专利名称：一种彩色显像管荧光面不良屏清洗再生工艺的制作方法
技术领域：
本发明具体涉及一种用于彩色显像管有机膜为蜡卡的前工程荧光面不良屏内表面的自动化化学清洗再生工艺。
三、技术内容本发明目的在于克服上述缺点，提供了一种彩色显像管荧光面不良屏清洗再生工艺，降低生产成本，提高了产品的良品率。
本发明所提供的技术方案为首先对荧光面不良屏用工业水淋洗和热碱清洗循环两次以上，再次进行工业水清洗并用易溶解的无机氟化物的溶液对屏内面涂层进行逐步清洗，屏内面残留物用HF酸清洗并同时产生了一个玻璃再生面。
本发明还具有下述特点热碱的温度为40℃-70℃、浓度的重量比为5％-10％，无机氟化物浓度的重量比为6％-16％，HF酸浓度的重量比为8％-22％，工业水的温度为20℃-45℃。
具体实施例方式
下面对本发明清洗再生工艺的工作原理作进一步详细说明。
实施例1，对荧光面不良屏用工业水和温度为50℃、浓度的重量比为6％的NAOH清洗循环两次以上；再次进行工业水清洗并用浓度的重量比为10％的NH4HF2进行清洗，并用浓度的重量比为16％的氢氟酸溶液对屏内面残留物清洗，最后用40℃的纯水清洗三次。
实施例2，对荧光面不良屏用工业水和温度为60℃、浓度的重量比为6％的NAOH清洗循环两次以上；在次进行工业水清洗并用浓度的重量比为16％的NH4HF2进行清洗，并用浓度的重量比为20％的氢氟酸溶液对屏内面残留物清洗，最后用40℃的纯水清洗三次。
本发明工艺对使用油性有机膜的彩色显像管荧光面不良屏进行了自动清洗再生，使不良品率降低了80％以上，工序一次良品率提高了20％以上，从而有效地提高了生产效率降低了生产成本。
权利要求
1.一种彩色显像管荧光面不良屏清洗再生工艺包括1)对荧光面不良屏用工业水淋洗和热碱清洗循环两次以上；2)再次进行工业水清洗并用易溶解的无机氟化物的溶液对屏内面涂层进行逐步清洗；3)屏内面残留物用HF酸清洗并同时产生了一个玻璃再生面。
2.一种彩色显像管荧光面不良屏清洗再生工艺，其特征在于所述热碱的温度为40℃-70℃。
3.一种彩色显像管荧光面不良屏清洗再生工艺，其特征在于所述热碱的浓度为5％-10％。
4.一种彩色显像管荧光面不良屏清洗再生工艺，其特征在于所述无机氟化物的浓度为6％-16％。
5.一种彩色显像管荧光面不良屏清洗再生工艺，其特征在于所述HF酸浓度的重量比为8％-22％。
6.一种彩色显像管荧光面不良屏清洗再生工艺，其特征在于所述工业水的温度为20℃-45℃。
全文摘要
本发明公开了一种彩色显像管荧光面不良屏清洗再生工艺，包括对荧光面不良屏用工业水淋洗和热碱清洗循环两次以上；再次进行工业水清洗并用易溶解的无机氟化物的溶液对屏内面涂层进行逐步清洗；屏内面残留物用HF酸清洗并同时产生了一个玻璃再生面。本发明工艺使不良品率降低了80％以上，工序一次良品率提高了20％以上，从而有效地提高了生产效率降低了生产成本。
文档编号H01J9/00GK1452206SQ0310804
公开日2003年10月29日 申请日期2003年5月20日 优先权日2003年5月20日
发明者王鹏年, 吕少军, 甘为之 申请人:彩虹彩色显像管总厂