水下切割平台的制作方法

文档序号:3054583阅读:271来源:国知局
专利名称:水下切割平台的制作方法
技术领域
本发明涉及一种工作台,尤其涉及一种等离子数控切割机的加工工作台。
背景技术
水下等离子数控切割机的加工台一般是设置在水槽内,工件定位后,注水,待工件完全浸入水中,进行切割加工,加工完毕,再放水;随着加工机械的大型化,加工台尺寸变大,水槽的容积也增大,这样频繁往复的注水、放水,耗时多,成本高。专利号为2006200719773的专利提供了一种工作台,其结构为在水箱中增设气路,通过气体在水箱中体积的变化,实现水槽中水位升降;水箱与水槽能分离,便于维护、清理。但此种结构由于水槽的容积大,需要较多的水,水槽中水位升降仍需较长时间。

发明内容
本发明的目的是提供一种能实现水位快速升降的水下切割平台。本发明的技术方案是由气源、水槽、水箱和水箱上端面均布的若干立板组成,水箱设置在水槽内,与水槽通过螺栓连接,在水箱上端面均布有若干立板,立板与水箱固定连接,水箱下部设有与气源相连的进出气口,上部设进出水口,所述水槽上处于进出水口下部的空间为封闭空间。所述水槽设有进出水口。本发明的优点是本发明将进出气口设置在水箱下部,上部设进出水口 ;其进水、出水位置上移,且本发明水槽下部为封闭结构,不需要注水,减少了所需水的容积,故本发明水位升降快,需水量小等优点。


图I是本发明的结构示意图。
图2为图I的俯视图。
图3为图I的侧视图。
图中I是水箱下部的进出水口,2是水箱与水槽的连接件,3是水槽,4是立板,5是水箱,6是进出气管,7是水槽的给排水口。
具体实施例方式本发明在一水槽3内设一尺寸略小的水箱5,水槽3与水箱5由连接件2连接。水箱5的上端面均匀排列焊接若干立板4,若干立板4的高度一致。水槽3设有给排水口 7,设备定位时,由该口实现给排水,水槽3下部为可开合的封闭结构。水箱5设密封的内腔,腔体下部设进出气口 6,进出气口 6连接一气源,腔体上部设进出水口 I。工作时,打开进出水口 I的阀门,将槽3内水位升至略低于立板4的上端,停止进水;被加工件放置后,打开气源,空气进入水箱5内腔,导致水槽3内水位上升,直至工件完全浸入水中,开始加工。加工完毕,放气,水回流进水箱5,水位下降,取出 工件。
权利要求
1.水下切割平台,由气源、水槽、水箱和水箱上端面均布的若干立板组成,水箱设置在水槽内,与水槽通过螺栓连接,在水箱上端面均布有若干立板,立板与水箱固定连接,其特征在于,水箱下部设有与气源相连的进出气口,上部设进出水口,所述水槽上处于进出水口下部的空间为封闭空间。
2.根据权利要求I所述的水下切割平台,其特征在于,水槽设有进出水口。
全文摘要
本发明涉及一种水下切割平台。由气源、水槽、水箱和水箱上端面均布的若干立板组成,水箱设置在水槽内,与水槽通过螺栓连接,在水箱上端面均布有若干立板,立板与水箱固定连接,水箱下部设有与气源相连的进出气口,上部设进出水口,所述水槽上处于进出水口下部的空间为封闭空间。本发明将进出气口设置在水箱下部,上部设进出水口;其进水、出水位置上移,且本发明水槽下部为封闭结构,不需要注水,减少了所需水的容积,故本发明水位升降快,需水量小等优点。
文档编号B23K10/00GK102896412SQ20111021611
公开日2013年1月30日 申请日期2011年7月30日 优先权日2011年7月30日
发明者王愉翔, 吕飞 申请人:江苏一重数控机床有限公司
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