修正已记录的对准测量信息；
[0112]接着，执行步骤S17，根据修正后的对准测量信息，计算对准位置；
[0113]接着，执行步骤S18，根据记录的调焦测量信息，计算调焦位置；
[0114]接着，执行步骤S19，判断是否已对所有的曝光扫描视场进行了扫描测量；若是，则接着执行步骤S20 ;若否，则返回执行步骤S13 ；
[0115]接着，执行步骤S20，按照每个曝光扫描视场计算的对准位置及调焦位置驱动工件台，完成各个曝光扫描视场的扫描曝光；
[0116]接着，执行步骤S21，将进行过扫描曝光后的基底从基底承载台上拿下来。
[0117]综上，在本发明所提供的曝光装置及离焦倾斜误差补偿方法中，通过在每个对准测量传感器都设置有一个与其对应的调焦测量传感器，并且每个对准测量传感器与其所对应的调焦测量传感器在第一方向上的坐标相同，使得对准测量传感器与调焦测量传感器两者位于同一条直线上，此时调焦测量信息与对准测量信息可共同表征对准标记，以便对对准测量信息存在误差时进行修正，完成离焦倾斜误差的补偿，极大的提高了对准精度，提高产品良率。
[0118]上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。
【主权项】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括掩模承载台、投影物镜阵列以及基底承载台，还包括: 若干对准测量传感器，沿第一方向排列，用于探测基底上的对准标记来获取基底的对准测量信息； 若干调焦测量传感器，用于探测基底的调焦测量信息，每个对准测量传感器都有一个与其对应的调焦测量传感器，并且每个对准测量传感器与其所对应的调焦测量传感器在第一方向上的坐标相同。2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述投影物镜阵列分布于所述调焦测量传感器及所述对准测量传感器周围。3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述掩模承载台和所述基底承载台沿第二方向同步移动时，所述掩模承载台上的掩模和所述基底承载台上的基底沿第二方向同步移动时，投影物镜阵列对基底进行曝光，将掩模的图像成在所述基底上，所述第一方向垂直于所述第二方向。4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述若干调焦测量传感器平均分布于若干对准测量传感器的两侧，或者所述若干调焦测量传感器均位于若干对准测量传感器的一侧。5.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，投影物镜阵列中的每个投影物镜分别对应一个调焦测量传感器和一个对准测量传感器，每个投影物镜与其所对应的调焦测量传感器和对准测量传感器在第一方向上的坐标相同。6.如权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，所述投影物镜阵列平均分布于所述若干调焦测量传感器和所述若干对准测量传感器的两侧，或者所述投影物镜阵列均位于若干调焦测量传感器和所述若干对准测量传感器的一侧。7.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述调焦测量传感器、所述对准测量传感器和所述对准标记的数量相同且均为三个以上。8.如权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述基底划分为多个扫描曝光视场，每个扫描曝光视场沿第二方向包括两列对准标记，每列对准标记沿第一方向排列，所述第一方向垂直于所述第二方向，每列对准标记的数量与所述对准测量传感器的数量相同，使得所述若干对准测量传感器能同时探测一列对准标记。9.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述对准测量传感器采用宽带光源，通过照明镜组和分束棱镜、成像前组照明对准标记，测量光经对准标记反射后，再经过成像前组、分束棱镜以及照明后组，将对准标记成像到图像传感器上，图像传感器输出的图像经过图像处理之后，即可获得当前对准标记的对准位置。10.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述调焦测量传感器采用宽带光源，通过照明镜组照明投影标记，继而通过第一反射镜和投影成像镜组将投影标记成像在基底表面，测量光经基底反射之后，通过探测成像镜组和第二反射镜，将投影标记的像成像在图像传感器上，通过图像处理获得当前基底的离焦信息。11.一种离焦倾斜误差补偿方法，其特征在于，包括如下步骤: 提供如权利要求1-10中任一项所述的曝光装置，所述曝光装置还包括用于测量基底承载台位置的干涉测量装置以及位于基底承载台上的对准基准板； 采用所述对准测量传感器和所述调焦测量传感器对基底上的单个扫描曝光视场进行扫描测量，同时干涉测量装置测量基底承载台位置信息； 根据单个扫描曝光视场的扫描测量，记录当前扫描曝光视场中对准测量传感器探测的对准测量信息(Xj，Yj)和调焦测量传感器探测的调焦测量信息Zi以及干涉测量装置测量的基底承载台位置信息； 根据记录的对准测量信息(Xj，Yj)和调焦测量信息Zi以及基底承载台位置信息，计算对准测量传感器在X轴的离焦倾斜误差Λ X或者Y轴的离焦倾斜误差Λ Y ； 根据已计算出的X轴的离焦倾斜误差ΛΧ或者Y轴的离焦倾斜误差ΛΥ，修正所述对准测量信息(Xj，Yj)，得到修正后的对准测量信息(Xj’，Yj’)； 根据修正后的对准测量信息(xj’，Yj’)，计算当前扫描曝光视场的对准位置(χ，γ)，完成离焦倾斜误差的补偿。12.如权利要求11所述的离焦倾斜误差补偿方法，其特征在于，所述修正后的对准测量信息(Xj’，Yj’)与修正前的所述对准信息(Xj, Yj)关系为:(Xj，，Yj，) = (Xj-ΔΧ, Yj)或者(xj，，Yj，) = (Xj1Yj-AY)013.如权利要求11所述的离焦倾斜误差补偿方法，其特征在于，所述根据记录的对准测量信息(Xj，Yj)和调焦测量信息Zi以及基底承载台位置信息，计算X轴的离焦倾斜误差Λ X或者Y轴的离焦倾斜误差Λ Y包括如下步骤: 计算对准测量传感器的最佳测量平面的离焦量ΛΖ1 ； 通过离线测校，计算对准测量传感器的对准测量光轴的偏离X轴的倾斜量φχ或者偏离Y轴的倾斜量Oy; 计算X轴的离焦倾斜误差Δ X或者Y轴的离焦倾斜误差Δ Y ;其中Δ X =Δ Zltan (Φχ), Δ Y = AZltan(C>y)。14.如权利要求13所述的离焦倾斜误差补偿方法，其特征在于，所述计算对准测量传感器的最佳测量平面的离焦量ΛΖ1包括如下步骤: 确定所述对准测量传感器的最佳测量平面、及调焦测量传感器的零平面； 计算所述对准测量传感器的最佳测量平面和所述调焦测量传感器的零平面之间的固有偏差Λ ZO ； 根据基底承载台位置信息，获取所述对准测量传感器和调焦测量传感器的测量点的水平向位置； 根据所述测量点的水平向位置查找所述调焦测量信息Zi，确定对准标记的高度ΛΖ2，计算出所述最佳测量平面的离焦量ΔΖ1，其中ΛΖ1 = ΛΖ0-ΛΖ2。15.如权利要求13所述的离焦倾斜误差补偿方法，其特征在于，所述通过离线测校，计算对准测量传感器的对准测量光轴的偏离X轴的倾斜量Φχ或者偏离Y轴的倾斜量Φγ包括如下步骤: 水平移动所述曝光装置中的基底承载台，使得所述对准测量传感器和所述调焦测量传感器测量所述基底承载台上承载的对准基准板； 将所述基底承载台沿垂向步进至少两次，记录每次步进所述调焦测量传感器的测量结果、及所述对准测量传感器的测量结果； 分别计算每相邻两次步进所述对准测量传感器的测量结果在X轴的偏差ΛΧ0或者在Y轴的偏差Λ Y0，及所述调焦测量传感器的测量结果的偏差ΛΖ; 计算所述偏离X轴的倾斜量Φχ或者所述偏离Y轴的倾斜量Oy ;其中，Φχ =art an ( Δ YO/ Δ Ζ)，Φ y = -l*artan ( Δ XO/ Δ Ζ)。
【专利摘要】本发明提供了一种曝光装置及离焦倾斜误差补偿方法中，通过在每个对准测量传感器都设置有一个与其对应的调焦测量传感器，并且每个对准测量传感器与其所对应的调焦测量传感器在第一方向上的坐标相同，使得对准测量传感器与调焦测量传感器两者位于同一条直线上，此时调焦测量信息与对准测量信息可共同表征对准标记，以便对对准测量信息存在误差时进行修正，完成离焦倾斜误差的补偿，极大的提高了对准精度，提高产品良率。
【IPC分类】G03F9/00, G03F7/20
【公开号】CN105527795
【申请号】CN201410508363
【发明人】陈飞彪, 周畅, 陈跃飞, 程琦, 刁雷, 齐景超
【申请人】上海微电子装备有限公司
【公开日】2016年4月27日
【申请日】2014年9月28日
【公告号】WO2016045432A1