用于计算带电粒子束的射束参数的方法、测量设备及带电粒子束装置制造方法
【专利摘要】本发明涉及一种计算带电粒子束的射束参数的方法，一种测量装置及带电粒子束装置。通过偏转单元(3)将带电粒子束装置(1)的带电粒子束(4)引导至装备在孔隙装置(7)上的具有一个或多个狭缝孔隙(8)的狭缝孔隙机构处。确定穿过狭缝孔隙机构的电子束部分的测量面坐标。根据测量面坐标，孔隙装置自动移动，使得设置在孔隙装置中的测量孔隙(9)移动到预先确定的测量参考点上。射束参数测量需要借助测量孔隙。在适合本方法的测量装置(5)中，狭缝孔隙机构包括至少两个互不平行的狭缝孔隙部分(12、13、15、16)，这些狭缝孔隙部分可以属于单一连续的狭缝孔隙。
【专利说明】用于计算带电粒子束的射束参数的方法、测量设备及带电 粒子束装置
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种用于计算带电粒子束的射束参数的方法，一种根据权利要求10 的上位概念所述的测量设备及一种根据权利要求16的上位概念所述的带电粒子束装置。
【背景技术】
[0002] 带电粒子束如电子束可以应用在材料加工中，如焊接及切割工序中，钻孔、切除及 其它几何形状的或金属表面加工的方式中。因此，加工结果的质量关键取决于带电粒子束 的属性。由此，人们对尽可能高度精准的确定待使用带电粒子束的属性产生了极大的兴趣。 特别感兴趣的是具有强度分布的粒子束几何形状、粒子束烧灼性（Strahlkaustik)及焦点 的位置。
【发明内容】
[0003] 众所周知（Reisgen, Uwe ;01schok, Simon ;Backhaus, Alexander :"Diabeam 测速 法：用于测量电子束的多功能工具";视点-德国精英学院：亚琢工业大学焊接技术及连接 技术学院，46-48页，科学出版物学院，ISSN 1614-8185)，将待测量带电粒子束引导至在电 子束传感器上的孔隙装置上。因此，可以用狭缝孔隙或孔状孔隙作为孔隙。
[0004] 如果在已知位置及方向的狭缝孔隙横向于其纵向方向进行的带电粒子束扫描，则 借助于电子束传感器可以进行粒子束一维测量。为了粒子束完整的表征，假设粒子束横截 面的旋转对称。
[0005] 粒子束横截面的更准确测量可以借助于孔状孔隙。此外，带电粒子束按照行的方 式以例如50至100行扫描孔状孔隙。通过例如直径20 μ m的孔状孔隙可以高精度二维地 测量直径为100-200 μ m的粒子束横截面。然而在实践中到目前为止孔状孔隙与带电粒子 束相碰还是有问题的。此外，通常进行耗时的手工调整。
[0006] 此外，孔隙装置是已知的（Dilthey，U. ;B6hm, S. ;Welters，T. ; R6Bler, K.; Manoharan, S. ;Buvanashekaran, G.: "使用具有质量保证的Diabeam系统测量电子束 (Electron beam measurements with a diabeam System as a tool for the quality assurance)",会议记录：S0J0M 2000:在Joinig关于材料的研讨会（Symposium on Joinig of Materials) ,2000 年 1 月 20 日-22 日，印度，蒂鲁吉拉伯利（Tiruchirappalli)),该装 置具有两个相互平行的狭缝孔隙及额外的一个孔状孔隙。其中的一个狭缝孔隙设置在沿未 偏转电子束的电子束中心轴，电子束传感器上方，并且用于实际的一维电子束参数测量。同 时，另一个狭缝孔隙用于确定在双狭缝上振荡的电子束的偏转速度。孔状传感器可以用于 精确确定二维及时间密集的电子束参数。狭缝孔隙测量及孔状孔隙测量是相互独立的。
[0007] 此外，具有两个相互平行的狭缝孔隙及孔状孔隙的孔隙装置及用于电子束诊断 (Diagnostizieren)的方法，在论文"电子束诊断：Diabeam系统的新关系"（U. Dilthey et al，Vacuum, 62(2001)，77 bis 85)中进行了详细地说明。文中没有做有关自动调整孔状孔 隙的陈述。
[0008] 在US 5, 382, 895中获悉关于借助狭缝孔隙进行电子束诊断的方法。同时，带电粒 子束对准单个狭缝，并且，确认带电粒子束（Ladungsstrahl)穿过。此后，将狭缝旋转并实 施新测量。在各种独立的测量中，以层析X射线断层摄影术的方式计算电子束的强度分布 图。此外，通过人工调整测量系统。
[0009] 此外，还已知（E. Koleva等，"基于当前Beam聚焦变化中分步测量的发射率计 算(Emittance Calculation Based on the Current Distribution Measurements at Changes of the Beam Focusing)"在第8届国际电子束技术大会上的会议纪要，瓦尔纳 (2006)，第51至65页），为表征电子束，使用具有两个相互垂直设置的狭缝孔隙的孔隙装 置。在此，完成两次测量，每一次使用电子束线（StrahlfUhrung)的测量都是垂直于两个狭 缝孔隙进行的。不使用待调整的孔状孔隙。
[0010] 此外，使用现有的（US 7, 348, 568)具有径向延伸狭缝的电子束的孔隙，其中，将 圆形轨道上的带电粒子束垂直引导至狭缝孔隙。单个测量过程的评估同样可以通过层析X 射线摄影术实现，并且，导出电子束的强度分布。关于测量设备的调整这里不探讨。
[0011] 在电子束中测量径向电流分布可以通过其它方式获得（s. Wo jcicki等），沿电子 束方向将两个提供狭缝孔隙的平板前后设置。狭缝孔隙呈直线的及相互成直角的。此外， 每个狭缝孔隙垂直于在测量过程中实施的狭缝孔隙的移动。使用孔状孔隙及该孔隙相对于 电子束的方向在此不探讨。
[0012] 电子束发射率（Emittanz)的测量是熟知的（K. Friedel等），在狭缝孔隙前面在电 子束方向上使用孔状孔隙。在电子束中自动调整孔状孔隙在此不探讨。
[0013] DE 102 32 230 Al中公开了测量电子束强度分布的方法，所述方法提及对于电子 束的光学调整。这里，将电子束引导至石墨板上并且，通过设置在偏转单元区域内的传感器 环，根据电子束的相对运动及测量结构来测量反向散射电子（RUckstreuelektronen)流。 发生在电子束测量前的调整过程同样没有说明。带电粒子束也未穿过孔状孔隙或狭缝孔隙 与电子束传感器对准。
[0014] DD 206 960中公开了用于定位带点电子束中心的方法，其中，使用具有十字间隙 的材料块。带电粒子束在圆周运动中扫描地碰撞该材料块上十字间隙的裂缝。通过圆环拦 截（KreisringaufRiilger )检测反射电子散射流（ElektronenrUckstreustrom)。该反射电 子散射流取决于十字间隙相对于电子束运动圆环的位置，由此可以确定中心。
[0015] 由DE 34 42 207 Al可知用于识别带电粒子束冲击目标的装置。此外，通过探测 器识别从冲击点射出的X射线，将所述探测器的信号输送到分析电路。公开了通过直塗狭 缝孔隙或通过孔状孔隙引导X射线。用于带电粒子束的狭缝孔隙未公开。
[0016] DE 26 34 341 Al公开了有关焊接工艺中接合（StoPfuge)的带电粒子束的调 整。借助两个传感器确定通过振荡的带电粒子束产生的反向散射，其中，信号模式取决于如 何定位对于接合缝的带电粒子束通道（Mittelgang)。通过测量结果可以完成校正。
[0017] DD 226 428 Al公开了通过掩盖的电子探测器设置电子探针的装置。掩膜（孔隙） 具有多个方形开口。电子束以十字形导入，并且穿过开口与电子束传感器相撞。从通过电 子束构建的十字图形相对于每个辐射开口的位置，给出电子束装置焦点（Brennfleck)及 偏转参数计算的可能性。
[0018] 此外在E. Koleva et al (E. Koleva et al.，"基于当前Beam聚焦变化中分步 测量的发射率计算（Emittance Calculation Based on the Current Distribution Measurements at Changes of the Beam Focusing)"在第8届国际电子束技术大会上的会 议纪要，瓦尔纳（2006)，第51至65页）中公开了自动电子束调整，其中公开待焊接工件产 生的光电图像，然后通过图像处理计算工件的位置及方向，然后作为数控的基础。此外，建 议在焊接过程使用自动电子束对准，测量具有变化的物镜焦距的传感器上的电子束。同时， 建议分步骤聚焦，首先，进行大致地中心定位及大致地消除像散（stigmatisieren)，然后接 着进行精确地中心定位及精确地消除像散。使用孔状孔隙或狭缝孔隙及相对于电子束孔状 孔隙的自动校准在此不探讨。
[0019] 本发明涉及基础的技术问题，提供计算带电粒子束的射束参数的方法、测量装置 及可使用的上述类型的带电粒子束装置，该装置与现有技术相比可选择地进行测量孔隙自 动自我调节。
[0020] 在确定带电粒子束的射束参数的方法中，技术问题将通过权利要求1中的特征解 决。所述方法优选的实施例将由从属权利要求1至9得出。
[0021] 在上述方法中使用适合上述方式的测量装置中，技术问题通过权利要求10的特 征解决。根据本发明的测量装置的有利实施例在权利要求11至15中定义。
[0022] 在上述方式的带电粒子束装置中，技术问题通过权利要求16的技术方案解决。根 据本发明的带电粒子束装置的有利实施例通过权利要求17给出。
[0023] 在根据本发明的计算带电粒子束射束参数的方法中使用孔隙装置，该孔隙 装置既包括测量孔隙，如孔状孔隙，也包括具有一个或多个狭缝孔隙的狭缝孔隙机构 (Schlitzblendenanordnung)。同时，通过带电粒子束，基于相对于测量参考点的通过电子 束传感器定义的测量面，确定孔隙装置的位置。
[0024] 优选地，测量参考点在测量面内，稍后在该测量面中，电子束参数测量在测量孔隙 上完成。通常为此使用测量面与非偏转带电粒子束的电子束中心轴的交点。电子束参数测 量在其它的测量参考点上也是有意义的，如为了计算带电粒子束偏转角与射束参数的关联 性。
[0025] 如果相对于测量参考点孔隙装置的位置是唯一确定的，可以将具有孔隙装置的测 量孔隙自动地机器操控地准确定位在测量参考点上方，为了完成接下来的电子束参数测 量。因此，用于射束参数测量的测量孔隙可以全自动地调整，由此在现有技术中通常可省去 耗时的人工调整。
[0026] 为了计算相对于测量参考点的孔隙装置的位置，根据几何形状和/或狭缝孔隙机 构的位置引导带电粒子束一次或多次经过狭缝孔隙机构，其中，电子束冲击位置的坐标通 过穿过狭缝孔隙机构在测量面上的带电粒子束的电子束分量来确定。根据狭缝孔隙机构的 几何形状三个电子束冲击位置便足够将相对于测量参考点的孔隙装置的位置确定。
[0027] 必要的电子束冲击位置的数量可以用合适的几何形状通过一次用带电粒子束扫 描狭缝孔隙机构来实现。
[0028] 在此，本发明的目的包括使用带电粒子束一次扫描狭缝孔隙机构的概念或引导带 电粒子束一次经过狭缝孔隙机构的概念，既包括在一个方向上经过狭缝孔隙机构的带电粒 子束的一次移动，也包括振荡的移动，只要相对于狭缝孔隙机构的振荡方向没有改变。
[0029] 优选地，进行一次的或振荡的狭缝孔隙机构扫描是直线形的。
[0030] 根据本发明的方法还可以完成，为了生成足够数量的电子束冲击位置，将带电粒 子束沿不同方向或相对于狭缝孔隙机构的不同位置反复引导经过狭缝孔隙机构，例如，因 为否则电子束冲击位置的数量不够。
[0031] 根据本发明的方法还可以完成，将带电粒子束沿偏转单元的两个相互独立的偏转 方向引导经过狭缝孔隙机构。带电粒子束装置的偏转单元包括对于两个不同的，优选相互 垂直的偏转方向的各自的偏转元件，例如，电感元件如线圈，用来每次产生磁场或每次电场 产生的元件，例如，板状电容器。两个偏转方向可以选择例如平行于笛卡尔坐标系的X轴或 Y轴。如果带电粒子束首先在第一方向（如：x轴方向）引导经过狭缝孔隙机构，并随后在 此沿垂直的方向（Y轴方向）引导，那么每次偏转元件是没有激活的，即，例如线圈是无电流 的。扫描X轴方向上的孔隙装置包括找到电子束冲击位置，进而作为没有偏转的带电粒子 束的Y方向分量。通过在Y轴上扫描孔隙装置，得出未偏转带电粒子束相应的X坐标。通 过这种方式，可以自动计算出测量面与未偏转带电粒子束的电子束中心轴交点。测量面与 未偏转带电粒子束的电子束中心轴的交点可以定义为笛卡尔坐标系的坐标原点。
[0032] 为了获得足够数量的电子束冲击位置，根据本发明的方法还可以这样实施，基于 测量面，孔隙装置的位置和/或方向至少确定的改变一次，在至少两个不同的孔隙装置的 位置和/或方向上将带电粒子束振荡或非振荡地引导经过狭缝孔隙机构，并且确定至少一 个电子束冲击位置的测量面坐标。在此期间改变孔隙装置位置和/或方向是有必要，由此 得到的运动信息作为计算控制数据的辅助数据用于研究在测量参考点的位置上测量孔隙 的运动。改变孔隙装置位置和/或方向可以通过围绕垂直轴的测量面的平移运动和/或旋 转运动完成。
[0033] 根据本发明的方法还可以这样实施，以利用确定的电子束冲击位置的测量面坐标 计算至少一个偏转单元的标定值。在此，在这个时间点，带电粒子束与狭缝孔隙相遇，并且 确定相应的电子束冲击位置的测量面坐标，确定用于偏转单元的主动偏转元件的重要控制 参数包括如偏转线圈中的电流或电场产生元件的电压。在已知未偏转的带电粒子束的电子 束中心轴接口直接得出标定值，即在带电粒子束的偏转之间明确的关系值，例如，测量距未 偏转电子束中心轴的角度单位或在测量面上的距离单位及偏转控制参数，例如，线圈中的 电流或偏转电场产生兀件中的电压。
[0034] 在示出的类型及方法中，确定带电粒子束装置的标定值还可以不取决于稍后在测 量孔隙上的测量。
[0035] 根据本发明的方法还可以这样实施，使得为了检查其它射束参数，特别的是带电 粒子束方向对于测量参考点的角度偏差和/或焦点位置，移动具有垂直测量面的分量的测 量孔隙。在未偏转带电粒子束测量中，在Z轴方向，即垂直测量面的方向移动孔隙装置。对 于Z轴方向上的移动，可以与电子束传感器一起移动测量孔隙。还可以考虑将测量孔隙相 对于电子束传感器移动。
[0036] 此外，优选地，使用通过测量计算出的射束参数来控制或调整带电粒子束装置。例 如，计算出的射束参数可以反馈给带电粒子束的粒子束产生单元的控制，用于控制设置电 压或用于操控带电粒子发生器（Ladungstiigeremittenten )的位置，例如，螺旋灯丝。计 算出的射束参数还可以用于控制或操控电子束线和/或电子束形式，例如，聚焦单元、调整 单元、偏转单元和/或消像散器（Stigmator)。根据备份的特性曲线可以自动实施电子束调 整及电子束消除像差（Strahlstigmatisierung)。
[0037] 对于狭缝孔隙机构可以考虑不同的几何形状，该几何形状允许所述自动调整。所 以，具有合理的纵向延伸的两个非平行并排设置的狭缝孔隙可满足要求。不同的狭缝孔隙 截面可以属于共同的狭缝孔隙，例如，具有曲线形式的截面，或可以属于分离的狭缝孔隙。
[0038] 此外，优选地，装备封闭的或在很大程度上封闭的狭缝孔隙，例如，三角形状。所述 封闭的，即首尾相连的狭缝孔隙提高了经过狭缝孔隙引导的带电粒子束两次撞击狭缝孔隙 中狭缝的概率，。
[0039] 特别优选的测量装置实施例包括具有封闭圆周形的狭缝孔隙作为狭缝孔隙机构 的孔隙装置。该旋转对称的狭缝孔隙可以基于测量面特别容易的计算出孔隙装置的位置及 设置。
[0040] 可选地，还可装备狭缝孔隙，该狭缝孔隙是封闭或开放半圆形或具有孔隙狭缝中 断且在很大程度上圆形的。
[0041] 在测量装置中还可以集成温度监控。由此可以通过已知材料参数计算校正由于装 置热膨胀产生的测量误差。此外，通过温度监控防止测量装置的损坏。
[0042] 被孔隙装置覆盖的电子束传感器可以由设置在测量装置上的保护盖在未使 用时在污染前得到保护。特别地，该受保护的传感器可以永久设置在带电离子装置 (Ladungstragervorrichtung )中，可以提高测量结果的可重复性及测量精度及作为质量 保证措施的有效投入。保护盖可以由机器操控。
[0043] 此外，优选地，为测量机构装备适用于带电粒子束的独自偏转单元。该测量装置的 独自偏转单元可以相对于带电粒子装置固定，并且不依赖于带电粒子装置的偏转单元来调 控其带电粒子束的。由此，同样的根据本发明的测量装置可以独立的用在不同的带电装置 上。带电粒子装置的偏转单元无需绑定并且可以在射束参数测量期间停止使用。
【专利附图】
【附图说明】
[0044] 下面参照示意性附图示出根据本发明方法的确定带电粒子束射束参数的实施例 及优选的根据本发明的测试装置的构造形状的实施例。
[0045] 附图示意性示出
[0046] 图1为具有用于确定电子束参数测试装置的电子束设备，
[0047] 图2为孔隙装置，
[0048] 图3为在相对于测量参考点的出口位置的圆形狭缝孔隙及
[0049] 图4为根据图3在测量位置的狭缝孔隙。
【具体实施方式】
[0050] 图1示出具有电子束发生单元2及用于电子束线及电子束形成的电子束操作单 元18的电子束设备1。偏转单元3属于电子束操作单元18,通过该偏转单元，一束电子 束4从未偏转电子束4的电子束中心轴发生偏转。此外未示出用于聚焦、调整及消除像 差的装置属于电子束操作单元18。在此仅示意性示出的偏转单元3通过在此未特别示出 的偏转线圈元件实现，其中，每次使用偏转线圈元件用在两个独立的偏转方向（平行于笛 卡尔坐标系中的X轴及y轴）中的一个方向上。偏转线圈元件每次通过确定的电流输入 (Stromeintrag)产生使电子束4偏转的磁场。
[0051] 测量装置5用于确定电子束射束参数，该测量装置包括电子束传感器6及孔隙装 置7。电子束传感器确定了测量面10,从电子束4分离的电子穿过孔隙装置7撞击在该测 量面上。图2中孔隙装置7以俯视图方式示出，并且具有圆形狭缝孔隙8及与狭缝孔隙8 同心的孔状孔隙9。
[0052] 对于计算射束参数如电子束束截面内的强度分布，以现有的方式使用孔状孔隙9， 以行的方式引导电子束4经过孔状孔隙。
[0053] 借助孔状孔隙进行射束参数测量之前，孔状孔隙9首先占据输出位置，将该不适 用射束参数测量的输出位置相对于电子束4进行调整，S卩，将其移动到测量位置。该孔隙优 选地正好处在非偏转的电子束4的电子束中心轴。未偏转电子束4的电子束中心轴与测量 面10交点在下面称作测量参考点。
[0054] 为了可以计算相对于孔状孔隙测量位置的孔状孔隙9的输出位置，首先，电子束4 经过狭缝孔隙8以确定的方式振荡。该移动方式在图3中进一步阐述。首先，电子束4独 自在此借助未示出的偏转线圈元件如在X轴方向在狭缝8上振荡。在图3中通过双箭头将 在测量面10 (参见图1)中或图3中未示出的电子束4在孔隙装置7上已知的第一电子束 轨迹11符号化。在垂直方向上（例如y轴方向）电子束4保持没有偏转。
[0055] 测量装置5以这样的方式定位，振荡的电子束4在两个不同的狭缝孔隙区域 (Schlitzblendenabschnitts) 12及13上扫描狭缝孔隙8。穿过狭缝孔隙8的电子束部分 在孔隙装置7下面的测量面10内撞击在电子束冲击位置（Strahlauftrefforten)，测量面 10内包括所述电子束冲击位置坐标。如果将测量参考点定义为笛卡尔坐标系统的出发点， 那么狭缝孔隙部分12以下为那里的电子束冲击位置的测量面坐标（X 11A))，且狭缝孔隙部 分13以下为坐标（Xl2/0)。该测量面坐标绘制在图3中，其中，忽略根据孔隙装置7与测量 面10(参见图1)之间距离的移动。
[0056] 随后，未在X轴方向偏转的电子束4沿着y轴振汤，在图3中该振汤由另外Iv双 箭头作为电子束轨迹（Strahlspur) 14被符号化。此外，电子束4扫描狭缝孔隙部分15及 16内的狭缝孔隙8,其在测量面10中使得电子束冲击位置的测量面坐标为（0/y n)和（0/ yi2)。
[0057] 圆形狭缝孔隙8的位置已经具有上述三个测量面坐标，该狭缝孔隙直径是已知 的，相对于未偏转电子束4的电子束中心轴的交点（Schnittpunkt) (0/0)明显固定。因此， 可以放弃对第四电子束冲击位置的测量面坐标的确定。由此还固定了相对于测量参考点 (〇/〇)的孔状孔隙9的位置，所述孔状孔隙设置在通过狭缝孔隙8确定的圆的中心点上。因 此，可以通过简单的几何计算算出测量装置7的移动路径17,通过该测量装置可以通过机 械控制将孔状孔隙9精确地设置在测量参考点（0/0)上部。图4示出具有相应移动的孔状 孔隙9的情况。现在在已知的孔状孔隙9的位置上可以实施射束参数测量，在该射束参数 测量中，电子束在许多行，如沿X轴方向引导经过孔状孔隙9。
[0058] 根据图3在计算相对测量参考点（0/0)的孔隙装置7的位置过程中，同时可以确 定偏转单元3的标定值。至此，在每个电子束4穿过狭缝孔隙8撞击在测量面10上的时间 点，记录下用于振荡运动的相关偏转单元3的偏转线圈元件的每个相关控制变量，例如，使 用的电流。在此，原则上每次使用电子束轨迹11或14上的可计算的坐标对中的一个即可。
[0059] 如果根据图3将测量中的测量装置7这样摆放，使得电子束轨迹11及14扫描狭 缝孔隙8少于3次，测量装置7围绕一个中间路径（Zwischenstrecke)以确定的方式运动， 为了随后使用电子束轨迹11和/或电子束轨迹14实施其它测量。在这种情况下，对于测 量参考点的孔状孔隙9的移动路径17的计算将包括中间路径。
[0060] 综上所述，忽略孔隙装置7与测量面10之间的垂直距离。如有必要，计算时可以 包括该垂直距离。
[0061] 附图标记说明
[0062] 1.电子束设备
[0063] 2.电子束产生单元
[0064] 3.偏转单元
[0065] 4.电子束
[0066] 5.测量装置
[0067] 6.电子束传感器
[0068] 7.孔隙装置
[0069] 8.狭缝孔隙
[0070] 9.孔状孔隙
[0071] 10.测量面
[0072] 11.第一电子束轨迹（X-轴方向）
[0073] 12.狭缝孔隙部分
[0074] 13.狭缝孔隙部分
[0075] 14.第二电子束轨迹（y-轴方向）
[0076] 15.狭缝孔隙部分
[0077] 16.狭缝孔隙部分
[0078] 17.测量位置的移动路径
[0079] 18.电子束操作单元
【权利要求】
1. 一种用于计算带电粒子束（4)射束参数的方法，包括以下步骤： a) 借助偏转单元（3)将带电粒子束装置（1)的带电粒子束（4)引导至装备在孔隙装置 (7)上的具有一个或多个狭缝孔隙（8)的狭缝孔隙机构处， b) 借助测量面（10)确定的电子束传感器（6)确定穿过狭缝孔隙机构的电子束部分的 电子束冲击位置的测量面坐标， c) 将设置在孔隙装置（7)中的测量孔隙（9)自动移动到在测量面中已知的测量参考 点的位置上，其中，根据已知的狭缝孔隙（8)几何形状及孔隙装置（7)上确定测量孔隙（9) 移动的控制数据的测量孔隙（9)，来处理电子束冲击位置的测量面坐标，以及 d) 根据c)特征，将用于射束参数测量的带电粒子束（4)引导至移动的测量孔隙（9) 上。
2. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，为了实施根据权利要求1所述的特征a) 的方法步骤，将带电粒子束（4)多次引导至狭缝孔隙机构上。
3. 根据权利要求2所述的方法，其特征在于，为了实施根据权利要求1所述的特征a) 的方法步骤，将带电粒子束（4)沿偏转单元（3)的两个相互独立的偏转方向引导至狭缝孔 隙机构上。
4. 根据上述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，为了实施根据权利要求1所 述的特征a)的方法步骤，将带电粒子束（4)振荡引导至狭缝孔隙机构上。
5. 根据上述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，选择测量面（10)上的未偏转 的带电粒子束（4)的撞击点作为测量参考点。
6. 根据上述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，基于测量面（10)，孔隙装置 (7)的位置和/或方向至少确定的改变一次，在至少两个不同的孔隙装置（7)的位置和/或 方向上实施根据权利要求1所述的特征a)及b)的方法步骤，及根据权利要求1中的方法 步骤c处理孔隙装置（7)的位置和/或方向的变化，作为确定测量孔隙（9)移动的控制数 据的其它数据。
7. 根据上述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，经过对在权利要求1的特征 b)中确定的电子流冲击位置的测量面坐标的处理，至少确定一个偏转单元（3)的标定值。
8. 根据上述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，为了检查其它射束参数，特别 地是检查指向电子束参考点上的带电粒子束（4)的角偏差和/或焦点位置，移动具有垂直 于测量面（10)的分量的测量孔隙（9)，
9. 根据上述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，将用于操作或控制带电粒子 束装置的计算出的射束参数进行反馈。
10. 使用符合根据权利要求1至9中任一项所述方法的测量装置（5)，包括电子束传感 器（6)及孔隙装置（7)，其中，该孔隙装置（7)包括狭缝孔隙机构及测量孔隙（9)，其特征在 于，狭缝孔隙机构包括至少两个相互不平行的狭缝孔隙部分（12、13、15、16)。
11. 根据权利要求10所述的测量装置，其特征在于，至少几个狭缝孔隙部分（12、13、 15、16)属于一个单独连续的狭缝孔隙（8)。
12. 根据权利要求10或11所述的测量装置，其特征在于，狭缝孔隙机构包括一个密闭 的首尾相接的狭缝孔隙（8)。
13. 根据权利要求10至12中任一项所述的测量装置，其特征在于，狭缝孔隙（8)或至 少一个狭缝孔隙（8)在截面上是圆形的。
14. 根据权利要求10至13中任一项所述的测量装置，其特征在于，提供了用于狭缝孔 隙机构及测量孔隙（9)暂时密闭的保护盖。
15. 根据权利要求10至14中任一项所述的测量装置，其特征在于，具有用于带电粒子 束的独自的偏转单元。
16. 用于实施根据权利要求1至9中任一项所述方法的带电粒子束装置，包括带电粒子 束发生源（2)及偏转单元（3)，其特征在于，具有根据权利要求10至15中任一项所述的测 量装置（5)。
17. 根据权利要求16所述的带电粒子束装置，其特征在于，通过对测量装置（5)的测量 结果的反馈来控制带电粒子束装置（1)。
【文档编号】H01J37/31GK104245217SQ201380017026
【公开日】2014年12月24日 申请日期:2013年3月11日 优先权日:2012年3月27日
【发明者】乌维·瑞珍, 延斯·德弗里斯, 亚历山大·巴克豪斯, 汉斯皮特·鲍尔, 塞巴斯蒂安·弗尔, 贝恩德·赖兴贝格, 索斯藤·施米茨肯彭 申请人:亚琛工业大学公共权力公司, Aixacct 系统股份有限公司