一种用于圆周分度基阵架加工的夹具装置的制作方法

本实用新型涉及一种用于圆周分度基阵架加工的夹具装置，属机械加工领域。

背景技术：

基阵架是安装振子阵列的部件，是声纳的重要组成部分。在水声产品的组成上，振子阵列按一定的排布方式，通过安装固定架将大量的振子安装于基阵架上，以此组成基阵来增大振子阵列的声信号发射面积，并大幅扩展和提高水声产品的探测性能。在应对圆周排布结构的基阵架加工时，圆周的回转分度精度是直接影响到声信号发射效率的关键因素，即基阵架圆周分度加工的精度越高，则振子阵列组的发射范围越接近理论发射范围，发射效率越高。所以，在加工此类圆周分度精度要求的基阵固定架时，常见的解决办法是依靠设备工作台的回转精度来保证基阵架圆周上的分度。

这种方法的缺陷在于：

由于加工设备分度精度不足，需多次校正来弥补圆周回转分度的精度，且校正圆周的工作量大，校正不便，增加了加工复杂程度和加工难度，同时加工效率也较低。

技术实现要素：

针对原有基阵架圆周分度加工方法的缺陷，本实用新型的目的在于提出一种分度校正简单可靠的夹具，以此大幅提高加工质量及效率。

本实用新型的目的在于提供一种用于圆周分度基阵架加工的夹具装置，为实现上述目的，本实用新型将通过以下技术措施实现，一种用于圆周分度基阵架加工的夹具装置，包括用于圆周分度基阵架(1)，其特征在于，所述夹具装置包括支撑固定内圈杆(2-1)、支撑固定外圈杆(2-2)、分度基板(3)、定位芯轴(4)、顶部固定单元(5)、联接芯轴(6)、等分分度基准面(7)；

所述的基阵架(1)安置于所述的分度基板(3)与所述顶部固定单元(5)之间，所述联接芯轴(6)外侧；

所述的分度基板(3)位于该夹具装置底部，在所述分度基板(3)中心开有中心孔；所述顶部固定单元(5)处于该夹具装置顶部；

所述的等分分度基准面(7)，位于所述的分度基板(3)之上，与所述分度基板(3)同圆心，二者为一体台阶式的圆台；

所述的定位芯轴(4)处于所述分度基板(3)中心孔中；所述联接芯轴(6)安装于该夹具装置中央位置，安置于所述分度基板(3)与所述顶部固定单元(5)之间；

所述的支撑固定内圈杆(2-1)，有n根(n大于等于1且可以被360整除)，间隔360/n度圆周均匀安置在所述分度基板(3) 与所述顶部固定单元(5)之间；所述的支撑固定外圈杆(2-2)，有m根(m大于等于2且可以被360整除)，间隔360/m度圆周均匀安置在所述分度基板(3)与所述顶部固定单元(5)之间。

整个装置由于分度基板(3)带有等分分度基准面(7)，所以在实际使用中，只需将该装置通过定位芯轴(4)来完成装置定位，并以联接芯轴(6)为安装基准来完成基阵架(1)定位，即可将分度基板上的分度基准面作为回转分度基准来完成基阵架的分度作业。本装置的优势在于其结构简单，安装方便，可有效解决因加工设备圆周回转精度不足，而需多次校正圆周的问题。大幅度降低基阵架的加工和精度控制的难度，同时还可大幅提高加工生产效率。

附图说明

图1为本实用新型整体结构示意正视图；

图2为本实用新型整体结构示意俯视图。

图中标号为：1、基阵架；2-1、支撑固定内圈杆；2-2、支撑固定外圈杆；3、分度基板；4、定位芯轴；5、顶部固定单元；6、联接芯轴；7、等分分度基准面

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。

实施例1：如图1及图2所示，一种用于圆周分度基阵架加工的夹具装置。基阵架(1)为所加工的器件，加工时安置于分度基板(3)与顶部固定单元(5)之间，联接芯轴(6)外侧。支撑固定杆分为内外两圈(见俯视图)，支撑固定内圈杆(2-1) 为4处90度圆周均匀分布，支撑固定内圈杆(2-2)为8处45 度圆周均匀分布；分度基板(3)为定位板，处于装置最下部，为一个两层的台阶零件；定位芯轴(4)处于分度基板(3)中心孔中；顶部固定单元(5)处于装置顶部；联接芯轴(6)处于装置中央位置，处于分度基板(3)与顶部固定单元(5)之间，两圈支撑固定杆(2)之间；等分分度基准面(7)存在于分度基板 (3)之上，两者一体。

基阵架(1)通过联接芯轴(6)定位，稳定安置于分度基板 (3)与顶部固定单元(5)之间，安装时首先依靠定位芯轴(4) 来定位整个夹具装置的位置，然后在分度基板(3)之上安装联接芯轴(6)，并以联接芯轴(6)为安装基准安装基阵架，其后安装支撑固定杆(2-1)、(2-2)过顶部固定单元上(5)的联接芯轴(6)安装槽完成顶部固定单元(5)的限位安装，最后以紧固件紧固完成整个装置的固定约束。在实际使用中，可通过校正分度基板(3)的等分分度基准面(7)来完成整个基阵架的圆周分度。本实用新型结构简单，能够稳定可靠的完成基阵架的圆周回转分度加工。

以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所做的任何修改、等同替换和改进等，均应包含再本发明创造的保护范围之内。