配向膜的制作装置和制作方法

文档序号:9666438阅读:492来源:国知局
配向膜的制作装置和制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示装置的制作领域,具体涉及一种配向膜的制作装置和制作方法。
【背景技术】
[0002]液晶显示面镜包括阵列基板、彩膜基板和二者之间的液晶层,阵列基板和彩膜基板上均设置有配向膜,所述配向膜用于对液晶层进行初始配向。配向膜的制作方法包括摩擦法和光配向法。
[0003]摩擦法是首先涂覆一层聚酰亚胺(PI)膜,然后使用摩擦辊摩擦聚酰亚胺膜表面,形成沿辊方向的沟道,从而使得液晶分子沿沟道方向排列。由于摩擦是接触式的,所以会在摩擦时产生颗粒污染物和静电,影响了产品的良率。光配向的方法是首先涂覆具有感光剂的膜层,然后利用线性偏振的紫外光照射到具有感光剂的膜层上,通过紫外光刺激,对紫外光照射区域进行配向。和摩擦法相比,光配向的方法不需要直接接触膜层,因而可以避免表面的颗粒污染和静电,但是,光配向的方法需要复杂的线性偏振紫外光,增加了操作难度,并且控制的精度不高,另外也不易实现均匀照射。

【发明内容】

[0004]本发明的目的在于提供一种配向膜的制作装置和制作方法,以减少对待配向膜层的污染,同时降低工艺难度。
[0005]为了实现上述目的,本发明提供一种配向膜的制作装置,包括:
[0006]光源,所述光源用于发射单一波长的光线;
[0007]承载台,所述承载台具有用于承载待配向膜层的承载表面;
[0008]光处理机构,所述光处理机构用于接收所述光源的光线,并将接收到的光线分成两束相干光,并使得该两束相干光在所述承载表面的待配向膜层上形成明暗相间的干涉条纹;
[0009]显影机构,所述显影机构用于去除待配向膜层上对应于所述干涉条纹中的明条纹的部分。
[0010]可选的,所述光处理机构包括:分光镜、第一反射镜和第二反射镜,所述分光镜为半透半反镜,所述第一反射镜关于所述半透半反镜对称的镜像与所述第二反射镜之间成预定角度;
[0011]所述光源发射的光线能够到达所述分光镜并被分为两部分,其中一部分光线经所述分光镜反射至所述第二反射镜后,能够反射回所述分光镜;另一部分光线经所述分光镜透射至第一反射镜后,能够反射回所述分光镜;
[0012]所述承载台位于所述分光镜的下方。
[0013]可选的,所述光处理机构还包括设置在所述分光镜和第一反射镜之间的补偿透镜,以使得在所述两部分光线中,被所述分光镜反射的一部分光线在所述分光镜中的光程等于透过所述分光镜的另一部分光线在所述分光镜和所述补偿透镜中的光程和。
[0014]可选的,所述补偿透镜与所述分光镜平行。
[0015]可选的,所述补偿透镜的材料与所述分光镜的材料相同、所述补偿透镜的厚度与所述分光镜的厚度相同。
[0016]可选的,所述预定角度满足以下公式:
[0017]0=arctan(A/x)
[0018]其中,Θ为所述预定角度,λ为所述光源发射的光线的波长,χ为在待配向膜层上所需形成的沟槽宽度的2倍。
[0019]可选的,所述第二反射镜的一端固定在安装基础上,所述配向膜的制作装置还包括可伸缩的支撑件和控制机构,所述支撑件的一端与所述第二反射镜的另一端固定相连,所述支撑件的另一端与所述安装基础固定相连,所述控制机构用于控制所述支撑件缩短或伸长。
[0020]可选的,所述支撑件由压电陶瓷制成,所述控制机构包括第一电极板、第二电极板和控制电路,所述支撑件的一端通过所述第一电极板与所述第二反射镜的另一端固定连接,所述支撑件的另一端通过所述第二电极板与所述安装基础固定连接,且所述控制电路分别与所述第一电极板和所述第二电极板电连接,用于向所述第一电极板和所述第二电极板分别输出不同的电信号。
[0021]可选的,所述光源为紫外光光源。
[0022]相应地,本发明还提供一种配向膜的制作方法,包括以下步骤:
[0023]采用本发明所提供的上述配向膜的制作装置,在待配向膜层上形成明暗相间的干涉条纹;以及利用显影液去除待配向膜层上对应于所述干涉条纹中的明条纹的部分。
[0024]在本发明中,光处理机构生成的两束相干光在承载表面上能够形成明暗相间的干涉条纹,因此,承载台的承载表面上设置有待配向膜层时,所述干涉条纹是形成在待配向膜层上的,待配向膜层中接收到明条纹的位置被光线照射而变性分解,接收到暗条纹的位置未变化,然后只需要对膜层进行显影即可形成沟槽,沟槽的宽度即为条纹的宽度。因此,利用所述配向膜的制作装置制作配向膜时,无需接触膜层,不会对膜层造成污染,并且,无需产生形成偏性偏振光,降低了工艺复杂度。
【附图说明】
[0025]附图是用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的【具体实施方式】一起用于解释本发明,但并不构成对本发明的限制。在附图中:
[0026]图1是本发明的实施例中提供的配向膜的制作装置的结构示意图;
[0027]图2是光处理机构产生的两束相干光形成的干涉条纹示意图;
[0028]图3是第二反射镜的固定方式示意图;
[0029]图4是显影机构的结构示意图;
[0030]图5是对膜层进行配向前液晶分子的排列示意图;
[0031 ]图6是对膜层进行配向后液晶分子的排列示意图。
[0032]其中,附图标记为:1、光源;2、光处理机构;200、分光镜;201、第一反射镜;202、第二反射镜;203、补偿透镜;201’、第一反射镜关于分光镜对称的镜像;3、待配向膜层;4、承载台;500、支撑件;501、第一电极板;502、第二电极板;6、液晶分子;7、显影液涂覆结构。
【具体实施方式】
[0033]以下结合附图对本发明的【具体实施方式】进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的【具体实施方式】仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明。
[0034]作为本发明的一方面,提供一种配向膜的制作装置,如图1所示,所述配向膜的制作装置包括:光源1、光处理机构2、承载台4和显影机构(图中未示出)。光源1用于发射单一波长的光线;承载台4具有用于承载待配向膜层的承载表面;光处理机构2用于接收光源的光线,并将接收到的光线分成两束相干光并使得该两束相干光在所述承载表面的待配向膜层上形成明暗相间的干涉条纹(如图2所示);显影机构,用于去除待配向膜层上对应于所述干涉条纹中的明条纹的部分。
[0035]如图1中,可以在承载台4上形成待配向膜层3,通常,配向后得到的配向膜是设置在阵列基板或彩膜基板上的,因此,可以在承载台4上先设置基板,然后在基板上形成待配向膜层3,再对待配向膜层3进行配向。其中,待配向膜层3可以为含有感光剂的聚酰亚胺膜。
[0036]由于光处理机构2生成的两束相干光在承载表面上能够形成明暗相间的干涉条纹,因此,承载台4的承载表面上设置有待配向膜层3时,所述干涉条纹是形成在待配向膜层3上的,待配向膜层3中接收到明条纹的位置被光线照射而变性分解,接收到暗条纹的位置未变化,然后只需要对膜层进行显影即可形成沟槽,沟槽的宽度即为条纹的宽度。配向完成后,液晶分子由图5中无序的排列方式变为图6中有序排列。因此,利用所述配向膜的制作装置制作配向膜时,无需接触待配向的膜层,不会对膜层造成污染,并且,无需产生形成偏性偏振光,降低了工艺复杂度。
[0037]具体地,光源1可以为紫外光光源,以发射能量较高的紫外光。
[0038]具体地,如图1所不,光处理机构2包括:分光镜200、第一反射镜201和第二反射镜202,分光镜200为半透半反镜。分光镜200、第一反射镜201和第二反射镜202之间的位置关系应当满足:第一反射镜201关于半透半反镜200对称的镜像201’与第二反射镜202之间成预定角度Θ ;并且,光源1发射的光线能够到达分光镜200并被分为两部分,其中一部分光线经分光镜200反射至第二反射镜202后,能够反射回分光镜200 ;且另一部分光线经分光镜200透射至第一反射镜201后,也能够反射回半透半反镜200;承载台4位于分光镜200的下方。
[0039]如图1所示,当光源1发射光线后,一部分光线经过所述半透半反镜反射至第二发射镜202,并由第二反射镜202朝向半透半反镜反射,再透过反射半透半反镜照射至承载台4的承载表面上,如图1中标有L1的那部分光线;另一部分光线穿过半透半反镜照射至第一反射镜201,并由第一反射镜201反射至半透半反镜,再透过半透半反镜照射至承载台4的承载表面上,如图1中标有L2的那部分光线。光源1发出的光线被分光镜200分为两束
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