专利名称：曝光系统的制作方法
技术领域：
本发明与曝光系统有关，特别地，关系到一种安装在曝光系统内部用于制作液晶显示(LCD)装置的光源装置.
以下结合
图1对采用光刻工艺制造LCD的一个曝光系统给予详细说明。
如图1所示，在将要进行曝光处理的暗箱底部安装一个用于支撑LCD基板15的基座20。在基座20之上设置一个光掩膜25(或者一个分划板(reticle))并正对LCD基板15。其中，光掩膜25可以包括几个光阻模25a。
数个灯光装置30设置在暗室10外表面的上部。灯光装置30包括一个光源35，一个包围光源的机架37，以及一个介于机架37和暗室外表面上部之间的透明窗，将暗室的外壁封闭以密封暗室。其中，一个曝光系统需要安装多个灯光装置，以同时对LCD基板15发射均匀的光线，该基板是大于一个通常的半导体基板。
然而，由于灯光装置30所包括的机架37成本昂贵，多个灯光装置30的设置增大了生产成本。
本发明提供了一个曝光系统，即使在采用单一灯光装置的情况下，通过该曝光系统，光线也可以均匀地照射在基板上，因而降低了生产成本。
本发明的一方面，所提供的曝光系统包括一个暗室，提供进行曝光工艺过程的空间，以及一个灯光装置，该配件设置在暗室之上，并且以一确定的方向移动，以便发射光线到暗室内部。
暗室包括一个用以支撑即将进行曝光处理的基板的基座，以及一个光掩膜，用于使基座的顶部成模。此外，暗室的上部包括一个透明盖，灯光装置通过该透明盖而对暗室内部发射光线。
灯光装置包括一个光源，一个包围光源的光源机架，一个透明窗，设置于光源机架的底部，以及一个移动单元，使灯光装置以确定的方向，即垂直于所发射的光线的方向而往复运动。其中，为便于移动，优选地，灯光装置与暗室间隔以确定的距离。
相应于本发明的另一方面，提供一个曝光系统，包括一个暗室，该暗室确定了一个对LCD基板进行曝光处理的空间，并且具有一个顶部开口，一个透明盖，封闭暗室的顶部开口，以密封暗室，以及一个灯光装置，该装置与暗室的上部间隔以确定的距离，并且以确定的方向移动以向暗室的内部发射光线。
图1所示为常用曝光装置的剖面视图；图2所示为本发明的曝光系统的剖面视图；图3所示为本发明的曝光系统的顶部平面视图。
首先，如图2所示，曝光系统200包括一个暗室100。该暗室，具有一个顶部开口，确定一个对LCD基板110进行曝光处理的空间。一个基座120，用以支撑LCD基板110，安装在暗室100之内。其中，LCD基板110可以采用，例如，一个玻璃基板，并且包括一个成模层(末示)以及一个光阻层(末示)，顺序安装于其上。
在暗室之内正对LCD基板110的位置设置一个光掩膜130，并与LCD基板110间隔一个固定距离。光掩膜130包括大量光阻模130a，用于对光阻层进行曝光。光阻模130a设置于光掩膜130的表面上正对LCD基板110的位置。
透明盖140设置于暗室的顶部而使暗室密封。透明盖140制作成片状以遮盖暗室100的顶部开口。其中，透明盖140可以采用例如右英等透光材料而制作。
在暗室100上面设置单一的灯光装置150。灯光装置150包括一个光源152，一个包围光源的机架154，以及一个安装在机架154底部的透明窗156。灯光装置150进而包括一个移动单元158，通过该移动单元158灯光装置150可以在确定的方向上而往复移动。其中，尽管灯光装置150的大小与现有灯光装置150的大小相等，但是本发明的灯光装置150可以由移动单元158而移动。因此，光线可以均匀地照射到整个LCD基板110的表面。并且，由于灯光装置150与暗室100相隔以确定的距离，所以灯光装置150可以自由移动。其中，灯光装置150的底部以及暗室100的顶部，是由透明材料制成的，有助于光线的发射而不吸收光线。
以下将对本发明的曝光系统200的工作过程给予说明。
灯光装置150以确定的方向而移动，例如，沿基板长度的方向，并且发射光线到暗室100内部。其中，移动单元158以恒定速度移动灯光装置150，从而使灯光装置150可以均匀地将光线照射到暗室100内的光掩膜130。而且，由于在灯光装置150的底部设置了一个透明窗156，光线可以照射到光掩膜130上而不被吸收。当光线到达光掩膜130之后，部分光线被光阻模130a而吸收而部分透射出去。因此，光线均匀地传输到LCD基板110。
其中，当灯光装置150移动并发射光线时，只采用一个灯光装置足以进行曝光。因此，由于不需要安装其他的灯光装置150而使成本大大降低。
如上所述，相应于本发明，一个曝光系统在暗室之上包括一个具有一个移动单元的单一灯光装置，移动单元允许灯光装置往复移动。因此，通过移动灯光装置可以进行曝光处理，并且可以减少灯光装置的数目。由于不需要设置几个昂贵的机架，所以可以大大降低曝光系统的生产成本。
本发明结合其优选实施例给予了具体说明，但是本领域的技术人员应明确，在不违反由以下权利要求所限定的本发明的精神和范围的情况下，可以对本发明进行各种形式和细节的改变。
权利要求
1.一个曝光系统包括一个暗室，确定为进行曝光工艺过程的空间，其特征在于，该暗室包括一个基座，用以支撑即将曝光的基板，以及一个光掩膜，用以对基座的上部成模；以及一个灯光装置，设置于暗室之上并且以确定的方向移动并发射光线到暗室内部。
2.如权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，暗室的顶部包括一个透明盖，灯光装置通过该透明盖将光线发射到暗室之内。
3.如权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，灯光装置包括一个光源，一个包围光源的光源机架，一个透明窗位于光源机架的底部，以及一个移动单元，使灯光装置以垂直于发射光线的方向而往复运动。
4.如权利要求3所述的曝光系统，其特征在于，灯光装置和暗室以固定距离而间隔设置。
5.一个曝光系统包括一个暗室，确定为液晶显示器基板经历曝光处理的空间，并且具有一个顶部开口；一个透明窗，封闭暗室的顶部开口以密封暗室；以及一个灯光装置，与暗室的上部相距确定的距离并且以确定的方向而发射光线到暗室内部。
6.如权利要求5所述的曝光系统，其特征在于，灯光装置包括一个光源，一个包围光源的光源机架，一个设置于光源机架底部的透明窗，以及一个移动单元，以固定的方向而往复移动灯光装置。
全文摘要
本发明提供了一种曝光系统，该系统可以在即使只采用单一灯光装置的情况下，而使光线均匀地照射到基板上，因此降低了生产成本。曝光系统包括一个暗室，提供一个LCD基板经历曝光工艺处理的空间，并且具有一个顶部开口，一个封闭顶部开口的透明窗，以密封暗室，以及一个灯光装置，与暗室的顶部间隔一个固定的距离，并且以固定的方向发射光线到暗室内部。
文档编号G03F7/20GK1452013SQ0310937
公开日2003年10月29日 申请日期2003年4月8日 优先权日2002年4月18日
发明者朴庸硕, 赵汉范 申请人:显像制造服务股份有限公司