] 用于解决问题的方法
[0016] 本发明提供一种感光性树脂组合物，其含有（A)具有羧基的粘合剂聚合物、(B)具 有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物、（C)光聚合引发剂、（D)含有磷的增塑剂和（E)硅 烷化合物，上述（B)具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物包含氨基甲酸酯（甲基）丙 烯酸酯化合物。
[0017] 另外，⑶成分的含有磷的增塑剂优选包含下述通式⑴所表示的化合物。
[0018] [化 1]
[0019]
【主权项】
1. 一种感光性树脂组合物，其含有： (A) 具有羧基的粘合剂聚合物、 (B) 具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物、 (C) 光聚合引发剂、 (D) 含有磷的增塑剂、和 (E) 硅烷化合物， 所述（B)成分的具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物包含氨基甲酸酯（甲基）丙 烯酸酯化合物。
2. 根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，所述（D)成分的含有磷的增塑剂包含下 述通式（I)所表示的化合物，
通式（I)中，R3表示氢原子或者碳原子数1~3的烷基，R 4表示亚苯基或者下述通式 (II)所表示的2价基团，
通式（II)中，R5表示氢原子或者碳原子数1~3的烷基。
3. 根据权利要求1或者权利要求2所述的感光性树脂组合物，作为所述（A)成分的具 有羧基的粘合剂聚合物的聚合性单体，含有苯乙烯或者苯乙烯衍生物。
4. 根据权利要求1~3中任一项所述的感光性树脂组合物，所述（A)成分的具有羧基 的粘合剂聚合物的酸值为50~250mgK0H/g。
5. 根据权利要求1~4中任一项所述的感光性树脂组合物，所述（A)成分的具有羧基 的粘合剂聚合物的玻璃化温度Tg为30~100°C。
6. 根据权利要求1~5中任一项所述的感光性树脂组合物，所述氨基甲酸酯（甲基） 丙烯酸酯化合物的重均分子量为2000~45000。
7. 根据权利要求1~6中任一项所述的感光性树脂组合物，所述氨基甲酸酯（甲基） 丙烯酸酯化合物具有2个乙烯性不饱和基团。
8. 根据权利要求1~7中任一项所述的感光性树脂组合物，所述（E)成分的硅烷化合 物包含具有巯基的硅烷化合物。
9. 根据权利要求1~8中任一项所述的感光性树脂组合物，所述（E)成分的硅烷化合 物包含下述通式（III)所表示的化合物，
通式（III)中，R表不碳原子数1~6的亚烷基，A表不烷基，B表不烷氧基、氣基、烧氧 基烷氧基、乙醜氧基或者條氧基，η表不O~2的整数。
10. -种感光性元件，其具有支撑体和形成在该支撑体上的由权利要求1~9中任一项 所述的感光性树脂组合物形成的感光层。
11. 一种被处理物的表面加工方法，其包含如下工序： 使用权利要求1~9中任一项所述的感光性树脂组合物在被处理物上形成感光层的感 光层形成工序； 对所述感光层照射活性光线而在规定位置形成光固化部的曝光工序； 通过显影将所述光固化部以外的部分除去，形成抗蚀剂图案的显影工序；和 喷射研磨剂，对未形成抗蚀剂图案部分的被处理物进行切削的喷砂处理工序。
12. -种喷砂用掩模材料，其由权利要求1~9中任一项所述的感光性树脂组合物形 成。
【专利摘要】本发明提供一种感光性树脂组合物、感光性元件、喷砂用掩模材料和被处理物的表面加工方法，所述感光性树脂组合物含有(A)具有羧基的粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂、(D)含有磷的增塑剂和(E)硅烷化合物，所述(B)成分的具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
【IPC分类】G03F7-004, G03F7-00, G03F7-033
【公开号】CN104749885
【申请号】CN201410814596
【发明人】小泽恭子, 吉田哲也, 板垣秀一
【申请人】日立化成株式会社
【公开日】2015年7月1日
【申请日】2014年12月24日