专利名称：光源装置及具有该光源装置的曝光机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种光源装置及具有该光源装置的曝光机。
背景技术：
中国台湾第iC64800号专利(申请案号为093212758)所公开的印刷电路板曝光机的结构改良中，机台的内部设有滑轨，灯管座的两侧分别设有滑动于滑轨内的导轮，灯管座连结有螺接于螺杆座的螺孔内的螺杆，螺杆座的一端设有链齿轮，通过马达驱动链轮组、 传动杆、链轮及链条作动以带动链齿轮及螺杆座旋转，使得螺杆能相对于螺杆座伸缩进而带动灯管座沿着滑轨升降，由此，灯管座能对不同高度的PC板曝光台调整投射距离。然而， 该专利的传动机构设计上较为复杂，使得制造成本也相对提高。
发明内容本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种光源装置及具有该光源装置的曝光机，本实用新型的生产制造成本低，且可以提升曝光的品质。一种光源装置，其包含光源模组及高度调整机构，高度调整机构包括固定架；活动架，供光源模组安装并能带动光源模组相对于固定架上下移动；及气缸，包含设置于固定架上的缸体，及穿设于缸体内并与活动架相连接的气缸伸缩杆，气缸伸缩杆呈纵向延伸并能相对于缸体上下运动，以带动活动架相对于固定架上下移动。其进一步结构是。固定架包含两个分别设置于左右侧且相间隔的导杆，各导杆呈纵向延伸，活动架包含两个分别能滑动地套设于两个导杆上的衬套。活动架还包含供气缸伸缩杆连接的浮动接头，固定架还包含两个分别设置于两个导杆上且邻近底端处的安装板，及两个分别接合于两个安装板上的挡止件，各挡止件用以供活动架抵接。固定架还包含两个分别设置于两个挡止件顶端的弹性接触垫，各弹性接触垫用以供活动架抵接。固定架还包含两个分别接合于两个安装板上的下缓冲器，各下缓冲器包括接合于各安装板上的下缸体，及能上下伸缩地穿设于下缸体内且用以抵接活动架的下接触杆，各下接触杆顶端的高度高于各弹性接触垫顶端的高度。固定架还包含两个分别邻近于两个导杆顶端的上缓冲器，各上缓冲器包括上缸体，及能上下伸缩地穿设于上缸体内且用以抵接活动架的上接触杆。一种具有光源装置的曝光机，其包括机台、对位装置及光源装置；对位装置，设置于机台内并包含上对位台框及下对位台框，上对位台框与下对位台框能左右交替地水平移动；[0016]光源装置，设置于机台内并包含光源模组，设置于机台内且间隔位于对位装置上方，光源模组用以对对应至其下方的上对位台框或下对位台框照射光线；及高度调整机构，包括固定架、活动架，及气缸，固定架固定地设置于机台内，活动架供光源模组安装并能带动光源模组相对于固定架上下移动，气缸包含设置于固定架上的缸体，及穿设于缸体内并与活动架相连接的气缸伸缩杆，气缸伸缩杆呈纵向延伸并能相对于缸体上下运动，以带动活动架相对于固定架上下移动。其进一步结构是。固定架包含两个分别设置于左右侧且相间隔的导杆，各导杆呈纵向延伸，活动架包含两个分别能滑动地套设于两个导杆上的衬套。活动架还包含供气缸伸缩杆连接的浮动接头，固定架还包含两个分别设置于两个导杆上且邻近底端处的安装板，及两个分别接合于两个安装板上的挡止件，各挡止件用以供活动架抵接。固定架还包含两个分别设置于两个挡止件顶端的弹性接触垫，各弹性接触垫用以供活动架抵接。固定架还包含两个分别接合于两个安装板上的下缓冲器，各下缓冲器包括接合于各安装板上的下缸体，及能上下伸缩地穿设于下缸体内且用以抵接活动架的下接触杆，各下接触杆顶端的高度高于各弹性接触垫顶端的高度。固定架还包含两个分别邻近于两个导杆顶端的上缓冲器，各上缓冲器包括上缸体，及能上下伸缩地穿设于上缸体内且用以抵接活动架的上接触杆。下面对本实用新型的优点进行说明。通过高度调整机构设计，能带动光源模组上下移动地调整高度，使得光源模组与上对位台框之间的距离以及光源模组与下对位台框之间的距离能调整成相同，由此，光源装置对上对位台框与下对位台框曝光的强度与均勻度能保持一致，以提升曝光的品质。再者，通过高度调整机构的结构设计简单，因此，能有效降低制造成本。
图1是本新型实施例所述具有光源装置的曝光机的前视图；图2是本新型实施例所述具有光源装置的曝光机的光源装置的立体图；图3是本新型实施例所述具有光源装置的曝光机的光源装置的立体分解图；图4是本新型实施例所述具有光源装置的曝光机的光源装置的侧视图；图5是本新型实施例所述具有光源装置的曝光机的前视图；图6是本新型实施例所述具有光源装置的曝光机的光源装置的立体图；图7是本新型实施例所述具有光源装置的曝光机的光源装置的侧视图；附图标记说明100、曝光机，10、机台，20、对位装置，21、上对位台框，22、下对位台框，30、光源装置，3、光源模组，31、滚轮，4、高度调整机构，41、固定架，411、架本体，412、导杆，413、安装板，414、挡止件，415、螺孔，416、弹性接触垫，417、下缓冲器，418、下缸体，419、下接触杆， 420、上缓冲器，42、活动架，421、架体，422、侧接合板，423、衬套，似4、滑轨，425、上缸体，426、上接触杆，427、浮动接头，43、气缸，431、缸体，432、气缸伸缩杆，D1、D2、距离，I、箭头。
具体实施方式
下面对本实用新型的实施例进行详细说明。如图1所示，是本新型具有光源装置的曝光机的一较佳实施例，该曝光机100包含机台10、对位装置20及光源装置30。对位装置20设置于机台10内的中间位置处，光源装置30设置于机台10内且间隔位于对位装置20上方。对位装置20包含上对位台框21，及与上对位台框21上下且左右相间隔的下对位台框22，上对位台框21与下对位台框22皆设置于传动机构(图未示)上， 通过传动机构的带动，使得上对位台框21与下对位台框22能左右交替地水平移动，由此， 上对位台框21与下对位台框22能分别移动至对应于光源装置30下方的位置，使得光源装置30能对上对位台框21内的基板(图未示)或下对位台框22内的基板(图未示)进行曝光的作业。如图2、图3及图4所示，光源装置30包含光源模组3及高度调整机构4。光源模组3设置于高度调整机构4上且间隔位于对位装置20 (如图1)上方，光源模组3用以对对应至其下方的上对位台框21 (如图1)或下对位台框22 (如图1)照射光线。高度调整机构 4包括固定架41、接合于固定架41上并能相对于固定架41上下活动的活动架42及设置于固定架41与活动架42之间的气缸43。气缸43包含设置于固定架41上的缸体431及穿设于缸体431内且底端与活动架42相连接的气缸伸缩杆432，气缸伸缩杆432呈纵向延伸并能相对于缸体431上下运动，气缸43的气缸伸缩杆432能带动活动架42相对于固定架41 上下移动，以调整光源模组3的高度，使得光源模组3与上对位台框21之间的距离和光源模组3与下对位台框22之间的距离能调整成相同，由此，光源装置30的光源模组3对上对位台框21或是对下对位台框22曝光时的强度与均勻度均能保持一致。固定架41包含能通过螺锁方式锁固于机台10上的架本体411，架本体411的左右侧各设有两个前后相间隔的导杆412，各导杆412呈纵向延伸且其顶端能通过螺锁方式锁固于架本体411上。活动架42包含架体421、两个分别设置于架体421左右侧的侧接合板 422、四个衬套423及设置于架体421上的浮动接头427。各侧接合板422邻近外侧处锁固有两个前后相间隔的衬套423，各衬套423能滑动地套设于各导杆412上，在本实施例中，各衬套423为滚珠衬套。浮动接头427用以供气缸43的气缸伸缩杆432连接，通过浮动接头 427的设计能吸收气缸伸缩杆432进行直线推动或拉回时其角度或位置的偏移量，由此，使得气缸43的气缸伸缩杆432能顺畅地带动活动架42沿着导杆412的延伸方向上下滑动。需说明的是，在设计时，固定架41也能只包含两个分别设置于架本体411左右侧的导杆412，活动架42也可只包含两个分别能滑动地套设于两个导杆412上的衬套423，导杆412及衬套423的数量并不以本实施例所公开的为限。此外，各侧接合板422邻近内侧处锁固有呈水平延伸的滑轨424，光源模组3可通过两侧的滚轮31滑动地接合于各侧接合板422的滑轨似4上，由此，能方便且迅速地将光源模组3组装在活动架42上或是由活动架42上拆卸。固定架41还包含两个安装板413，及四个挡止件414。各安装板413可通过卡合、 螺锁或銲接方式接合固定于两个前后相间隔的导杆412上，且各安装板413邻近于导杆412底端处。每两挡止件414彼此前后相间隔地接合于各安装板413上，每两挡止件414用以供活动架42的各侧接合板422抵接，以防止活动架42向下移动，由此，能调整与限制活动架42向下移动的行程。在本实施例中，各安装板413包括两个螺孔415，各挡止件414为呈纵向延伸并且螺接于各螺孔415的螺栓，通过各挡止件414螺接于各螺孔415内的设计，使得各挡止件414能相对于各安装板413上下移动并调整高度，由此，能改变活动架42向下移动的行程。较佳地，固定架41还包含有四个弹性缓冲垫416，各弹性缓冲垫416为橡胶或硅胶材质所制成，其可通过黏胶黏固于各挡止件414顶端，各弹性缓冲垫416用以供各侧接合板422抵接，由此，各弹性缓冲垫416能吸收活动架42的侧接合板422向下移动时的冲击力，以避免挡止件414直接受侧接合板422的冲击力影响而产生受损的情形。更佳地，固定架41进一步地包含四个下缓冲器417，每两下缓冲器417彼此前后相间隔地接合于各安装板413上，在本实施例中，各下缓冲器417为油压缸，各下缓冲器417 包括接合于各安装板413上的下缸体418，及能上下伸缩地穿设于下缸体418内的下接触杆419，各下接触杆419顶端的高度高于各弹性接触垫416顶端的高度。活动架42的侧接合板422向下移动的过程中，下缓冲器417的下接触杆419会先抵接在侧接合板422，并吸收侧接合板422下移时的冲击力，使侧接合板422缓慢下移段距离后再抵接于弹性缓冲垫 416上，由此，能有效地吸收活动架42的侧接合板422向下移动时的冲击力。固定架41还包含有四个上缓冲器420，架本体411的左右侧各设有两个前后相间隔且邻近导杆412顶端的上缓冲器420，在本实施例中，各上缓冲器420为油压缸，各上缓冲器420包括接合于架本体411上的上缸体425，及能上下伸缩地穿设于上缸体425内的上接触杆426，活动架42的侧接合板422向上移动的过程中，上缓冲器420的上接触杆似6会抵接在侧接合板422上，由此，能有效地吸收活动架42的侧接合板422向上移动时的冲击力。以下将针对曝光机100的操作方式进行详细说明。如图1、图2及图4所示，当上对位台框21通过传动机构的带动而移动到对应于光源装置30的光源模组3位置时，光源模组3位于第一高度位置，光源模组3与上对位台框 21之间的距离为D1，光源模组3能对上对位台框21内的基板(图未示)进行曝光的作业。如图5、图6及图7所示，当上对位台框21曝光完成后，通过传动机构带动上对位台框21与下对位台框22分别沿箭头方向左右交替地水平移动，使得下对位台框22能移动到对应于光源装置30的光源模组3位置。接着，通过气缸3的气缸伸缩杆432沿箭头I方向推动，以带动活动架42及光源模组3往下移动，当活动架42的侧接合板422抵接于下缓冲器417的下接触杆419时，侧接合板422会将下接触杆419下压，下接触杆419会吸收活动架42的侧接合板422向下移动的冲击力，使侧接合板422能缓慢地继续下移。待侧接合板422下移一段距离后会抵接在挡止件414顶端的弹性接触垫416上，活动架42即停止向下移动。此时，光源模组3位于第二高度位置，光源模组3与下对位台框22之间的距离为 D2，光源模组3能对下对位台框22内的基板(图未示)进行曝光的作业。由于Dl等于D2， 因此，光源装置30对上对位台框21与下对位台框22曝光的强度与均勻度能保持一致，由此，以有效地提升曝光的品质。当下对位台框21曝光完成后，通过传动机构带动上对位台框21与下对位台框22 左右交替地水平移动，使得上对位台框21移动到对应于光源装置30的光源模组3位置。接着，通过气缸3的气缸伸缩杆432沿箭头I反向拉回，以带动活动架42及光源模组3往上移动，当活动架42的侧接合板422抵接于上缓冲器420的上接触杆426时，侧接合板422会将上接触杆似6上压，上接触杆似6会吸收活动架42的侧接合板422向上移动的冲击力， 使活动架42能缓慢地带动光源模组3复位到第一高度位置，以进行上对位台框21上的另一个基板(图未示)的曝光作业。需说明的是，在设计时，挡止件414、弹性接触垫416、下缓冲器417及上缓冲器420的数量也可各为两个，且设置在左右相反侧，同样能达到吸收活动架42移动时的冲击力的功效。综上所述，本实施例的曝光机100，通过光源装置30的高度调整机构4设计，能带动光源模组3上下移动地调整高度，使得光源模组3与上对位台框21之间的距离Dl以及光源模组3与下对位台框22之间的距离D2能调整成相同，由此，光源装置30对上对位台框21与下对位台框22曝光的强度与均勻度能保持一致，以提升曝光的品质。再者，由于高度调整机构4的结构设计简单，因此，能有效降低制造成本，确实能达到本新型所诉求的目的。以上仅为本实用新型的具体实施例，并不以此限定本实用新型的保护范围；在不违反本实用新型构思的基础上所作的任何替换与改进，均属本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种光源装置，其特征在于，其包含光源模组及高度调整机构，高度调整机构包括固定架；活动架，供光源模组安装并能带动光源模组相对于固定架上下移动；及气缸，包含设置于固定架上的缸体，及穿设于缸体内并与活动架相连接的气缸伸缩杆， 气缸伸缩杆呈纵向延伸并能相对于缸体上下运动，以带动活动架相对于固定架上下移动。
2.如权利要求1所述光源装置，其特征在于，固定架包含两个分别设置于左右侧且相间隔的导杆，各导杆呈纵向延伸，活动架包含两个分别能滑动地套设于两个导杆上的衬套。
3.如权利要求2所述光源装置，其特征在于，活动架还包含供气缸伸缩杆连接的浮动接头，固定架还包含两个分别设置于两个导杆上且邻近底端处的安装板，及两个分别接合于两个安装板上的挡止件，各挡止件用以供活动架抵接。
4.如权利要求3所述光源装置，其特征在于，固定架还包含两个分别设置于两个挡止件顶端的弹性接触垫，各弹性接触垫用以供活动架抵接。
5.如权利要求4所述光源装置，其特征在于，固定架还包含两个分别接合于两个安装板上的下缓冲器，各下缓冲器包括接合于各安装板上的下缸体，及能上下伸缩地穿设于下缸体内且用以抵接活动架的下接触杆，各下接触杆顶端的高度高于各弹性接触垫顶端的高度。
6.如权利要求5所述光源装置，其特征在于，固定架还包含两个分别邻近于两个导杆顶端的上缓冲器，各上缓冲器包括上缸体，及能上下伸缩地穿设于上缸体内且用以抵接活动架的上接触杆。
7.一种具有光源装置的曝光机，其特征在于，其包括机台、对位装置及光源装置；对位装置，设置于机台内并包含上对位台框及下对位台框，上对位台框与下对位台框能左右交替地水平移动；光源装置，设置于机台内并包含光源模组，设置于机台内且间隔位于对位装置上方，光源模组用以对对应至其下方的上对位台框或下对位台框照射光线；及高度调整机构，包括固定架、活动架，及气缸，固定架固定地设置于机台内，活动架供光源模组安装并能带动光源模组相对于固定架上下移动，气缸包含设置于固定架上的缸体， 及穿设于缸体内并与活动架相连接的气缸伸缩杆，气缸伸缩杆呈纵向延伸并能相对于缸体上下运动，以带动活动架相对于固定架上下移动。
8.如权利要求7所述具有光源装置的曝光机，其特征在于，固定架包含两个分别设置于左右侧且相间隔的导杆，各导杆呈纵向延伸，活动架包含两个分别能滑动地套设于两个导杆上的衬套。
9.如权利要求8所述具有光源装置的曝光机，其特征在于，活动架还包含供气缸伸缩杆连接的浮动接头，固定架还包含两个分别设置于两个导杆上且邻近底端处的安装板，及两个分别接合于两个安装板上的挡止件，各挡止件用以供活动架抵接。
10.如权利要求9所述具有光源装置的曝光机，其特征在于，固定架还包含两个分别设置于两个挡止件顶端的弹性接触垫，各弹性接触垫用以供活动架抵接。
11.如权利要求10所述具有光源装置的曝光机，其特征在于，固定架还包含两个分别接合于两个安装板上的下缓冲器，各下缓冲器包括接合于各安装板上的下缸体，及能上下伸缩地穿设于下缸体内且用以抵接活动架的下接触杆，各下接触杆顶端的高度高于各弹性接触垫顶端的高度。
12.如权利要求11所述具有光源装置的曝光机，其特征在于，固定架还包含两个分别邻近于两个导杆顶端的上缓冲器，各上缓冲器包括上缸体，及能上下伸缩地穿设于上缸体内且用以抵接活动架的上接触杆。
专利摘要本实用新型公开了一种光源装置及具有该光源装置的曝光机，光源装置包含光源模组及高度调整机构，高度调整机构包括固定架、活动架及气缸，活动架供光源模组安装并能带动光源模组相对于固定架上下移动，气缸包含设置于固定架上的缸体，及穿设于缸体内并与活动架相连接的气缸伸缩杆，气缸伸缩杆呈纵向延伸并能相对于缸体上下运动，以带动活动架相对于固定架上下移动。本实用新型的生产制造成本低，且可以提升曝光的品质。
文档编号F21V14/02GK202041765SQ20112014561
公开日2011年11月16日 申请日期2011年5月10日 优先权日2011年5月10日
发明者张永裕, 汪晨伟 申请人:志圣科技(广州)有限公司