1.一种用于对产品进行打标的激光打标系统，包括：
激光源，用于提供激光束；
用于将所述激光束投射到所述产品上的打标头；
壳体，包括：
提取装置，其被配置成产生提取流体的流，用于提取由所述激光束与所述产品之间的相互作用产生的物质；以及
控制器，用于控制所述激光源和所述打标头；
其中，所述激光打标系统还包括将所述壳体连接到所述打标头的脐带缆组件。
2.根据权利要求1所述的激光打标系统，其中所述壳体包括所述激光源。
3.根据权利要求1所述的激光打标系统，其中所述打标头包括所述激光源。
4.根据任意前述权利要求所述的激光打标系统，其中所述打标头包括辐射屏蔽件，用于保护所述激光打标系统的用户免受杂散辐射。
5.根据权利要求4所述的激光打标系统，其中所述辐射屏蔽件包括传感器，所述传感器被配置成检测从所述辐射屏蔽件的一部分与所述产品之间的间隙发出的辐射。
6.根据权利要求4或5所述的激光打标系统，其中所述辐射屏蔽件包括流体地联接到所述提取装置的集成提取入口。
7.根据权利要求6所述的激光打标系统，其中所述集成提取入口能够配置成基本上邻近所述产品定位。
8.根据权利要求4至7中任一项所述的激光打标系统，其中所述辐射屏蔽件包括导管，所述导管被配置成提供抑制流体流以减少入射在所述打标件的光学元件上的碎屑的量。
9.根据权利要求4至8中任一项所述的激光打标系统，其中所述辐射屏蔽件包括凸缘，用于向所述激光打标系统的用户提供进一步保护以免受杂散辐射。
10.根据权利要求4至9中任一项所述的激光打标系统，其中所述辐射屏蔽件包括柔性构件，所述柔性构件被布置成减小所述辐射屏蔽件与所述产品之间的间隙，以便为所述激光打标系统的用户提供进一步的保护以免受杂散辐射。
11.根据任意前述权利要求所述的激光打标系统，其中所述提取装置被配置成向所述激光源提供冷却。
12.根据权利要求11所述的激光打标系统，其中所述提取装置被配置成将所述提取流体的流引导到所述激光源，并且由此向所述激光源提供冷却。
13.根据权利要求12所述的激光打标系统，其中所述壳体包括冷却装置，所述冷却装置被配置成在所述提取流体被引导到所述激光源之前冷却所述提取流体。
14.根据任意前述权利要求所述的激光打标系统，其中所述提取装置包括热交换器，所述热交换器被配置成冷却所述激光源。
15.根据权利要求12或从属于权利要求12的任何权利要求所述的激光打标系统，其中所述提取装置包括风扇，所述风扇被配置成产生提取流体的所述流。
16.根据任意前述权利要求所述的激光打标系统，其中所述提取装置包括被配置成捕获所述物质中的至少一些的过滤器。
17.根据任意前述权利要求所述的激光打标系统，其中所述打标头包括电磁辐射转向机构，所述电磁辐射转向机构被配置成使电磁辐射转向以寻址二维视场内的特定位置。
18.根据权利要求17所述的激光打标系统，其中所述打标头包括可变光程长度组件，所述可变光程长度组件被配置成限定从所述可变光程长度组件的输入到输出的光程。
19.根据权利要求17或18所述的激光打标系统，其中所述打标头包括聚焦光学器件。
20.根据权利要求17至19中任一项所述的激光打标系统，其中所述打标头包括准直器。
21.根据权利要求17至20中任一项所述的激光打标系统，其中所述打标头为大致圆柱形。
22.根据权利要求17至21中任一项所述的激光打标系统，其中所述打标头包括冷却系统，用于向所述打标头的部件提供冷却。
23.根据权利要求22所述的激光打标系统，其中所述冷却系统被配置成使用所述辐射屏蔽件的所述抑制流体来冷却所述打标头的所述部件。
24.根据任意前述权利要求所述的激光打标系统，其中所述脐带缆组件包括导电线缆和用于传输流体的管道。
25.根据权利要求24所述的激光打标系统，其中所述导电线缆被配置成传输控制信号。
26.根据权利要求24或25所述的激光打标系统，其中所述导电线缆被配置成传输传感器信号。
27.根据权利要求24至26中任一项所述的激光打标系统，其中所述导电线缆被配置成传输电力。
28.根据权利要求24至27中任一项所述的激光打标系统，其中所述管道被配置成将所述抑制流体传输到所述辐射屏蔽件。
29.根据权利要求24至28中任一项所述的激光打标系统，其中所述管道被配置成从所述辐射屏蔽件传输所述提取流体。
30.根据任意前述权利要求所述的激光打标系统，还包括被配置成检测所述产品的存在的检测器。
31.根据任意前述权利要求所述的激光打标系统，还包括编码器。
32.根据任意前述权利要求所述的激光打标系统，还包括用户界面。
33.根据任意前述权利要求所述的激光打标系统，还包括用于为所述激光源供电的电源。
34.根据权利要求33所述的激光打标系统，其中所述电源位于所述壳体内。
35.一种用于激光打标系统的脐带缆组件，包括：
内部脐带缆，包括：
用于传输激光束的光纤；以及
导电线缆；
所述脐带缆组件还包括用于传输流体的外部导管；
其中所述外部导管被配置成接收所述内部脐带缆。
36.根据权利要求35所述的脐带缆组件，其中所述外部导管的内部容积足够大以容纳激光打标系统的打标头。
37.根据权利要求35或36所述的脐带缆组件，其中所述外部导管能够可逆地连接至激光打标系统的打标头。
38.根据权利要求35至37中任一项所述的脐带缆组件，其中所述外部导管能够可逆地连接至激光打标系统的壳体。
39.根据权利要求35至38中任一项所述的脐带缆组件，其中所述内部脐带缆能够可逆地连接至激光打标系统的打标头。
40.根据权利要求35至39中任一项所述的脐带缆组件，其中所述内部脐带缆能够可逆地连接至激光打标系统的壳体。
41.根据权利要求35至40中任一项所述的脐带缆组件，其中，所述外部导管能够从所述内部脐带缆可逆地移除。
42.根据权利要求35至41中任一项所述的脐带缆组件，其中，所述外部导管是可分离的。
43.根据权利要求35至42中任一项所述的脐带缆组件，还包括洗涤器，所述洗涤器被配置成清洁所述内部脐带缆。
44.根据权利要求35至43中任一项所述的脐带缆组件，其中所述脐带缆组件能够可逆地密封至激光打标系统的打标头和壳体，以防止流体或碎屑进入。
45.根据权利要求35至44中任一项所述的脐带缆组件，其中，所述内部脐带缆的外表面和所述外部导管的内表面包括耐化学腐蚀的材料。
46.根据权利要求35至45中任一项所述的脐带缆组件，其中，所述内部脐带缆的外表面和所述外部导管的内表面包含耐热材料。
47.根据权利要求35至46中任一项所述的脐带缆组件，其中，所述内部脐带缆的外表面和所述外部导管的内表面包含不透水的材料。
48.根据权利要求35至47中任一项所述的脐带缆组件，其中所述内部脐带缆的外表面或所述外部导管的内表面是光滑的。
49.根据权利要求35至48中任一项所述的脐带缆组件，其中，所述内部脐带缆和所述外部导管由卫生材料形成。
50.根据权利要求35至49中任一项所述的脐带缆组件，其中，所述导电线缆被配置成传输控制信号。
51.根据权利要求35至50中任一项所述的脐带缆组件，其中，所述导电线缆被配置成传输传感器信号。
52.根据权利要求35至51中任一项所述的脐带缆组件，其中，所述导电线缆被配置成传输电力。
53.根据权利要求35至52中任一项所述的脐带缆组件，其中，所述内部脐带缆还包括用于输送流体的管道。
54.根据权利要求53所述的脐带缆组件，其中，所述管道被配置成将抑制流体传输至激光打标系统的打标头。
55.根据权利要求35至54中任一项所述的脐带缆组件，其中，所述外部导管被配置成从激光打标系统的打标头传输提取流体。
56.根据权利要求35至55中任一项所述的脐带缆组件，其中，所述脐带缆组件包括用于将所述脐带缆组件连接至排出系统的端口。
57.一种用于对产品进行打标的激光打标系统，包括：
激光源，用于提供激光束；
用于将所述激光束投射到所述产品上的打标头；
壳体，其包括提取装置和控制器，所述提取装置被配置成产生用于提取由所述激光束与所述产品之间的相互作用产生的物质的提取流体的流，所述控制器用于控制所述激光源和所述打标头；以及
根据权利要求35至56中任一项所述的脐带缆组件，所述脐带缆组件被配置成将所述壳体连接到所述打标头。
58.一种用于激光打标系统的打标头，包括辐射屏蔽件，所述辐射屏蔽件被配置为保护所述激光打标系统的用户免受杂散辐射，所述辐射屏蔽件包括传感器，所述传感器被配置为检测从所述辐射屏蔽件的一部分和待打标的产品之间的间隙发出的辐射。
59.根据权利要求58所述的打标头，其中所述辐射屏蔽件包括与所述提取装置流体联接的集成提取入口。
60.根据权利要求58或59所述的打标头，其中所述集成提取入口能够被配置为基本上邻近所述产品定位。
61.根据权利要求58至60中任一项所述的打标头，其中所述辐射屏蔽件包括导管，所述导管被配置成提供抑制流体流以减少入射到所述打标头的光学元件上的碎屑的量。
62.根据权利要求58至61中任一项所述的打标头，其中所述辐射屏蔽件包括凸缘，用于为所述激光打标系统的用户提供进一步的保护以免受杂散辐射。
63.根据权利要求58至62中任一项所述的打标头，其中所述辐射屏蔽件包括柔性构件，所述柔性构件被布置成减小所述辐射屏蔽件与所述产品之间的间隙，以便为所述激光打标系统的用户提供进一步的保护以免受杂散辐射。
64.根据权利要求58至63中任一项所述的打标头，其中所述辐射屏蔽件由柔性材料形成。
65.根据权利要求58至64中任一项所述的打标头，其中所述辐射屏蔽件是可膨胀的或可收缩的。
66.根据权利要求58至65中任一项所述的打标头，还包括用于捕获碎屑的过滤器。
67.根据权利要求58至66中任一项所述的打标头，还包括安全装置，所述安全装置被配置成在所述辐射屏蔽件未连接至所述打标头的情况下禁止提供辐射。
68.一种用于激光打标系统的打标头，所述打标头被配置成将激光束投射到产品上，所述打标头包括辐射屏蔽件，所述辐射屏蔽件被配置成保护所述激光打标系统的用户免受杂散辐射，所述辐射屏蔽件包括：
内壁，所述内壁限定辐射路径，
外壁，所述外壁相对于所述内壁布置成使得在所述内壁与所述外壁之间限定流体流动路径，
其中，所述流体流动路径能够附接到提取装置，所述提取装置用于提取由辐射束和待打标产品之间的相互作用产生的物质。
69.根据权利要求68所述的打标头，其中所述辐射路径由所述内壁从激光源朝向待打标的产品限定。
70.根据权利要求68或权利要求69所述的打标头，其中所述内壁限定辐射出口孔，所述辐射出口孔被配置成允许辐射朝向待打标的所述产品离开。
71.根据权利要求68至70中任一项所述的打标头，还包括用于提取由所述辐射束和所述产品之间的相互作用产生的物质的提取流体入口。
72.根据权利要求70和71所述的打标头，其中所述提取流体入口被设置成邻近所述辐射出口孔。
73.根据权利要求72所述的打标头，其中所述提取流体入口围绕所述辐射出口孔设置。
74.根据权利要求68至73中任一项所述的打标头，其中所述打标头被配置成联接至脐带缆组件，其中所述脐带缆组件在所述辐射屏蔽件和提取装置之间限定流体流动路径。
75.根据权利要求74所述的打标头，其中所述打标头配置为接收由设置在所述脐带缆组件内的控制载体提供的控制信号。
76.根据权利要求74或权利要求75所述的打标头，其中所述打标头被配置成接收来自设置在所述脐带缆组件内的辐射导向器的辐射。
77.根据权利要求68至76中任一项所述的打标头，其中所述打标头包括辐射转向机构，其配置为使电磁辐射转向以寻址二维视场内的特定位置。
78.根据权利要求68至77中任一项所述的打标头，其中所述打标头包括可变光程长度组件，所述可变光程长度组件被配置成限定从所述可变光程长度组件的输入到输出的光程。
79.根据权利要求1至34中任一项所述的激光打标系统，包括根据权利要求68至77中任一项所述的打标头。