彩膜基板及其制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法。
【背景技术】
[0002]液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无福射等众多优点，得到了广泛的应用。如:液晶电视、移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等，在平板显示领域中占主导地位。
[0003]通常液晶显示面板由一彩膜基板(ColorFilter Substrate，CF Substrate)、一薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，并分别在两基板的相对内侧设置像素电极、公共电极，通过施加电压控制液晶分子改变方向，将背光模组的光线折射出来产生画面。
[0004]液晶显示面板生产过程中要经过阵列、成盒两大工序，而这两大工序又包含若干个子工序。每一个工序都对环境、设备、材料、工艺、操作等方面有很高的要求，而这些因素的偏离有时会影响像素结构，严重的形成缺陷。亮点是一种比较常见的面板缺陷，材料中混入异物、有源层残留、像素电路沟道异常、像素电极残留等等原因都可能造成亮点缺陷。组立成盒后液晶显示屏面板，对于液晶显示面板产生的亮点的传统修复方法是通过激光使其变成暗点，通常是利用焊接工艺从TFT侧背面将扫描线与像素电极短接，使得该像素永远呈现暗点化状态。但针对LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低温多晶娃)产品，由于需要穿透2.5 μπι平坦层做切割和焊接，修补成功低。因此业界针对LTPS产品一般采用BM(Black Matrix，黑色矩阵)镭射方式，从CF侧背面，将亮点采用BM光阻暗点化。
[0005]为了解决激光焊接修复方法中所存在的问题，提出了一种黑色矩阵修补方法，请参阅图1至图4，该方法包括如下步骤:
[0006]步骤1、通过高功率的激光20在亮点缺陷对应的色阻块30与平坦层40之间形成缝隙50 ;
[0007]步骤2、通过激光20打通色阻块30两侧的黑色矩阵10，在步骤I形成的缝隙50的基础上形成连接两侧黑色矩阵10的通道60，在打通通道的60的同时会有部分颗粒状的黑色矩阵材料喷溅到通道60内；
[0008]步骤3、通过激光20将喷溅到通道60内的黑色矩阵材料推均匀；
[0009]步骤4、扩散所述通道60两侧的黑色矩阵材料进入通道60内，直至填满整个通道
60 ο
[0010]上述修补方法通过黑色矩阵材料对具有亮点缺陷的像素进行遮挡，使其视觉效果为暗点，以达到修复的目的，然而，采用上述黑色矩阵修补方法进行亮点修复的液晶显示面板，在修复后会往往出现黑色矩阵膜厚降低而导致漏光和对比度降低的问题，进而导致修复失败，因此为了提高黑色矩阵修补方法的修复成功率，需要提高黑色矩阵的膜厚和黑色矩阵材料的光密度值。
【发明内容】
[0011]本发明的目的在于提供一种彩膜基板，其黑色矩阵层具有较大的厚度，可在不降低彩膜基板整体开口率的前提下，提高黑色矩阵修补方法的成功率。
[0012]本发明的目的还在于提供一种彩膜基板的制作方法，通过采用黑色矩阵层的光罩结合蚀刻技术在衬底基板的上表面形成数条横向与纵向排列的沟槽，沿所述沟槽形成黑色矩阵层，所述黑色矩阵层的整体厚度较高，从而在进行暗点化修补后，黑色矩阵层依然保持较大的厚度，避免漏光现象的出现。
[0013]为实现上述目的，本发明提供一种彩膜基板，包括:基板、设于所述基板上的黑色矩阵层与色阻层、设于所述黑色矩阵层与色阻层上的平坦层、及设于所述平坦层上的数个间隔物；
[0014]所述基板的上表面开设有数条横向与纵向排列的沟槽，所述黑色矩阵层包括沿所述沟槽设置的数条横向与纵向排列的遮光带，所述遮光带包括位于所述沟槽内部的增厚部、及位于所述沟槽上方的遮光部。
[0015]所述遮光部的宽度大于所述增厚部的宽度。
[0016]所述数条遮光带在所述基板上交叉限定出数个子像素区域，所述色阻层包括分别位于数个子像素区域中的数个色阻块。
[0017]所述数个色阻块包括红色、绿色和蓝色光阻块。
[0018]所述间隔物对应于黑色矩阵层设置。
[0019]本发明还提供一种彩膜基板的制作方法，包括如下步骤:
[0020]步骤1、提供一基板，采用黑色矩阵的光罩对所述基板进行图案化处理，在所述基板的上表面通过蚀刻形成数条横向与纵向排列的沟槽；
[0021]步骤2、在所述基板上沿所述沟槽形成数条遮光带，所述数条横向与纵向排列的遮光带构成黑色矩阵层，所述遮光带包括位于所述沟槽内部的增厚部、及位于所述沟槽上方的遮光部；
[0022]步骤3、在基板上制作色阻层，所述数条遮光带在所述基板上交叉限定出数个子像素区域，所述色阻层包括分别位于数个子像素区域中的数个色阻块；
[0023]步骤4、在所述黑色矩阵层和色阻层上制作平坦层；
[0024]步骤5、在所述平坦层上形成数个间隔物。
[0025]所述步骤I中，所述基板为玻璃基板，以氢氟酸为蚀刻液对所述基板进行蚀刻。
[0026]所述遮光部的宽度大于所述增厚部的宽度。
[0027]所述数个色阻块包括红色、绿色和蓝色光阻块。
[0028]所述间隔物对应于黑色矩阵层设置。
[0029]本发明的有益效果:本发明提供一种彩膜基板及其制作方法，本发明的彩膜基板，其黑色矩阵层的厚度较大，可避免对液晶显示面板进行暗点化修补后漏光现象的出现，提高修补成功率。本发明的彩膜基板的制作方法，通过采用黑色矩阵层的光罩结合蚀刻技术在衬底基板的上表面形成数条横向与纵向排列的沟槽，沿所述沟槽形成数条横向与纵向排列的遮光带，所述数条横向与纵向排列的遮光带构成黑色矩阵层，所述遮光带包括位于所述沟槽内部的增厚部及位于所述沟槽上方的遮光部，由于增厚部的设置，使得黑色矩阵层的整体厚度提高，使得在进行暗点化修补后，黑色矩阵层依然保持较大的厚度，避免漏光现象的出现。
[0030]为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
【附图说明】
[0031]下面结合附图，通过对本发明的【具体实施方式】详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0032]附图中，
[0033]图1为现有的黑色矩阵修补方法的步骤I的示意图；
[0034]图2为现有的黑色矩阵修补方法的步骤2的示意图；
[0035]图3为现有的黑色矩阵修补方法的步骤3的示意图；
[0036]图4为现有的黑色矩阵修补方法的步骤4的示意图；
[0037]图5为本发明的彩膜基板的制作方法的流程图；
[0038]图6为本发明的彩膜基板的制作方法的步骤I的示意图；
[0039]图7为本发明的彩膜基板的制作方法的步骤2的示意图；
[0040]图8为本发明的彩膜基板的制作方法的步骤3的示意图；
[0041]图9为本发明的彩膜基板的制作方法的步骤4的示意图；
[0042]图10为本发明的彩膜基板的制作方法的步骤5的示意图暨本发明的彩膜基板的结构示意图。
【具体实施方式】
[0043]为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
[0044]请参阅图10，本发明首先提供一种彩膜基板，包括:基板1、设于所述基板I上的黑色矩阵层3与色阻层2、设于所述黑色矩阵层3与色阻层2上的平坦层4、及设于所述平坦层4上的数个间隔物5;
[0045]所述基板I的上表面开设有数条横向与纵向排列的沟槽11，所述黑色矩阵层3包括沿所述沟槽11设置的数条横向与纵向排列的遮光带3，所述遮光带