一种用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，包括真空泵和平台，所述真空泵设置在平台的下方，其中，所述平台包括装配在一起的POM板和金属底板，所述POM板上设置有多个吸附孔，所述金属底板上设置有与所述吸附孔相对应的沟槽，所述沟槽位于吸附孔的下方。本实用新型提供的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，通过在POM板和金属底板上分别设置吸附孔和沟槽，以便真空泵抽取平台内部气体后形成一个负压空间，从而加大吸附力，大幅降低了因平台吸力不足造成加工材料浪费过多、加工偏位以及产品不良等缺陷。此外，本实用新型通过缩小吸附孔孔径、增加吸附孔数量，更好地将待加工材料牢牢地吸附在真空平台上。
【专利说明】 一种用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种真空吸附平台，尤其涉及一种用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，属于激光微加工【技术领域】。
【背景技术】
[0002]在PET薄膜导电膜层放置固定并加工的放料平台中，现有技术是利用“潮汐原理”通过采用真空发生器排空平台内的气体，从而使平台内部形成负压来吸附待加工材料。所谓真空发生器足利用喷管高速喷射压缩空气，在喷管出口形成射流，产生卷吸流动.在卷吸作用下，使得喷管出口周围的空气不断地被抽吸走，使吸附腔内的压力降至大气压以下，形成一定真空度。由于真空发生器一般流量均比较小，这就导致工作过程中，平台吸附反应慢、吸附力小等缺陷，造成生产效率及成品率均比较低。因此，针对现有的不足，有必要提供一种新的技术以提局生广效率和成品率。
实用新型内容
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是提供一种用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，加大吸附力，提局生广效率。
[0004]本实用新型为解决上述技术问题而采用的技术方案是提供一种用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，包括真空栗和平台，所述真空栗设置在平台的下方，其中，所述平台包括装配在一起的POM板和金属底板，所述POM板上设置有多个吸附孔，所述金属底板上设置有与所述吸附孔相对应的沟槽，所述沟槽位于吸附孔的下方。
[0005]上述的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，其中，所述吸附孔按阵列方式均匀排列。
[0006]上述的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，其中，所述吸附孔是孔径为0.5mm?4mm的圆孔，相邻两个吸附孔之间的间距为5mm?20mm。
[0007]上述的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，其中，所述平台的平面度为0.05mm以内。
[0008]本实用新型对比现有技术有如下的有益效果:本实用新型提供的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，通过在POM板和金属底板上分别设置吸附孔和沟槽，以便真空栗抽取平台内部气体后形成一个负压空间，从而加大吸附力，大幅降低了因平台吸力不足造成加工材料浪费过多、加工偏位以及产品不良等缺陷。此外，本实用新型通过缩小吸附孔孔径、增加吸附孔数量、增大平台底板内部气路的截面面积，并且利用真空栗的流量及压力均较大的优点，从而更好地将待加工材料牢牢地吸附在真空平台上，进一步提高了生产效率。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1为本实用新型的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台整体结构示意图；
[0010]图2为本实用新型的吸附平台结构示意图。[0011]图中:
[0012]I真空栗2平台 3 POM板
[0013]4金属底板 5吸附孔
【具体实施方式】
[0014]下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的描述。
[0015]图1为本实用新型的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台整体结构示意图；图2为本实用新型的吸附平台结构示意图。
[0016]请参见图1和图2，本实用新型提供的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台包括真空栗I和平台2，所述真空栗I设置在平台2的下方，其中，所述平台2包括装配在一起的POM板3和金属底板4，所述POM板3上设置有多个吸附孔5，所述金属底板4上设置有与所述吸附孔5相对应的沟槽，所述沟槽位于吸附孔5的下方。
[0017]本实用新型提供的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，通过在POM板3和金属底板4上分别设置吸附孔5和沟槽，以便真空栗抽取平台内部气体后形成一个负压空间，从而吸附待加工物料。POM板(聚甲醛板):英文名称Polyoxymethylene，俗称赛钢板，是用POM塑料粒子通过挤出机高温挤出，经过相应的模具口挤出得到不同厚度的板材，是一种高熔点、高结晶性的热塑性工程塑料。因POM板所具有的良好特性，非常适合在脉冲激光刻蚀中作为加工平台，用来进行精密定位。
[0018]本实用新型提供的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，所述吸附孔5优选按阵列方式均匀排列；比如所述吸附孔5优选孔径为0.5mm~4mm的圆孔，相邻两个吸附孔5之间的间距为5mm~20mm ;所述平台2的表面尽量光滑，如平面度为0.05mm以内。通过缩小吸附孔5孔径、增加吸附孔5数量、增大平台金属底板4内部气路的截面面积，并且利用真空栗的流量及压力均较大的优点，从而更好地将待加工材料牢牢地吸附在真空平台上。
[0019]虽然本实用新型已以较佳实施案例揭示如上，然其并非用以限定本实用新型，任何本领域技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作些许的修改和完善，因此本实用新型的保护范围当以权利要求书所界定的为准。
【权利要求】
1.一种用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，包括真空栗(I)和平台(2)，所述真空栗(I)设置在平台(2)的下方，其特征在于，所述平台(2)包括装配在一起的POM板(3)和金属底板(4)，所述POM板(3)上设置有多个吸附孔(5)，所述金属底板(4)上设置有与所述吸附孔(5)相对应的沟槽，所述沟槽位于吸附孔(5)的下方。
2.如权利要求1所述的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，其特征在于，所述吸附孔(5)按阵列方式均匀排列。
3.如权利要求2所述的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，其特征在于，所述吸附孔(5)是孔径为0.5mm?4mm的圆孔，相邻两个吸附孔(5)之间的间距为2mm?20mm。
4.如权利要求2所述的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，其特征在于，所述平台(2)的平面度为0.05皿1以内。
【文档编号】B23K26/70GK203599718SQ201320825096
【公开日】2014年5月21日 申请日期:2013年12月3日 优先权日:2013年12月3日
【发明者】龚楷峰, 刘俊辉, 施心星 申请人:苏州镭明激光科技有限公司