专利名称：具有表面纹路的抛光垫和其制造方法与制造装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种具有表面纹路的抛光垫和其制造方法与制造装置，具体而言，涉及一种利用可移动的高能量激光加工形成表面纹路的抛光垫和其制造方法与制造装置。
背景技术：
抛光一般是指化学机械研磨(CMP)制程中，对于初为粗糙表面的磨耗控制，其是利用含细粒子的研磨浆液平均分散于一抛光垫的上表面，同时将一待抛光物件抵住所述抛光垫后以重复规律动作搓磨。所述待抛光物件是诸如半导体、存储媒体基材、集成电路、LCD平板玻璃、光学玻璃与光电面板等物体。为了维持所述研磨浆液的分布与流动，和化学机械研磨后的平坦化和研磨效率，所述抛光垫的上表面上通常会开设有复数个沟槽或形成一表面纹路。因此，所述抛光垫对于所述待抛光物件的抛光效果，易受到所述沟槽或所述表面纹路的影响。
参考图1，显示中国台湾公告第491758号专利所揭示的具有表面纹路的抛光垫的制造方法。图1所示的为一种丝网印刷的方法，其步骤如下所述。一柔性基材10是由一卷筒所提供，并与由另一卷筒所提供的丝网样板11为并列位置，所述丝网样板11具有复数个图案111。以一聚合性原料12置于与所述丝网样板11接触，由一刮刀13强迫进入并通过所述丝网样板11的图案111，并接触所述柔性基材10。接着，所述丝网样板11与所述柔性基材10上的聚合性原料12通过一老化区14，所述老化区14可为一种烘炉或UV辐射，以老化所述柔性基材10上的聚合性原料12，使其形成老化涂覆15。所述丝网样板11于老化后移除并卷绕。最后，所得的具有所述老化涂覆15的柔性基材10经卷绕后可裁切成复数个抛光垫。
此外，美国专利第5489233号揭示可由模具成型(embossing)、压花(pressing)、铸形(casting)、切削(cutting)、或光刻(photolithograph)等方式制成具有表面纹路的抛光垫。
然而，以切削方式制成的具有表面纹路的抛光垫容易产生毛边和残屑，而对半导体、存储媒体基材、集成电路、LCD平板玻璃、光学玻璃或是光电面板的表面产生刮伤。其它以模具成型、压花和铸形等方式所制成的具有表面纹路的抛光垫，其表面受热压的影响而容易产生变形而影响研磨浆液的流动。再者，在模具成型和丝网印刷的制程中，一种表面纹路需要一种模具或丝网，无法稳定制造出同样沟宽和沟深的其它抛光垫。
参考图2，显示中国台湾公告第590855号专利所揭示的制造抛光垫的装置。所述装置2包括一平台21、一激光装置22和一计算机数值控制控制器23。所述平台21是用以放置一基材24，且所述平台21可进行旋转运动和三维的移动。所述激光装置22用以产生一激光25而照射在所述基材24的表面上，以于所述基材24的表面上形成一表面纹路。所述装置2依据输入图案26来移动所述平台21，可使所述表面纹路形成各种不同的微孔、孔洞或沟槽图案。然而，由于所述平台21相当笨重且不够灵敏，当其在做三维移动和旋转时，有速度慢和精准度低的缺点。
因此，有必要提供一种创新且具进步性的具有表面纹路的抛光垫和其制造方法与制造装置，以解决上述问题。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种具有表面纹路的抛光垫的制造方法，包括以下步骤(a)提供一基材，所述基材具有一用于抛光一待抛光物件的表面；(b)提供一可自由移动的高能量激光；和(c)利用所述高能量激光于所述基材的所述表面上形成一表面纹路。
借此，所制成的抛光垫不会产生毛边或变形的情况，在使用时可以让研磨浆液保持良好的流动，而不会刮伤待抛光物件。此外，以高能量激光的方式可以快速而正确地制造出所需的表面纹路，而且再现性极高。
在一优选实施例中，所述步骤(c)进一步包括(c1)提供一加工图案；和(c2)根据所述加工图案利用所述高能量激光于所述抛光垫的所述表面上形成一表面纹路。
借此，可以设计不同的加工图案以任意调整所述表面纹路的沟槽的沟宽、沟深或是可形成倾斜的沟槽。
本发明的另一目的在于提供一种具有表面纹路的抛光垫的制造装置，包括一平台、一高能量激光产生装置和一反射装置。所述平台是用以放置一基材，所述基材具有一表面，所述表面是用以抛光一待抛光物件。所述高能量激光产生装置是用以产生一高能量激光。所述反射装置是用以反射所述高能量激光到所述基材的所述表面，而于所述基材的所述表面上形成一表面纹路。借此，经由所述反射装置快速地转动或移动可使所述高能量激光快速地在所述表面上形成所述表面纹路。
图1显示中国台湾公告第491758号专利所揭示的具有表面纹路的抛光垫的制造方法；图2显示中国台湾公告第590855号专利所揭示的制造抛光垫的装置；图3显示本发明具有表面纹路的抛光垫的制造方法的流程；图4显示本发明抛光垫的制造装置第一实施例的示意图；图5显示本发明抛光垫的制造装置第二实施例的示意图；图6显示本发明抛光垫的制造装置第三实施例的示意图；图7显示实例1所加工成的表面纹路的示意图；图8显示实例2所加工成的表面纹路的示意图；图9显示实例3所加工成的表面纹路的示意图；图10显示实例4所加工成的表面纹路的示意图；图11显示实例5所加工成的表面纹路的示意图；图12a显示实例6中最内圈的圆形沟槽的剖视示意图；图12b显示实例6中第38圈的圆形沟槽的剖视示意图；和图12c显示实例6中最外圈的圆形沟槽的剖视示意图。
具体实施例方式
本发明提供 一种具有表面纹路的抛光垫和其制造方法，所述抛光垫是应用于化学机械研磨(CMP)制程中对一待抛光物件进行研磨或抛光。所述待抛光物件包括但不限于半导体、存储媒体基材、集成电路、LCD平板玻璃、光学玻璃与光电面板等物体。
参考图3，本发明抛光垫的制造方法包括以下步骤(a)提供一基材，所述基材具有一用于抛光一待抛光物件的表面，如步骤S21；(b)提供一可自由移动的高能量激光，如步骤S22；和(c)利用所述可自由移动的高能量激光于所述基材的所述表面上形成一表面纹路，如步骤S23。
在本发明方法的步骤S21中，所述基材为一不具有表面纹路的任何常规的抛光垫，其本身已具有抛光的功能(但是抛光效果并不好)。优选地，所述基材的材质为一种人工皮革，更优选地，所述基材的材质为PU板、PU与纤维合成材质或PU与超细纤维合成材质。
在本发明方法的步骤S22中，所述高能量激光是由一可自由移动的高能量激光产生装置所提供。其详细提供方式在下文有进一步叙述。优选地，本发明的步骤S23包括二个步骤(c1)提供一加工图案；和(c2)根据所述加工图案利用所述可自由移动的高能量激光于所述基材的所述表面上形成一表面纹路。
其中所述加工图案是由一数据处理装置(例如一计算机)所提供，其是由使用者预先设计完成。所述数据处理装置是与所述高能量激光产生装置电气连接，使得所述高能量激光产生装置可以根据所述加工图案利用所述高能量激光于所述基材的所述表面上形成一表面纹路。所述加工图案包括但不限于以下型式1.直线交叉的井字格子状图形；2.直线交叉的井字格子状图形且包含复数个小圆洞；3.同心圆图形；4.同心圆图形且包含复数个小圆洞和5.文字或符号图形。
本文中所用的「表面纹路」一词是指在所述基材的所述表面上由复数个沟槽或圆洞所构成的纹路或图案，其是以激光加工方式根据上述的加工图案而移除所述基材的部分体积所形成。所述表面纹路对应所述加工图案，其俯视图包括但不限于以下型式1.复数条彼此垂直交错的直线沟槽(对应上述第1种加工图案)；2.复数条彼此垂直交错的直线沟槽且包含复数个孔洞(对应上述第2种加工图案)；3.复数圈不同半径的圆形沟槽，且所述圆形沟槽为同心(对应上述第3种加工图案)；4.同心圆图形且包含复数个孔洞(对应上述第4种加工图案)和5.复数个文字或符号外形的沟槽(对应上述第5种加工图案)。
参考图4，显示本发明抛光垫的制造装置第一实施例的示意图。所述制造装置3包括一平台31、一高能量激光产生装置(例如一激光装置32)、一数据处理装置33。所述平台31是用以放置一基材34，所述基材34具有一表面341，所述表面341是用以在其它制程中抛光一待抛光物件。在本实施例中，所述高能量激光产生装置为一激光装置32，其进一步包括一激光头321，用以产生一高能量激光35。所述数据处理装置33依据输入的加工图案来控制所述激光装置32，以使所述高能量激光35于所述表面341上形成表面纹路。
在本实施例中，所述平台31的位置是固定的，所述激光装置32的位置也是固定。所述高能量激光35的二端分别为一起始端351和一加工端352，所述起始端351是由所述激光装置32所发出，所述加工端352是用以接触且加工所述基材34。所述高能量激光从所述起始端351到所述加工端352是一直线外观，且由于所述激光头321是可转动，因此所述加工端可做圆周式移动，而形成圆弧或圆形沟槽。利用本实施例的加工装置所加工后的表面纹路中，所述沟槽的槽壁与所述基材的所述表面的垂直方向间会有一倾斜角，例如上述第3种的同心圆的表面纹路中，每一圈的圆形沟槽的槽壁与所述基材的所述表面的垂直方向间的倾斜角均不同，且所述倾斜角是从内圈向外圈递增。
参考图5，显示本发明抛光垫的制造装置第二实施例的示意图。所述制造装置4包括一平台41、一高能量激光产生装置(例如一激光装置42)、一数据处理装置43。所述平台41是用以放置一基材44，所述基材44具有一表面441，所述表面441是用以在其它制程中抛光一待抛光物件。在本实施例中，所述高能量激光产生装置是一激光装置42，其进一步包括一激光头421，用以产生一高能量激光45。所述数据处理装置43依据输入的加工图案来控制所述激光装置42，以使所述高能量激光45于所述表面441上形成表面纹路。
在本实施例中，所述平台41的位置是固定的，所述激光装置42可在水平方向移动。所述高能量激光45的二端分别为一起始端451和一加工端452，所述起始端451是由所述激光装置42所发出，所述加工端452是用以接触且加工所述基材44。所述高能量激光45从所述起始端451到所述加工端452是一直线外观，且在所述激光装置42移动的过程中，所述高能量激光45与所述基材44的表面441保持垂直，而形成直线形沟槽，且所述沟槽的槽壁与所述基材的所述表面大致上呈垂直。
参考图6，显示本发明抛光垫的制造装置第三实施例的示意图。所述制造装置5包括一平台51、一高能量激光产生装置(例如一激光装置52)、一数据处理装置53和一反射装置56。所述平台51是用以放置一基材54，所述基材54具有一表面541，所述表面541是用以在其它制程中抛光一待抛光物件。在本实施例中，所述高能量激光产生装置为一激光装置52，其进一步包括一激光头521，用以产生一高能量激光55。所述数据处理装置53依据输入的加工图案来控制所述激光装置52和所述反射装置56，使所述反射装置56反射所述高能量激光55到所述基材54的所述表面541，而于所述基材54的所述表面541上形成一表面纹路。
在本实施例中，所述平台51的位置是固定的，所述激光装置52的位置是固定的。所述高能量激光55的二端分别为一起始端551和一加工端552，所述起始端551是由所述激光装置52所发出，所述加工端552是用以接触且加工所述基材54。所述高能量激光55由所述起始端551至所述加工端552间是由复数个区段所组成，所述区段分别具有不同的方向。在本实施例中，所述反射装置56包括一个或一个以上的镜片，且所述镜片为可移动或可转动，而可快速地将所述加工端552反射到所需的位置。然而可以理解的是，所述反射装置56也可以是其它具有反射功能的装置。
本发明另外关于一种具有表面纹路的抛光垫，其包括一基材和一表面纹路。所述基材具有一表面，所述表面是用以抛光一待抛光物件，所述表面纹路是由一可自由移动的高能量激光形成于所述基材的所述表面上。
优选地，所述基材的材质为一种人工皮革，更优选地，所述基材的材质为PU板、PU与纤维合成材质或PU与超细纤维合成材质。
优选地，本发明的高能量激光能量为10W到85W，频率为500Hz到10KHz，扫描速度为100mm/sec到5000mm/sec。优选地，所述表面纹路是由一高能量激光根据一加工图案于所述抛光垫的一表面上所形成。其中所述加工图案是由一数据处理装置(例如一计算机)所提供，其是由使用者预先设计完成。所述加工图案包括但不限于以下型式1.直线交叉的井字格子状图形；2.直线交叉的井字格子状图形且包含复数个小圆洞；3.同心圆图形和4.同心圆图形且包含复数个小圆洞和5.文字或符号图形。
所述抛光垫上的表面纹路是由复数个沟槽或圆洞所构成的纹路或图案，其是对应所述加工图案，因此其俯视图包括但不限于以下型式1.复数条彼此垂直交错的直线沟槽(对应上述第1种加工图案)；2.复数条彼此垂直交错的直线沟槽且包含复数个孔洞(对应上述第2种加工图案)；3.复数圈不同半径的圆形沟槽，且所述圆形沟槽是为同心(对应上述第3种加工图案)和4.同心圆图形且包含复数个孔洞(对应上述第4种加工图案)和5.复数个文字或符号外形的沟槽(对应上述第5种加工图案)。
在本发明中，在通常情况下，所述沟槽的槽壁均垂直于所述基材的所述表面。然而在某些特定的情况下，所述沟槽的槽壁与所述基材的所述表面的垂直方向间会有一倾斜角，例如上述第3种的同心圆的表面纹路中，每一圈的圆形沟槽的槽壁与所述基材的所述表面的垂直方向间的倾斜角均不同，且所述倾斜角是从内圈向外圈递增。
现以下列实例加以详细说明本发明，但并不意味本发明仅局限于此等实例所揭示的内容。
实例1首先，提供一基材，所述基材具有一用于抛光一待抛光物件的表面，所述基材的材质为PU人工皮革。接着，在一计算机中设定加工图案，本实例的加工图案为直线交叉的井字格子状图形。接着，提供一高能量激光，本实例的高能量激光的参数为扫描速度850mm/sec、频率10kHz、能量37W。
参考图7，显示实例1所加工成的表面纹路的示意图。经由上述高能量激光的参数和计算机中的加工图案的输出在所述PU人工皮革的表面刻划而成具有表面纹路的直径51cm圆形抛光垫。所述表面纹路包括复数条直线沟槽。所述沟槽的槽壁是垂直于所述PU人工皮革的表面。所述沟槽由俯视观看是彼此垂直交错而形成复数个正四方格，每一正四方格的边长为2mm。以扫描式电子显微镜(SEM)测得所述沟槽的沟宽为0.45mm、沟深为0.6mm。
实例2首先，提供一基材，所述基材具有一用于抛光一待抛光物件的表面，所述基材的材质为PU人工皮革。接着，在一计算机中设定加工图案，本实例的加工图案为直线交叉的井字格子状图形且包含复数个小圆洞。接着，提供一高能量激光，本实例的高能量激光的参数为扫描速度430mm/sec、频率10kHz、能量35W。
参考图8，显示实例2所加工成的表面纹路的示意图。经由上述高能量激光的参数和计算机中的加工图案的输出在所述PU人工皮革的表面刻划而成具有表面纹路的直径51cm圆形抛光垫。所述表面纹路包括复数条直线沟槽且包含复数个孔洞。所述沟槽和孔洞的槽壁是垂直于所述PU人工皮革的表面。所述沟槽由俯视观看是彼此垂直交错而形成复数个正四方格，每一正四方格的边长为3.1mm。以扫描式电子显微镜(SEM)测得所述沟槽的沟宽为0.8mm、沟深为0.45mm。所述沟槽彼此垂直交错而形成复数个交错点，所述孔洞位于所述交错点上，每一孔洞的直径为1.2mm。所述孔洞可让研磨浆液保持良好的流动，而不会刮伤待抛光物件。
实例3首先，提供一基材，所述基材具有一用于抛光一待抛光物件的表面，所述基材的材质为PU人工皮革。接着，在一计算机中设定加工图案，本实例的加工图案为同心圆图形。接着，提供一高能量激光，本实例的高能量激光的参数为扫描速度2000mm/sec、频率10kHz、能量32W。
参考图9，显示实例3所加工成的表面纹路的示意图。经由上述高能量激光的参数和计算机中的加工图案的输出在所述PU人工皮革的表面刻划而成具有表面纹路的直径51cm圆形抛光垫。所述表面纹路是包括复数圈不同半径的圆形沟槽，且所述圆形沟槽为同心。所述沟槽的槽壁垂直于所述PU人工皮革的表面。所述沟槽由俯视观看是75圈同心圆，且相邻同心圆间的距离为2.9mm。以扫描式电子显微镜(SEM)测得所述沟槽的沟宽为0.8mm、沟深为0.45mm。
实例4首先，提供一基材，所述基材具有一用于抛光一待抛光物件的表面，所述基材的材质为PU人工皮革。接着，在一计算机中设定加工图案，本实例的加工图案为同心圆图形且包含复数个小圆洞。接着，提供一高能量激光，本实例的高能量激光的参数为扫描速度2000mm/sec、频率10kHz、能量32W。
参考图10，显示实例4所加工成的表面纹路的示意图。经由上述高能量激光的参数和计算机中的加工图案的输出在所述PU人工皮革的表面刻划而成具有表面纹路的直径51cm圆形抛光垫。所述表面纹路包括复数圈不同半径的圆形沟槽和复数个孔洞，且所述圆形沟槽为同心的。所述沟槽的槽壁垂直于所述PU人工皮革的表面。所述沟槽由俯视观看是75圈同心圆，且相邻同心圆间的距离为2.9mm。以扫描式电子显微镜(SEM)测得所述沟槽的沟宽为0.8mm、沟深为0.45mm。所述孔洞位于所述圆形沟槽上，每一孔洞的直径为1.5mm。所述孔洞可让研磨浆液保持良好的流动，而不会刮伤待抛光物件。所述孔洞的分布方式是越往外圈的圆形沟槽孔洞的数目越多且越密集，即所述孔洞的分布密度是由内圈向外圈递增。在图10中，最内圈即第一圈没有孔洞，第二圈有两个等距离的孔洞，第三圈有2(3-1)个等距离的孔洞，第四圈有2(4-1)个等距离的孔洞，第n圈即有2(n-1)个等距离的孔洞。
实例5首先，提供一基材，所述基材具有一用于抛光一待抛光物件的表面，所述基材的材质为PU人工皮革。接着，在一计算机中设定加工图案，本实例的加工图案为同心圆图形、复数条放射状直线和复数个小圆洞。接着，提供一高能量激光，本实例的高能量激光的参数为扫描速度2000mm/sec、频率10kHz、能量32W。
参考图11，显示实例5所加工成的表面纹路的示意图。经由上述高能量激光的参数和计算机中的加工图案的输出在所述PU人工皮革的表面刻划而成具有表面纹路的直径51cm圆形抛光垫。所述表面纹路包括复数圈不同半径的圆形沟槽、复数条直线沟槽和复数个孔洞，且所述圆形沟槽为同心的，所述直线沟槽呈放射状，且所述直线沟槽是与所述圆形沟槽相交而形成所述交错点。一部分所述孔洞位于所述交错点上，另一部分所述孔洞位于圆形沟槽上。
在图11中，相邻同心圆间的距离为2.9mm。以扫描式电子显微镜(SEM)测得所述沟槽的沟宽为0.8mm、沟深为0.45mm。每一孔洞的直径为1.5mm。所述孔洞可让研磨浆液保持良好的流动，而不会刮伤待抛光物件。所述孔洞的分布方式是越往外圈的圆形沟槽孔洞的数目越多且越密集，即所述孔洞的分布密度是由内圈向外圈递增。
实例6首先，提供一基材，所述基材具有一用于抛光一待抛光物件的表面，所述基材的材质为PU人工皮革。接着，在一计算机中设定加工图案，本实例的加工图案为同心圆图形。接着，提供一高能量激光，本实例的高能量激光的参数为扫描速度2000mm/sec、频率10kHz、能量30W。
经由上述高能量激光的参数和计算机中的加工图案的输出在所述PU人工皮革的表面刻划而成具有表面纹路的直径51cm圆形抛光垫。所述表面纹路包括复数圈不同半径的圆形沟槽，且所述圆形沟槽为同心的。所述沟槽由俯视观看是75圈同心圆，且相邻同心圆间的距离为2.8mm。以扫描式电子显微镜(SEM)测得所述沟槽的沟宽为0.8mm、沟深为0.45mm。与实例3不同的是，在本实例中，所述沟槽的槽壁与所述PU人工皮革的表面的垂直方向间会有一倾斜角，且每一圈的圆形沟槽的槽壁与所述基材的所述表面的垂直方向间的倾斜角均不同，且所述倾斜角是由内圈向外圈递增，其中最内圈的倾斜角为0度(如图12a所示)，位于中间的第38圈沟槽的倾斜角α1为10度(如图12b所示)，最外圈沟槽的倾斜角α2为20度(如图12c所示)。
但上述实施例仅为说明本发明的原理和其功效，而非用以限制本发明。因此，所属领域的技术人员可在不违背本发明的精神的情况下对上述实施例进行修改和变化。本发明的权利范围应如上述的权利要求书所列。
权利要求
1.一种具有表面纹路的抛光垫的制造方法，包括(a)提供一基材，所述基材具有一表面，所述表面是用以抛光一待抛光物件；(b)提供一可自由移动的高能量激光；和(c)利用所述可自由移动的高能量激光于所述基材的所述表面上形成一表面纹路。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述基材为一不具表面纹路的抛光垫，且其材质选自由PU板、PU与纤维合成材质和PU与超细纤维合成材质所组成的群。
3.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述步骤(b)的高能量激光的二端分别为一起始端和一加工端，所述起始端是由一固定位置的高能量激光产生装置所发出，所述加工端是用以接触且加工所述基材，所述高能量激光是一直线外观，且所述加工端可做圆周式移动。
4.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述步骤(b)的高能量激光的二端分别为一起始端和一加工端，所述起始端是由一可移动位置的高能量激光产生装置所发出，所述加工端是用以接触且加工所述基材，所述高能量激光是一直线外观，且其在移动时与所述基材的表面保持垂直。
5.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述步骤(b)的高能量激光的二端分别为一起始端和一加工端，所述起始端是由一固定位置的高能量激光产生装置所发出，所述加工端是用以接触且加工所述基材，所述高能量激光是由复数个区段所组成，所述区段分别具有不同的方向。
6.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述步骤(c)包括(c1)提供一加工图案；和(c2)根据所述加工图案利用所述高能量激光于所述抛光垫的所述表面上形成一表面纹路。
7.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述表面纹路包括复数条彼此交错的直线沟槽，所述直线沟槽具有复数个交错点。
8.根据权利要求7所述的制造方法，其中所述表面纹路进一步包括复数个孔洞，所述孔洞位于所述交错点上。
9.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述表面纹路包括复数圈不同半径的圆形沟槽，且所述圆形沟槽为同心的，所述圆形沟槽的槽壁与所述基材的所述表面的垂直方向间具有一倾斜角，且所述圆形沟槽的倾斜角是从内圈向外圈递增。
10.一种具有表面纹路的抛光垫的制造装置，包括一平台，用以放置一基材，所述基材具有一表面，所述表面是用以抛光一待抛光物件；一高能量激光产生装置，用以产生一高能量激光；和一反射装置，用以反射所述高能量激光到所述基材的所述表面，而于所述基材的所述表面上形成一表面纹路。
11.根据权利要求10所述的制造装置，进一步包括一数据处理装置，所述数据处理装置用以产生一加工图案，以控制所述高能量激光产生装置和所述反射装置。
12.根据权利要求10所述的制造装置，其中所述平台的位置为固定的。
13.根据权利要求10所述的制造装置，其中所述高能量激光产生装置的位置为固定的。
14.根据权利要求10所述的制造装置，其中高能量激光的二端分别为一起始端和一加工端，所述起始端是由所述高能量激光产生装置所发出，所述加工端是用以接触且加工所述基材，所述高能量激光是由复数个区段所组成，所述区段分别具有不同的方向。
15.根据权利要求10所述的制造装置，其中所述反射装置为一镜片。
16.根据权利要求10所述的制造装置，其中所述反射装置包括复数个镜片。
17.一种具有表面纹路的抛光垫，包括一基材，所述基材具有一表面，所述表面是用以抛光一待抛光物件；和一表面纹路，是位于所述抛光垫的所述表面上，所述表面纹路包括复数条沟槽和复数个孔洞，所述沟槽交错而形成复数个交错点，所述孔洞位于所述交错点上。
18.根据权利要求17所述的抛光垫，其中所述沟槽为直线沟槽，且彼此垂直相交而形成所述交错点。
19.根据权利要求17所述的抛光垫，其中所述沟槽包括复数条直线沟槽和复数圈不同半径的圆形沟槽，所述直线沟槽呈放射状，且所述直线沟槽是与所述圆形沟槽相交而形成所述交错点。
20.一种具有表面纹路的抛光垫，包括一基材，所述基材具有一表面，所述表面是用以抛光一待抛光物件；和一表面纹路，是位于所述抛光垫的所述表面上，所述表面纹路包括复数圈不同半径的圆形沟槽和复数个孔洞，所述圆形沟槽为同心的，所述孔洞位于所述圆形沟槽上，且所述孔洞的分布密度是从内圈向外圈递增。
21.一种具有表面纹路的抛光垫，包括一基材，所述基材具有一表面，所述表面是用以抛光一待抛光物件；和一表面纹路，是位于所述抛光垫的所述表面上，所述表面纹路包括复数圈不同半径的圆形沟槽，且所述圆形沟槽为同心的，所述圆形沟槽的槽壁与所述抛光垫的所述表面的垂直方向间具有一倾斜角，且所述圆形沟槽的倾斜角是从内圈向外圈递增。
22.根据权利要求21所述的抛光垫，其中所述表面纹路进一步包括复数个孔洞。
23.根据权利要求21所述的抛光垫，其中最内圈的圆形沟槽的倾斜角为0度。
全文摘要
本发明涉及一种具有表面纹路的抛光垫和其制造方法，所述制造方法包括以下步骤(a)提供一基材，所述基材具有一用于抛光一待抛光物件的表面；(b)提供一可自由移动的高能量激光；和(c)利用所述高能量激光于所述基材的所述表面上形成一表面纹路。借此，所制成的抛光垫不会产生毛边或变形的情况，在使用时可以让研磨浆液保持良好的流动，而不会刮伤待抛光物件。此外，以高能量激光的方式可以快速而正确地制造出所需的表面纹路，而且再现性极高。
文档编号B23K26/08GK101024260SQ20061005768
公开日2007年8月29日 申请日期2006年2月24日 优先权日2006年2月24日
发明者冯崇智, 赵征祥, 姚伊蓬, 洪永璋 申请人:三芳化学工业股份有限公司