果为两者不吻合时即输出异常信号，接着进行步骤S207。
[0070]于步骤S207中，响应所述输出的异常信号，并依据所述设定的异常处理操作流程执行相应的操作。
[0071]接着，请参阅图7，其为应用图4的系统架构图所执行的温度监控运作流程图。如图7所示，首先进行步骤S301，设定所述曝光装置内的光学元件的工作温度参数值，接着进行步骤S303。
[0072]于步骤S303中，网板曝光机监控系统感测所述光学元件当前的工作温度，并输出所感测到的工作温度值，接着进行步骤S305。
[0073]于步骤S305中，网板曝光机监控系统接收所述输出的工作温度值，并于分析所述输出的工作温度值高于所述设定的工作温度参数值时，启动设于所述曝光装置上的散热单元，以针对所述光学元件实施降温操作，以防止所述光学元件的运作温度过高而损坏。
[0074]综上所述，本发明的网板曝光机监控系统透过全程侦测网板曝光机的曝光装置的工作状态，包括:光学元件的即时光功率(mW)值及当前工作温度，以及曝光室的真空压力值，俾于分析上述各项工作指标与预设的工作参数值不吻合时，可实时发出警信以提醒操作人员，更可依据默认的异常操作处理流程来控制机台上各零部件自动调整工作状态，以减少曝光不良品的产生，亦能延长机台零部件的工作寿命，藉以降低生产成本。
[0075]上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。
【主权项】
1.一种网板曝光机监控系统，应用于具有曝光装置的网板曝光机，用于监控所述网板曝光机的曝光装置的工作状态，其特征在于，所述系统包括: 曝光监控模块，具有: 曝光参数设定单元，用于提供设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程； 曝光侦测器，设于所述网板曝光机的曝光装置中，且所述曝光装置还具有光学元件，所述曝光侦测器用于持续地侦测所述光学元件的即时光功率，并输出所侦测的即时光功率值；及 曝光分析单元，用于收集所述曝光侦测器所输出的所述光学元件的即时光功率值，并于分析所述输出的即时光功率值与所述曝光参数设定单元所设定的曝光参数值不吻合时，输出异常信号；以及 异常处理模块，于接收到所述曝光分析单元所输出的异常信号时，依据所述设定的异常处理操作流程执行相应的操作。2.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，藉由所述曝光参数设定单元所设定的异常处理操作流程至少包括:输出警报信号、调整所述光学元件的工作状态以及令所述网板曝光机停止操作的所组群组之其中一者。3.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，还包括:记录模块，用以记录所述网板曝光机对网板进行曝光的曝光处理信息。4.根据权利要求3所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述记录模块还于所述曝光分析单元输出异常信号时，记录所述输出的异常信号所对应的曝光作业数据，所述曝光作业数据包括:输出所述异常信号的时间及在输出所述异常信号时间下的光学元件的光功率值所组群组之其中一者。5.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述曝光参数设定单元还提供客制化标准作业程序测光功能的设定，用以供用户设定其所欲输入的光能量值，以在曝光作业时，所述曝光分析单元依据用户所设定的光能量值，以线性处理方式来控制累积光能量。6.根据权利要求1或5所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述曝光参数设定单元还提供二次曝光的功能设定，且所述光学元件的光路径中设有一可动式滤片，所述曝光分析单元依据曝光参数设定单元所设定的二次曝光的功能，于曝光作业中，使光学元件提供预定波长，待一预定时间后，控制所述滤片的移动来调整所述光学元件所提供的所述预定波长，而达到以单一波长进行多重波长的曝光。7.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，其还设有数据传输接口，藉由所述数据传输接口供用户近端或远程设定所述曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程。8.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述光学元件的出光路径上设置一凸透镜，以使穿过的光线均匀发散。9.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，还包括:真空监控模块，所述真空监控模块具有: 真空参数设定单元，用于提供设定所述曝光室内的真空参数值及其对应的异常处理操作流程； 压力传感器，用于感测所述曝光室内的真空压力，并输出所感测的真空压力值；以及 真空分析单元，用于接收所述压力传感器所输出的真空压力值，并于分析所述输出的真空压力值与所述真空参数设定单元所设定的真空参数值不吻合时，输出异常信号。10.根据权利要求9所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述异常处理模块还包括:于接收到所述真空分析单元所输出的异常信号时，依据所述真空参数设定单元所设定的异常处理操作流程执行相应的操作。11.根据权利要求10所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述压力传感器为多个，且分别设于所述网板曝光机的曝光室及真空源中，分别用以感测所述网板曝光机内的真空帮浦真空度、设于所述网板曝光机的曝光室中的网板、底片真空数值以及橡胶压条气密性以及设于网板曝光机内的抽真空组件的状态。12.根据权利要求9所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述异常处理模块判定在一预定时间真空压力无法到达所设定的真空参数值时，停止曝光作业及发出警报状态消肩、O13.根据权利要求1所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，还包括:温度监控模块，其具有: 温度参数设定单元，用于提供设定所述曝光装置内的光学元件的工作温度参数值； 散热单元，邻近于所述光学元件设置，用于调降所述光学元件的工作温度； 温度传感器，用于感测所述光学元件当前的工作温度，并输出所感测到的工作温度值；以及 温控单元，用于接收所述温度传感器所输出的工作温度值，并于分析所述输出的工作温度值高于所述温度参数设定单元所设定的工作温度参数值时，启动所述散热单元对所述光学兀件实施降温操作。14.根据权利要求13所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述异常处理模块判定在一预定时间下未能使所述光学元件温度降温时，停止曝光作业及发出警报状态消息。15.根据权利要求13所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，还包括:接触式温度传感器以及玻璃台面散热单元，所述触式温度传感器接触于所述曝光玻璃台面，用以感测曝光玻璃台面的温度，当所述温控单元分析出所述接触式温度传感器所输出的温度值高于所述温度参数设定单元所设定的工作温度参数值时，启动所述玻璃台面散热单元对所述曝光玻璃台面实施降温操作。16.根据权利要求15所述的网板曝光机监控系统，其特征在于，所述异常处理模块判定在一预定时间下未能使所述曝光玻璃台面温度降温时，停止曝光作业及发出警报状态消肩、O
【专利摘要】本发明提供一种网板曝光机监控系统，用于监控网板曝光机的曝光装置的工作状态，包括：设定曝光装置的曝光参数值及其对应的异常处理操作流程，并透过持续侦测所述曝光装置中的光学元件的即时光功率（mW），俾于分析所述侦测到的即时光功率（mW）值与所述曝光参数值不吻合，即可依据设定的异常处理操作流程执行相应的操作，从而达到可在后续轻易筛选出曝光不良品并分析导致曝光不良的原因的目的，同时还能透过控制所述曝光装置自动调整工作状态，以减少曝光不良品的产生，从而提高生产效率。
【IPC分类】G03F7/20
【公开号】CN104914676
【申请号】CN201410088620
【发明人】詹文清, 罗志雄
【申请人】旺昌机械工业(昆山)有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2014年3月12日