糊状物、使用糊状物制造等离子体显示板的方法和等离子体显示装置的制作方法

专利名称：糊状物、使用糊状物制造等离子体显示板的方法和等离子体显示装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及等离子体显示装置，更具体地涉及制造等离子体显示装置
的等离子体显示板(PDP)的方法，以及用于形成PDP的电极和黑色M 的糊状物。
背景技术：
通常，等离子体显示板(PDP)包括上基板、下基板和多个障壁，所 述障壁设置在上基板和下141之间并限定多个单元，并且每个单元填充有 主放电气体诸如氖(Ne)、氦(He)或氖和氦的混合气体(Ne+He)以及 包含少量氙的不活泼气体。当由于高频电压发生放电时，惰性气体产生真 空紫外(UV)射线，并且UV射线激发障壁之间的无机发光材料层，由此 实现图像。PDP是薄且重量轻的，并且长期期望成为主导的下一代显示装 置。
常规的PDP包括在其上显示图像的上面板和与上面板隔离预定距离 并平行连接至上基敗的下基板。在上基&上形成多个维持电极对(sustain electrode pair )、多个黑色基质和介电层，在下^L上形成多个寻址电极、 无机发光材料层和介电层。每个维持电极对包括扫描电极和维持电极，寻 址电极与维持电极对相交。
这种常规PDP的制造方法通常涉及制造玻璃H制造上面板、制 造下部面板以及组装PDP。在上面板和下部面板制造期间，尤其是在电极、 黑色基质或介电层的焙烧期间，可产生气泡。在此情况下，当施加电压时， 由于电压集中在包括气泡的电极部分上，所以可击穿电极的介电性，由此 损伤上面板或下部面板并最终降低等离子体显示装置的可靠性
发明内容
技术问题
本发明提供用于可简化等离子体显示板(PDP)的制造并防止PDP受 到气泡损伤的形成黑色基质的糊状物，制造PDP的方法和等离子体显示装 置。
技术方案
根据本发明的一个方面，提供用于形成电极的糊状物，所述糊状物包 含有机组分以及包含玻璃熔块和导电金属的无机组分，其中所i^L璃熔块 为糊状物的1.5-4重量％。
4H据本发明的另一个方面，提供用于形成黑色M的糊状物，所ii^ 状物包含有机组分以及包含玻璃熔块和氧化钴的无机组分，其中所^璃 熔块为糊状物的1.5-4重量％。
根据本发明的另一个方面，提供制造包括电极、黑色基质和介电材料 的PDP的方法，所述方法包括在^L上施加用于形成黑色基质的黑色基 质糊状物和用于形成电极的电极糊状物；在基tl上层叠介电材料；和同时 焙烧所述黑色基质糊状物、电极糊状物和介电材料。
根据本发明的另一个方面，提供等离子体显示装置，该等离子体显示 装置包括上基fcSL;在该上基板上形成的第一电极、第二电极和黑色基质； 面对该上^L的下^;和在该下基敗上形成的第三电极，其中第一电极、 第二电极和第三电极中的至少一个包含玻璃熔块和导电金属，并且玻璃熔 块为第一电极、第二电极和第三电极中的包含玻璃熔块的任一个的2.5-4 重量％。
根据本发明的另一个方面，提供等离子体显示装置，该等离子体显示 装置包括上基&;在该上基fcl上形成的第一电极，第二电极和黑色基质； 面对该上^41的下基板；和在该下J41上形成的第三电极，其中黑色基质 包含玻璃熔块和氧化钴，玻璃熔块是黑色基质的15-25重量％.
有益效果
通过同时焙烧电极、黑色M和介电材料能够简化PDP的制造。此夕卜， 通过适当减少糊状物中玻璃熔块的量能够降低产生气泡的可能性。而且， 能够提高驱动PDP的效率和等离子体显示装置的可靠性。


图1是根据本发明的一个实施方案的等离子体显示板(PDP)的立体
图2是用于解释在PDP中的电极布置的横截面图3是用于解释驱动PDP的时分方法的时序图，其中帧分成多个子区
域；
图4是说明祁^据本发明的一个实施方案的用于驱动PDP的驱动信号的 波形的时序图5是说明根据本发明的一个实施方案的制造PDP的方法的流程图6是根据本发明的一个实施方案的结构的横截面图，所述结构包括 基板，和在所述基板上形成的待焙烧的黑色基质糊状物、电极糊状物和介 电材料；
图7是根据本发明的一个实施方案通过对图6中所示结构进行焙烧操 作获得的结构的横截面图；和
图8是用于解释根据本发明的一个实施方案同时焙烧黑色基质和介电 材料的方法的图；和
图9和10说明根据本发明的一个实施方案在1^L上形成的黑色基质、 电极和介电材料。
实施发明的最优模式
以下将参考附图详细地描述本发明，其中显示本发明的示例性实施方案。
图1是根据本发明一个实施方案的显示装置的立体图。参考图1，等
离子体显示板(PDP)包括上基板IO，在上基tl 10上形成的多个电极 对，每个电极对由扫描电极11和维持电极12组成；下基仗20;和在下基 板20上形成的多个寻址电极22。
每个电极对包括透明电极lla和12a以及总线电极lib和12b。透明 电极lla和12a可由氧化铟锡(ITO )形成。总线电极lib和12b可由金 属诸如银(Ag)或铬(Cr)形成，或可以由铬/铜/铬(Cr/Cu/Cr)的堆叠 物或铬/铝/铬(Cr/AlCr)的堆叠物构成。总线电极lib和12b分别形成在 透明电极lla和12a上，并且减小由具有高电阻的透明电极lla和12a所 引起的电压降。
根据本发明的一个实施方案，每个电极对可仅由总线电极lib和12b 组成。在此情况下，由于不使用透明电极lla和12a，所以可降低PDP的 制造成本。总线电极lib和12b可由除了本发明中阐述的那些材料以外的 各种材料例如光敏材料形成。
在上基板10上形成黑色基^质。所述黑色基质通过吸^射到上^L IO上的外部光来实施光屏蔽功能，使得可减少光反射。此外，黑色基质提 高上基板10的纯度(purity)和对比度。
详细地，黑色基质包括覆盖多个障壁21的第一黑色基质15，在每 个扫描电极11的透明电极lla和总线电极lib之间形成的第二黑色M llc，以及在透明电极12a和总线电极12b之间形成的第二黑色基质12c。 也可以称为黑色层或黑色电M的第一黑色基质15以及第二黑色M llc 和12c可同时形成并可物理连接。或者，第一黑色基质15以及第二黑色基 质llc和12c可以不同时形成，并且可以不物理连接。
如果第一黑色基质15以及第二黑色M llc和12c是物理连接的，那 么第一黑色基质15以及第二黑色基质llc和12c可由相同的材料形成。另 一方面，如果第一黑色基质15以及第二黑色基质11 c和12c是物理分离的， 那么第一黑色基资15以及第二黑色基质Uc和12c可由不同的材料形成。
在其上彼此平行地形成有扫描电极11和维持电极12的上基仗10上沉 积上部介电层13和钝化层14。由于在上部介电层13中的放电累积，所以 产生带电粒子。上部介电层13可保护电极对。钝化层14保护上部介电层 13免于带电粒子的賊射并提高二次电子放电。
形成寻址电极22并与扫描电极11和维持电极12相交。在其上形成有 寻址电极22的下^4SL 20上形成下部介电层23和障壁21。
在下部介电层23和障壁21上形成无机发光材料层。障壁21包括形成 为封闭型障壁结构的多个垂直障壁21a和多个水平障壁21b。障壁21限定 多个放电单元并且防止由放电产生的紫外(UV)射线和可见射线泄漏到放 电单元中。
本发明可应用于除了本文中阐述的以外的各种障壁结构。例如，本发 明可用于垂直障壁21a的高度不同于水平障壁21b的高度的差别障壁结构 (differential barrier rib structure )，在垂直障壁21a或水平障壁21b的至 少一个中形成可用作排放通路的通道的通道型障壁结构，和在垂直障壁 21a或水平障壁21b的至少一个中形成中空的中空型障壁结构。在差别障 壁结构中，水平障壁21b的高度可大于垂直障壁21a的高度。在通道型障 壁结构或中空型障壁结构中，可在至少一个水平障壁21b中形成通道或中 空
^IL据本发明的一个实施方案，以直线布置红色(R)、绿色(G)和蓝 色(B)放电单元。然而，本发明不限于此。例如，R、 G和B放电单元 可以布置为三角形或A形。或者，R、 G和B放电单元可以布置为多边形 诸如矩形、五边形或六边形。
无机发光材料层由气体放电时产生的UV射线激发。结果，无机发光 材料层产生R、 G和B射线中的一种。在上基板10和下14120以及障壁 21之间^^供放电空间。将惰性气体混合物，例如氦(He)和氙(Xe)的 混合物，氖(Ne)和Xe的混合物，或He、 Ne和Xe的混合物注入该放电 空间中。
图2说明PDP中电极的布置。参考图2，构成PDP的多个放电单元 可以布置为矩阵。放电单元分别设置在多个扫描电极线A Ym和多个寻 址电极线X广Xn之间的交叉处或多个维持电极线Z广Zm和寻址电极线
Xi-Xn之间的交叉处。可以依次或同时驱动扫描电极线Y广Ym。可以同 时驱动维持电极线Zi Zm。寻址电极线& Xn可以分为两组包括编号
为奇数的寻址电极线的组和包括编号为偶数的寻址电极线的组。可以以组
的单位的方式驱动或可以依次驱动寻址电极线~ xn。
然而，图2中所示的电极布置是示例性的，因此本发明不限于此。例
如，可以使用其中同时驱动多个扫描线中的两个的双扫描方法驱动扫描电
极线K ~ Ym。寻址电极线X， Xn可以分成两个组包括设置在PDP的上 半部中的上部寻址电极线的组、和包括设置在PDP的下半部中的下部寻址
电极线的组。然后，可以以两个组的单位的方式驱动寻址电极线Xi-Xn。
图3是用于解释驱动PDP的时分方法的时序图，其中帧分成多个子区 域。参考图3，单元帧分成预定数目的子区域，例如八个子区域SF1-SF8， 以实现时分灰度显示。每个子区域SF1 SF8分成重设周期(未显示)、寻 址周期(A1…A8)和维持周期(S1…S8)。
不是所有的子区域SF1 SF8都可具有重设周期。例如，仅第一子区 域SF1可具有重设周期，或仅笫一子区域和中间子区域可具有重^:周期。
在每个寻址周期Al ~ A8期间，将显示数据信号施加于寻址电极X， 将扫描脉冲施加于扫描电极Y，使得可在放电单元中产生壁电荷。
在每个维持周期SI ~ S8期间，维持脉沖交替施加于扫描电极Y和维 持电极Z,使得放电单元可引起多次维持放电.
PDP的亮度与在全部维持放电周期S1~S8中分配的维持放电脉沖的 总数目成比例。假定用于一幅图像的帧包括八个子区域并且通过256 M 水平表示，则l、 2、 4、 8、 16、 32、 64和128个维持脉冲可以分别分配至 维持周期S1、 S2、 S3、 S4、 S5、 S6、 S7和S8。为了获得对应于133的灰 度水平的亮度，可以在第一子区域SF1、第三子区域SF3和第八子区域SF8 中寻址多个放电单元，使得它们可引起总共133次维持放电。
分配至每个子区域SF1~SF8的维持放电的数目可根据通过自动功率 控制(APC)分配至对应子区域的权数确定。参考图3,帧分成八个子区 域，但是本发明不限于此。换言之，帧中子区域的数目可以改变。例如， 可以通过将每个帧分为大于八个子区域(例如，十二或十六个子区域)驱 动PDP。
分配至每个子区域SF1 ~ SF8的维持放电的数目可以根据PDP的y及 其他特性变化。例如，灰度水平6而不是H水平8可分配至子区域SF4， 而A;复水平34而不A^JL水平32可分配至子区域SF6。
图4《一说明才艮据本发明的一个实施方案的用于驱动PDP的驱动信号的 波形的时序图。参考图4，重设前周期(pre-reset period) 1^为第一子 区域。在重设前周期期间，在扫描电极Y上产生正壁电荷，而在维持电极
z上产生负壁电荷。每个子区域包括参考在重设前周期期间产生的壁电荷
的分布用于初始化放电单元的重设周期、用于选择一定数目的放电单元的 寻址周期、和用于使得所选择的放电单元能够引起一定数目的维持放电的 维持周期。
重设周期包括设定增加周期(set-up period )和设定降低周期(set-down period).在设定增加周期期间，对全部扫描电极Y同时施加增加的波形使 得全部放电单元每个均可引起弱放电，而且在放电单元中可分别产生壁电 荷。
在设定降低周期期间，对全部扫描电极Y施加减小的波形，该波形的 电压从低于增加的波形的峰值电压的正电压降低，使得每个放电单元可引 起消除放电，并且可消除不必要的在设定增加周期期间产生的壁电荷和空 间电荷中的任何一个。
在寻址周期期间，负扫描信号施加于扫描电极Y，同时正数据信号施 加于寻址电极X。由于负扫描信号和正数据信号之间的差异以及在重设周 期期间产生的壁电荷，所以发生寻址放电，并选择单元。在设定降低周期 以及寻址周期期间，保持维持电压的信号施加于维持电极Z。
在维持周期期间，维持脉冲交替施加于扫描电极Y和维持电极Z，使 得在扫描电极Y和相应维持电极Z之间可发生作为维持放电的表面放电。
图4中所示的波形是示例性的，因此本发明不限于此。例如，重设前 周期可以是任选的。此外，用于驱动PDP的驱动信号的极性和电压不限于 图4中所示的那些，而是可以按各种方式改变。用于消除壁电荷的消除信 号可在维持放电之后施加于每个维持电极Z。维持信号可施加于扫描电极 Y或维持电极Z，由此实现单一维持驱动方法。
图5是说明根据本发明的一个实施方案的制造PDP的方法的流程图。 参考图5，在操作500中，将用于形成黑色基质的糊状物施加到上J^L上。 在操作510中，将用于形成电极的糊状物施加到用于形成黑色基质的糊状 物上。上^1可由玻璃形成。用于形成黑色基质的糊状物以下称为黑色基 质糊状物，用于形成电极的糊状物以下称为电极糊状物。
块和^化钴(C03oJ的无机l:分。黑色基质^状物的玻璃熔块可以是黑 色基质糊状物的1.5-4重量％。黑色基质糊状物的玻璃熔块是熔化的玻璃。
由于玻璃熔块，所以黑色基质糊状物可合适地施加到上^L上，并且可通
过经受焙烧^Mt形成黑色基质。
更具体地，黑色基质糊状物的玻璃熔块可以是黑色基质糊状物的
2.5-3.5重量％。黑色基质糊状物的无机组分可以是黑色基质糊状物的有机 组分的25-40重量％。黑色基质糊状物的玻璃熔块可以是黑色基质糊状物 的无机组分的15-25重量％。在此情况下，能够提高黑色基质糊状物的粘 附性和稳定性，减小在焙烧操作期间产生气泡的可能性，并且改善黑色基 质的膝光和显影容限。
黑色基质糊状物中的有机组分、氧化钴和玻璃熔块的重量比率可以是 85.8%:11.1%:3.1%。
黑色基质糊状物的粘度可以是10-20帕斯卡.秒。在此情况下，能够减 小用于施加黑色基质糊状物的喷嘴被黑色基质糊状物堵塞的可能性，和能 够减小黑色基质糊状物在施加到上基长上之后过度铺展的可能性。
黑色基质糊状物可具有小于10 Jim的研磨细度(FOG， Fineness-Of-Ground )。在此情况下，能够稳定地将黑色基质糊状物施加到 上絲上。
黑色基质糊状物的有机组分可包括光敏组分诸如光敏单体、光敏低聚 物或光敏聚合物。黑色基质糊状物的有机组分也可包括添加剂组a如粘 结剂、光聚合引发剂、紫外线(UV)吸收剂、敏化剂、阻聚剂(polymer sto卯er)、增塑剂、增稠剂、有机溶剂、抗氧化剂、分散剂、有机或无机 抗沉降剂、以及均化剂。
银(Ag)的无机组分。电极糊状物的玻璃熔块可以是电极糊状物的1.5-4 重量％。
更具体地，电极糊状物的玻璃熔块可以是电极糊状物的2-3重量％. 此外，电极糊状物的有机组分可以是电极糊状物的无机组分的35-45重量 %，电极糊状物的玻璃熔块可以是电极糊状物的3-4.5重量％。在此情况 下，能够提高黑色基质糊状物的粘附性和稳定性，减小在焙烧操作期间产 生气泡的可能性，改善用于黑色基质的膝光和显影容限。
黑色基质糊状物中的有机组分、银和玻璃熔块的重量比率可以是 25.98%:67.8%:2.3%。
黑色基质糊状物可具有小于10 jim的FOG。在此情况下，能够稳定地 将黑色基^质糊状物施加到上^L上。
电极糊状物的有机组分可包括光敏组分诸如光敏单体、光敏低聚物或 光敏聚合物。电极糊状物的有机组分也可包含添加剂组分诸如粘结剂、光 聚合引发剂、紫外线(UV)吸收剂、敏化剂、阻聚剂、增塑剂、增稠剂、 有机溶剂、抗氧化剂、分軟剂、有机或无机的抗沉降剂、以及均化剂。
电极糊状物可包括除了银之外的导电金属.例如，电极糊状物可包括 铜或两种或更多种金属化合物。
为了在上基fcl上形成透明ITO电极，如图2所示，可在IMt 500 (即 施加糊状物用于在上基板上成形)之前将电极糊状物施加到上^L上，佳_ 得黑色基质可置于ITO电极和扫描电极之间或在ITO电极和维持电极之 间。
在操作520中，将介电材料层叠到上1^上。在操作530中，对上基 板进行焙烧操作。焙烧操作是通#热原料，将原料转化为^tt材料的操 作。
更具体地，在^Mt 530中，可通过逐渐升高焙烧温度进行焙烧操作。 结果，由于电极糊状物的有机组分和介电材料的溶剂在低温下蒸发，所以 在介电材料中产生通道，然后电极糊状物的有机组分经过所述通道烧尽使 得可焙烧介电材料，和可在上基板上形成电极。
图8是用于解释根据本发明一个实施方案的同时焙烧黑色M、电极 和介电材料的方法的图。参考图8，可以在约150'C的温度下干燥并焙烧黑 色基质糊状物二十分钟，如附图标记800所示的。
图5中所示的方法不仅可应用于在PDP的上基&上形成电极、黑色基 质和介电材料，而且可应用于在PDP的下基板上形成寻址电极和介电材 料。
图6是一个结构的横截面图，所述结构包括基板630，在所述J4SL 630上形成的黑色基质糊状物620、电极糊状物600和610、以及介电材料 640。
施加到基板630上的黑色基质糊状物620的厚度a可以是1.5-2.5 jun， 尤其是1.7-2nm。根据本发明的一个实施方案，可以同时焙烧黑色基质糊
状物620、电极糊状物600和610、以及介电材料640。在此情况下，当介 电材料640层叠到基板630上时，黑色基质糊状物620仍未焙烧。因此， 如果黑色基质糊状物620太厚，则电极糊状物600和610之下的空间可能 不能填充介电材料640,由此在焙烧^Mt期间产生气泡。
当厚度a为1.5-2.5 jim，尤其是1.7-2 fim时，能够提高外部光的吸收， 降低光的反射，提高基板630的纯度和对比度，并减小在焙烧操作期间产 生气泡的可能性。
施加到基板630上的电极糊状物600和610的厚度可以是7-9 jim，尤 其是7.5-8.5 pm。根据本发明的一个实施方案，可以同时焙烧黑色基质糊 状物620、电极糊状物600和610、以及介电材料640。在此情况下，当介 电材料640层叠到基&630上时，电极糊状物600和610仍未焙烧。因此， 如果电极糊状物600和610 M，则电极糊状物600和610之下的空间可 能不能填充介电材料640，由此在焙烧操作期间产生气泡。
在基fel 630上的介电材料640的部分的厚度d可以是65-82 jim，尤其 是75-80 nm。在电极糊状物600和610上的介电材料640的部分的厚度c 可以是60-78 jim，尤其是70-78 jmi。在此情况下，层叠到^41630上的介 电材料640可合适地发挥其功能，并且通过合适填充在电极糊状物600和 610之下的空的空间(如果有的话)来减小在焙烧^Mt期间产生气泡的可 能性。
更具体地，图7说明通过同时焙烧图6中;斤示的黑色s基质糊状物620、电 极糊状物600和610、以及介电材料640所得的结构。黑色1^质糊状物620 在横向方向上比在纵向方向上收缩更多，而电极糊状物600和610在横向 方向上与在纵向方向上收缩几乎相同。黑色基质糊状物620收缩的程度大 于电极糊600和610收缩的程度。
通过焙烧黑色基质糊状物620获得的黑色基质720的厚度e可以是 0.25-0.45 jim，尤其是0.3-0.4 fim。分别通过焙烧电极糊状物600和610获 得的电极700和710的厚度f可以是3-5 jim，尤其是3.4-4.5 nm。在141 730上的介电材料740的部分的厚度h可以是25-35 jrni。介电材料740和 基板730分别通过焙烧介电材料640和基板630获得。在电极700和710 上的介电材料740的部分的厚度g可以是20-30 fim,尤其是24-28 jun。
当黑色1^质720、电极700和710、以及介电材料740的厚度如上所述 时，能够减小在焙烧操作期间产生气泡的可能性并防止对PDP的损伤。换 言之，当厚度a、 b、 c和d如上参考图6所述时，能够用介电材料合适地 填充空的空间并由此防止在焙烧操作期间产生气泡。此外，如上所述，能 够薄地形成黑色基质、电极和介电材料。
图9和10说明根据本发明的实施方案使用焙烧操作在基敗上形成的黑 色基质、电极和介电材料。更具体地，图9说明通过焙烧包含6.8重量％ 玻璃熔块的黑色基质糊状物和包含6重量％玻璃熔块的电极糊状物获得的 黑色基质和电极，图10说明通过焙烧包含2.8重量n/。玻璃熔块的黑色M 糊状物和包含2.3重量％玻璃熔块的电极糊状物获得的黑色基质和电极。
参考图9，随着玻璃熔块含量增加，焙烧操作之后，在M上的电极 和黑色基质附近产生更多气泡。参考图IO，当如上参考图5所述降低玻璃 熔块含量时，能够防止产生气泡。
工业实用性
如上所述，根据本发明，通过同时焙烧电极、黑色基质和介电材料， 能够简化PDP的制造。此外，通过适当降低糊状物中玻璃熔块的量，能够 降低产生气泡的可能性。而且，能够提高驱动PDP的效率和等离子体显示 装置的可靠性。
虽然参考本发明的示例性实施方案显示和描述了本发明，但是应该理 解本领域技术人员可在形式和细节上做出各种改变，而不脱离由以下权利 要求所限定的本发明的精神和范围。
权利要求
1. 一种用于制造等离子体显示板(PDP)的糊状物，所述糊状物包含有机组分；和包含玻璃熔块的无机组分，其中所述玻璃熔块是所述糊状物的1.5-4重量％。
2. 根据权利要求1所述的糊状物，其中所述糊状物是用于在所述PDP上 形成电极的电极糊状物，所述无机组分包含所述玻璃熔块和导电金属。
3. 根据权利要求2所述的糊状物，其中所述玻璃熔块是所述无机组分的 3-4.5重量％。
4. 根据权利要求2所述的糊状物，其中所述有机组分是所述无机组分的 35-45重量％。
5. 根据权利要求1所述的糊状物，其中所述糊状物是用于在所述PDP上 形成黑色基质的黑色基质糊状物，所述无机组分包含所述玻璃熔块和氧化 钴。
6. 根据权利要求5所述的糊状物，其中所^璃熔块是所述无机组分的 15-25重量％。
7. 根据权利要求5所述的糊状物，其中所述无机组分是所述有机组分的 25-40%。
8. 根据权利要求l所述的糊状物，其中所述糊状物具有10-25帕斯卡-秒 的粘度。
9. 根据权利要求6所述的糊状物，其中所述糊状物具有10fim的研磨细 度(FOG )。
10. —种制造PDP的方法，所述PDP包括电极、黑色基质和介电材料， 所述方法包括将用于形成黑色基质的黑色基质糊状物和用于形成电极的电极糊状物 施加到^L上；在所iU^上层叠介电材料；和同时焙烧所述黑色1^质糊状物、所述电极糊状物和所述介电材料。
11. 根据权利要求10所述的方法，其中所述电极糊状物包含有机组分；和包含玻璃熔块和银(Ag)的无机组分， 其中所i^璃熔块是所述电极糊状物的1.5-4重量％。
12. 根据权利要求10所述的方法，其中所述黑色基质糊状物包含 有机组分；和包含玻璃熔块和氧化钴的无机组分， 其中所^璃熔块是所述黑色基质糊状物的1.5-4重量％。
13. 根据权利要求10所述的方法，其中所述电极糊状物的厚度是7-9nm。
14. 根据权利要求10所述的方法，其中所述黑色基质糊状物的厚度是 1.5-2.5拜。
15. —种等离子体显示装置，包括 上狄；在所述上基板上形成的笫一电极、笫二电极和黑色基质； 面对所述上基板的下J41;和 在所述下基敗上形成的笫三电极，其中所述第一电极、笫二电极和第三电极中的至少一个包含玻璃熔块 和导电金属，所^L璃熔块是所述第一电极、第二电极和第三电极中包含 所^L璃熔块的任一个的2.5-4重量％,
16. 根据权利要求15所述的等离子体显示装置，其中所述第一电极、第二 电极和第三电极中的包含所^L璃熔块的任一个的厚M3-5 jim。
17. 根据权利要求15所述的等离子体显示装置，其中所^JL璃熔块是所述 第一电极、第二电极和笫三电极中的包含所^璃熔块的任一个的3-3.5 重量％。
18. 根据权利要求15所述的等离子体显示装置，其中所述黑色基质包含玻 璃熔块和氧化钴，所述黑色基质的所述玻璃熔块是所述黑色基质的15-25 重量％。
19. 根据权利要求15所述的等离子体显示装置，其中所述黑色基质的厚度 是0.25-0.45 um。
20.根据权利要求19所述的等离子体显示装置，其中所述黑色基质的所述 玻璃熔块是所述黑色基质的20-25重量％。
全文摘要
本发明提供一种等离子体显示装置以及制造等离子体显示板(PDP)的方法。所述方法包括在基板上施加用于形成黑色基质的黑色基质糊状物和用于形成电极的电极糊状物；在基板上层叠介电材料；和同时焙烧黑色基质糊状物、电极糊状物和介电材料。因此，通过同时焙烧电极、黑色基质和介电材料能够简化PDP的制造。此外，通过适当减少糊状物中玻璃熔块的量能够降低产生气泡的可能性。而且，能够提高驱动PDP的效率和等离子体显示装置的可靠性。
文档编号H01J17/49GK101390184SQ200780006357
公开日2009年3月18日 申请日期2007年6月26日 优先权日2006年6月29日
发明者卢正锡, 徐泳佑, 韩昌旼 申请人:Lg电子株式会社