0280] 平均的前进角是121°
[0281] 平均的后退角是104°。
[0282] 平均的滞后是17。
[0283] 工作台角度是15。
[0284]实例7 ;
[0285]
[0286] 在表面处理之后
[0287] 平均的前进角是121°
[028引平均的后退角是116°。
[0289] 平均的滞后是5°
[0290] 工作台角度是7°
[0291]实例 8;
[0292]
[0293] 在表面处理之后平均的前进角是122°
[0294] 平均的后退角是114°。
[029引平均值是8°
[0296] 工作台角度是7°
[0297] 对比实例2;(参比）
[029引
[0299]
[0300] 在表面处理之后
[0301] 平均的前进角是120°
[0302] 平均的后退角是112°。
[0303] 平均的滞后是8°
[0304] 工作台角度是12。
[0305] 3-讨论
[0306] 从W上披露的结果，可W观察到在Ml顶涂层与临时附着改进层M3/M4之间的M2 材料的沉积显著改进了处理的基底的疏水性和疏油性，该M2材料为一种包含能够与基底 的0H官能团反应的硅烷官能团和具有小尺寸的疏水基团的材料。
[0307]实例 9 和 10;
[030引制备根据本发明的包括一个粘合剂预成形膜的镜片
[0309] 使来自依视路公司（Essilor)的涂覆有一个硬涂层和一个减反射涂层的聚碳酸 醋镜片（-8.00散光度数（〇如111(161〇+2.00)经受^下沉积
[0310]实例 9 ;DSX?+〇Fl10?+M评2/Mg0+ 膜
[0311]
[031引 将一个尺寸为 30mmX30mm的TAC-PSA(RijiTACfilm80m/NittoDenko CS-9261 (丙締酸PSA))膜置于该镜片的中间。
[0313] 在涂层和膜施用后首先对该些镜片进行磨边一周。程序由标记镜片组成W便将柱 面置于90°。该些镜片用24mm衬垫和封阻剂锁定并且然后使用一个Trium地砂轮磨边机 磨边至特定的形状（化armont)。在磨边后，将它们置于夹持器中并且再次测量柱轴。如果 柱面是在90 + 2°，则在磨边中认为最小的风险。如果它是在大于3°但是小于5°，则一 定的风险是可能的。如果它是大于5°，则在磨边过程中存在高的旋转风险。对于测试的5 个镜片，全部在所希望的轴线的2°W内，其中平均的轴线值为89. 6°
[0314] 将另一组镜片在环境室中在40。的温度和80%的湿度下保持1个月。W相同的 方式对该些镜片进行磨边。5个镜片的平均值是90°。
[0315]实例 10;皿TC+0F110?+M评2/MgO膜
[0316]
[0317]将具有30mmX30mm尺寸的TAC-PSA膜置于镜片的中间。
[031引在涂层和膜施用后使用W上程序首先对该些镜片进行磨边一周。在磨边后测量柱 面。对于测试的5个镜片，全部在所希望的轴线的2°W内，其中平均的轴线值为89.2°。
【主权项】
1. 一种用于制造光学物品的方法，该方法包括以下步骤： -提供基底，该基底具有两个主面并且在其面的至少一个上携带-OH官能团， -在真空室中在导致将以下材料沉积到该基底的表面上的条件下按此顺序依次地将该 携带-OH官能团的基底的一个面暴露于至少三种不同的材料，其被称为Ml、M2、M3,以及任 选地材料M4,并且其中： -Ml是取代的硅烷，包含： 。至少一个直接结合到该取代的硅烷的Si原子上的官能团XI，其中该Si-Xl基团 能够与该基底的OH基团形成共价键，Xl优选地是直接结合到该硅原子上的可水解基团 (如-NH2基团）或-OH基团并且包含 〇至少一个含氟基团， -M2是具有低于或等于900g/mol的数均分子量的取代的硅烷，包含： 。至少一个直接结合到所述取代的硅烷的硅原子上的官能团X2,其中该Si-X2基团能 够与该基底的-OH基团形成共价键和/或与Ml形成共价键，X2优选地是可水解基团（如_ NH2基团）或-OH基团以及 〇至少一个疏水或疏油基团，或至少一个亲水基团， -其中，Ml具有大于M2的重均分子量并且Ml与M2重均分子量之间的差值是等于或大 于600g/mol，优选等于或大于900g/mol， -M3是金属氟化物。2. 根据权利要求1所述的方法，包括M4沉积，优选一种非氟化的金属氧化物或金属氢 氧化物。3. 根据权利要求1或2所述的方法，其中该基底是一种包含减反射光学层的透明材料。4. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中意指形成一种沉积物的条件包括减压 和/或高温中的至少一种。5. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中意指形成一个层的条件包括真空下的 蒸发。6. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中Xl和X2独立地选自一个卤素原 子、-NH-烷基、二烷氨基、烷氧基、酰氧基、异氰酸酯基、-OH基团以及-NH 2基团。7. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中该含氟基团产生自二价的氟烷基、氟 代條基、聚（氣烷基酿）基团、烷基、條基的组装。8. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中Ml的数均分子量是等于或大于 2000g/mol、并且优选范围是从3000g/mol至6000g/mol并且更优选包括在4000g/mol至 5000g/mol 之间。9. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中Ml选自具有以下式的化合物：其中Rf表示一个全氟烷基基团，Z表示一个氟原子或三氟甲基基团，a、b、c、d和e各 自独立地表示〇或等于或大于1的整数，其条件是a+b+c+d+e不小于1，且由下标a、b、c、 d和e所括的重复单元在上式中出现的顺序不限于所示那样；Y表示一个氢原子或含1至4 个碳原子的烷基基团；X表示一个氢、溴或碘原子；R 1表示一个羟基基团、NH2基团或可水解 取代基；R2表示一个氢原子或一价烃基；I表示〇、1或2 ;m表示1、2或3 ;并且η"表示一个 等于或大于1、优选等于或大于2的整数。10. 根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中Ml选自具有通式（A)或通式（B) 和（C)的化合物： F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2) 〇- (CH2) p-X (CH2) r-Si (X') 3_a (Rl) a (A) F- (CF上-(OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2) PX (CH2) r (X，）2_a (Rl) aSiO (F- (CF上-(OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2) PX (CH2) r (X，）^ (Rl) aSiO) ZF- (CF上-(OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2) PX (CH2) r(X'）2_a (Rl)aSi (B) F- (CF2)(QC3F6) m- (QC2F4) n- (QCF2)。_ (CH2) P-X (CH2) r- (CH2) t-Si (X，）3_a (Rl) a (C) 其中q是一个从I至3的整数；m、n、和o独立地是从0至200的整数；p是I或2 ;X是 0或一个二价的有机基团；r是一个从2至20的整数；t是一个从1至10的整数；Rl是一 个C1-22直链的或支链的烃基；a是一个从0至2的整数；X'是一个可水解基团、-OH基团 或-NH 2基团；并且当a是0或1时，z是一个从0至10的整数。11. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中M2的数均分子量是低于或等于 800g/mol〇12. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中M2选自对应于以下式的非氟化的或 氟化的硅烷： [H- (OCH2-CH2) a- (OCH2-CH2-CH2) a，- (OCF2-CF2) a"_ (OCF2-CF2-CF2) a"' - (OCHF-CHF) a""- (OCHF-CHF-CHF) a""'] WX- (CH2) b- (CF2) b，-Si (R) 3 (D) 其中 a、a'、a"、a"'、a""、a""' 是从 0 至 2 的整数，a+a' +a"+a"' +a""+a""' 是至少 1， X是0或N或NH，b和b'是从0至10的整数并且b+b'不能小于1，R是一个例如以上已经 定义的可水解基团、或者是OH或NH 2，由下标a、a'、a"、a"'、a""、a""'、b和b'所括的重复 单元在上式中出现的顺序不限于所示那样；w = I或2,取决于X的化合价 以及 F- (CF2) c- (CH2) d- (CF2) e- (CH2) f-Si (R) 3 (E) 以及 H- (CH2) g- (CF2) h- (CH2)厂(CF2)「Si (R) 3 (F) 其中c、d、e、f、g、h、I、j各自是一个从O至10的整数，c、d、e和f中的至少一个不为 0, g、h、i和j中的至少一个不为0,并且R是一个例如以上已经定义的可水解基团、或者是 OH 或 NH2 〇13. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中该Ml沉积物具有低于lOOnm、优选低 于30nm、更优选范围从1至IOnm的厚度。14. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中该M1+M2沉积物具有低于20nm的厚 度。15. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，包括将一个粘合剂预制膜施用在其上已 经沉积了 M3和/或M4的光学物品的表面上的步骤。16. 根据权利要求15所述的方法，其中该预制膜是一个压敏粘合剂膜。17. 根据权利要求16所述的方法，其中该预制膜包括纤维素三乙酸酯。18. 用于获得一种具有疏水和/或防油表面特性的修整的光学物品的方法，其特征在 于该方法包括以下步骤： 1) 制造一种光学物品，该光学物品适用于根据以上权利要求中任一项所述的方法的修 整， 2) 由一种盖形元件保持所述光学物品， 3) 修整所述光学物品， 4) 将该盖形元件从所述光学物品去除， 5) 回收如此修整的光学物品， 以及 6) 去除该预制膜，如果存在的话，M3以及任选地M4层。19. 一种光学物品，其可以通过如权利要求1至17中任一项所述的方法获得。20. 根据权利要求19所述的光学物品，具有至少等于15mJ/m 2的表面能。21. -种光学物品，其可以通过如权利要求18所述的方法获得。22. 根据权利要求21所述的光学物品，具有低于或等于14毫焦耳/m2、优选低于或等 于12毫焦耳/m 2的表面能。
【专利摘要】用于制造一种光学物品的方法，该方法包括以下步骤：提供一个基底，该基底具有两个主面并且在其面的至少一个上携带-OH官能团，在一个真空室中在导致将以下材料沉积到该基底的表面上的条件下按此顺序依次地将该携带-OH官能团的基底的一个面暴露于至少三种不同的材料，被称为M1、M2、M3，以及任选地材料M4，并且其中：M1是一种取代的硅烷，包含：至少一个直接结合到该取代的硅烷的一个Si原子上的官能团X1，其中该Si-X1基团能够与该基底的-OH基团形成一个共价键，X1优选地是一个直接结合到该硅原子上的可水解基团(如–NH2基团)或-OH基团并且包含至少一个含氟基团，M2是一种具有低于或等于900g/mol的数均分子量的取代的硅烷，包含：至少一个直接结合到所述取代的硅烷的一个硅原子上的官能团X2，其中该Si-X2基团能够与该基底的-OH基团形成一个共价键和/或与M1形成一个共价键，X2优选地是一个可水解基团(如–NH2基团)或-OH基团以及至少一个疏水或疏油基团，或至少一个亲水基团，其中，M1具有大于M2的重均分子量并且M1与M2重均分子量之间的差值是等于或大于600g/mol，优选等于或大于900g/mol。M3是一种金属氟化物，任选的M4是一种非氟化的金属氧化物或金属氢氧化物。
【IPC分类】G02B27/00
【公开号】CN104884997
【申请号】CN201380068483
【发明人】G·富尔纳德
【申请人】埃西勒国际通用光学公司
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2013年12月24日
【公告号】CA2896178A1, EP2939060A1, US20150361279, WO2014102271A1