激光设备和使用该激光设备的衬底蚀刻方法与流程

相关申请的交叉引用

本专利申请要求于2018年11月15日提交到韩国知识产权局的第10-2018-0140998号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的全部内容通过引用并入本文。

本发明涉及一种激光设备，并且特别是涉及具有提升的工艺精度的激光设备和衬底蚀刻方法。

背景技术：

通过光学系统，激光设备能够将来自光源的激光束发射到目标物体上，并且用于在目标物体上执行各种激光照射工艺(例如，标记、曝光、蚀刻、冲压、划线和切割工艺)。在激光照射工艺中，可控制由光源生成的激光束的波长、光束大小和强度以通过不同的方式处理目标物体。

技术实现要素：

本发明构思的实施方式提供具有提升的工艺精度的激光设备和使用该激光设备蚀刻衬底的方法。

根据本发明构思的实施方式，激光设备可包括激光发生器、光学系统和台，其中，激光发生器生成至少一个输入光，其中，该输入光为激光束，光学系统将从激光发生器提供的输入光转换为包括多个图案光的输出光，并且目标物体被装载到台上。输出光可照射到目标物体上。光学系统可将输入光划分成多个分光，图案光可通过多个分光的相长干涉而生成，并且图案光中的每个的直径可小于输入光的直径。

在实施方式中，图案光中的每个的直径可小于或等于约1μm。

在实施方式中，光学系统可包括分光部和聚光部，其中，分光部配置成将入射到其上的光划分成分光，并且聚光部在光路上布置在分光部后面并且配置成聚集分光。

在实施方式中，分光部可包括配置成通过入射光的衍射而将入射光划分成多个分光的衍射光学元件(doe)。

在实施方式中，聚光部可包括至少一个透镜。

在实施方式中，光学系统还可包括在光路上布置在聚光部后面并且配置成将聚集的光转换为平行光的第一处理部。

在实施方式中，光学系统还可包括在光路上布置在聚光部后面并且配置成改变由聚光部聚集的光的形状和大小的第二处理部。

在实施方式中，聚光部可包括具有折射率各向异性的材料。

在实施方式中，由分光部划分出的分光中的至少两束分光可在其特定分量的相位延迟值方面彼此不同。

在实施方式中，光学系统可包括多个分束器、多个镜和至少一个相位延迟器，其中，多个分束器中的每个配置成透射或反射入射光并且将入射光划分成在x方向上以及在与x方向相交的y方向上传播的光，多个镜配置成对由分束器划分出的光中的在y方向上传播的光进行反射，并且至少一个相位延迟器在光路上布置在分束器与镜之间并且配置成延迟入射光的分量的相位。

在实施方式中，相位延迟器可包括配置成将入射光的分量延迟λ/4的四分之一波片，其中λ是入射光的波长。

在实施方式中，光学系统可包括第一分束器、第一镜、第二镜、第二分束器、第三镜和第四镜，其中，第一分束器配置成将沿着第一路径传播的输入光划分成沿着与x方向平行的第二路径以及沿着与x方向相交的y方向平行的第三路径传播的光，第一镜布置在第三路径上，第二镜布置在第四路径上以面对第一镜，第四路径平行于第三路径并且通过第一分束器连接到第三路径，第二分束器布置在第二路径上，第二分束器配置成将沿着第二路径传播的光划分成沿着与x方向平行并且朝向台的第五路径以及沿着与y方向平行的第六路径传播的光，第三镜布置在第六路径上，并且第四镜布置在第七路径上以面对第三镜，第七路径平行于第六路径并且通过第二分束器连接到第六路径。

在实施方式中，光学系统还可包括第一相位延迟器和第二相位延迟器，其中，第一相位延迟器在第三路径上布置在第一分束器与第一镜之间并且配置成延迟入射光的分量的相位，并且第二相位延迟器在第六路径上布置在第二分束器与第三镜之间并且配置成延迟入射光的分量的相位。

在实施方式中，光学系统还可包括第三相位延迟器和第四相位延迟器，其中，第三相位延迟器在第四路径上布置在第一分束器与第二镜之间并且配置成延迟入射光的分量的相位，并且第四相位延迟器在第七路径上布置在第二分束器与第四镜之间并且配置成延迟入射光的分量的相位。

在实施方式中，分束器可为配置成根据入射光的偏振状态而透射或反射入射光的偏振分束器。

在本实施方式中，输入光可为线性偏振光。

根据本发明构思的实施方式，蚀刻衬底的方法可包括：准备目标衬底；将输入光划分成多个分光；在分光之间产生相位差；将分光进行混合以形成输出光；以及使用输出光蚀刻目标衬底。在形成输出光时，分光可彼此相长干涉以形成构成输出光的多个图案光。图案光中的每个的直径可小于输入光的直径。

在实施方式中，图案光中的每个的直径可小于或等于约1μm。

在实施方式中，在划分输入光时，可通过输入光的衍射来将输入光划分成多个分光。

在实施方式中，在划分输入光时，可根据输入光的偏振状态来将输入光划分成多个分光。

附图说明

通过结合附图的以下简要描述，将更清楚地理解示例性实施方式。附图表示如本文中所描述的非限制性示例性实施方式。

图1是示出根据本发明构思的实施方式的激光设备的示意图。

图2是图1的光学系统的示意图。

图3是示出穿过图2的聚光部的光的光路的图。

图4是示出根据本发明构思的实施方式的输出光的剖面图。

图5是图4的区域“a”的放大视图。

图6是示出根据本发明构思的实施方式的目标物体的透视图。

图7是沿图6的线i-i'截取的剖面图。

图8是示出蚀刻处理之后的目标物体的剖面图。

图9是示出根据本发明构思的另一实施方式的光学系统的示意图。

图10是示出根据本发明构思的又一实施方式的光学系统的示意图。

图11是示出穿过图10的光学系统的光的光路的图。

图12是图11的输出光的剖面图。

图13是示出根据本发明构思的又一实施方式的光学系统的示意图。

图14是示出根据本发明构思的实施方式的蚀刻显示衬底的方法的流程图。

应注意，这些图旨在示出在某些示例性实施方式中所使用的方法、结构和/或材料的一般特性，并且旨在补充下文中提供的书面描述。然而，这些附图不是按比例绘制的，并且可能不会精确地反映任何给定实施方式的精确结构或性能特性，并且不应被解释为限定或限制由示例性实施方式包含的值或属性的范围。例如，为了清楚起见，分子、层、区域和/或结构元件的相对厚度和位置可减小或放大。相似或相同的附图标记在各种附图中的使用旨在指示相似或相同的元件或特征的存在。

具体实施方式

现在将参照示出了示例性实施方式的附图对本发明构思的示例性实施方式进行更全面的描述。然而，本发明构思的示例性实施方式可以许多不同的形式实施，并且不应该被解释为限于本文中所阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式是为了使本公开将是彻底和完整的，并且将示例性实施方式的构思完整地传达给本领域普通技术人员。在附图中，为了清楚起见，层和区域的厚度被放大。在附图中相同的附图标记表示相同的元件，并因此它们的描述将被省略。

应理解，当元件被称为“连接到”或“联接到”另一元件时，该元件可直接连接到或联接到另一元件，或者可存在中间元件。相反，当元件被称为“直接连接到”或“直接联接到”另一元件时，则不存在中间元件。在整个说明书中，相似的附图标记指示相似的元件。如本文中所使用的，措辞“和/或”包括相关所列项目中的一个或多个的任何和所有组合。用于描述元件或层之间的关系的其它措辞应以相同的方式解释(例如，“在...之间”与“直接在...之间”、“相邻”与“直接相邻”、“在...上”与“直接在...上”)。

应理解，尽管措辞“第一”、“第二”等可在本文中用于描述各种元件、部件、区域、层和/或者部分，但是这些元件、部件、区域、层和/或者部分不应受这些措辞限制。这些措辞仅用于将一个元件、部件、区域、层或者部分与另一个元件、部件、区域、层或者部分区分开。因此，下面讨论的第一元件、部件、区域、层或者部分可被称为第二元件、部件、区域、层或者部分，而不背离示例性实施方式的教导。

空间相对措辞诸如“下面(beneath)”、“下方(below)”、“下(lower)”、“上方(above)”、“上(upper)”等可在本文中为了描述的便利而使用，以描述如图中所示的一个元件或特征与另一元件或特征的关系。应理解，除了附图中所示的取向以外，空间相对措辞旨在包括装置在使用或操作中的不同取向。例如，如果图中的装置被翻转，则被描述为在其它元件或者特征“下方(below)”或“下面(beneath)”的元件则将被取向为在其它元件或特征“上方”。因此，示例性措辞“下方”可包含上方和下方的取向这两者。装置可以其它方式取向(旋转90度或者在其它取向)，并且本文中所使用的空间相对描述词被相应地解释。

本文中所使用的术语是仅出于描述特定实施方式的目的，而不旨在对示例性实施方式进行限制。除非上下文中另有明确指示，否则如本文中所使用的单数形式“一(a)”、“一(an)”和“该(the)”也旨在包括复数形式。还将理解，如果措辞“包含(comprise)”、“包含有(comprising)”、“包括(include)”和/或“包括有(including)”在本文中使用，则指示所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或其组合的存在或添加。

在本文中参照作为示例性实施方式的理想化实施方式(和中间结构)的示意图的剖面图对本发明构思的示例性实施方式进行描述。由此，由例如制造技术和/或公差所导致的图示的形状的变化是可预期的。因此，本发明构思的示例性实施方式不应被解释为受限于本文中所示出的区域的特定形状，而是包括由例如通过制造而导致的形状上的偏差。

除非另有限定，否则本文中所使用的所有术语(包括技术术语和科技术语)具有与本发明构思的示例性实施方式所属技术领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。还应理解，除非在本文中明确地如此限定，否则术语诸如常用词典中限定的那些术语应被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义一致的含义，并且将不以理想化或者过于正式的含义来解释。

图1是示出根据本发明构思的实施方式的激光设备的示意图。

参照图1，根据本发明构思的实施方式的激光设备1000可包括激光发生器100、光学系统200和台300。

激光发生器100可生成输入光il。输入光il可为激光束。输入光il可用于蚀刻工艺。本发明构思不限于输入光il的特定波长带。例如，输入光il可以是其波长范围为约340nm到550nm的绿色光。在实施方式中，输入光il可为红外光。

光学系统200可将从激光发生器100提供的输入光il转换为至少一束输出光ol。当在从激光发生器100到台300的光路中观察时，光学系统200可布置在台300与激光发生器100之间，并且允许至少一束输出光ol朝向台300传播。

在本实施方式中，将对激光设备1000包括一个光学系统200的示例进行描述，但是本发明构思不限于该示例。在实施方式中，激光设备1000还可包括独立于下面将描述的光学系统200的多个光学系统(未示出)。

在下文中将参照图2和图3对光学系统200进行更详细的描述。

台300可支承目标物体10。台300可提供平坦表面。虽未在图中示出，但是激光设备1000还可包括布置在台300下方或附近并且用于改变台300的位置的台驱动部(未示出)。

从光学系统200发射的输出光ol可照射到装载在台300上的目标物体10上。激光设备1000可用于蚀刻或切割工艺。换言之，输出光ol可用于蚀刻或切割目标物体10的至少一部分区域。

虽未在图中示出，但是激光设备1000还可包括布置在光路上并且位于光学系统200与台300之间的至少一个方向改变构件(未示出)。作为示例，方向改变构件可以是检流计扫描仪或镜子。方向改变构件可改变输出光ol的传播方向，使得从光学系统200提供的输出光ol朝向台300传播。

图2是图1的光学系统的示意图。

参照图2，光学系统200可包括分光部210、聚光部220和第一处理部230。

分光部210可将输入光il划分成多个分光dla。在本实施方式中，分光部210可将输入光il划分成至少三个分光dla。

在实施方式中，分光部210可配置成引起输入光il的衍射。作为示例，分光部210可以是或者可包括衍射光学元件(doe)。

聚光部220可在光路上布置在分光部210后面。聚光部220可配置成聚集入射到其上的分光dla。例如，聚光部220可折射入射到其上的分光dla。被聚光部220折射的分光dlb可朝向特定的聚集点传播。分光dlb可通过聚光部220混合。换言之，分光dlb可至少部分地彼此重叠。

聚光部220可包括至少一个透镜。图2和图3示出了聚光部220以单个凸透镜的形式提供的示例。然而，本发明构思不限于构成聚光部220的透镜的种类和数量。

第一处理部230可在光路上布置在聚光部220后面。第一处理部230可配置成将入射到其上的光转换成平行光。平行光的传播方向可垂直于台300的顶表面。作为示例，第一处理部230可为准直器。

在本实施方式中，第一处理部230可布置在从聚光部220发射的分光dlb聚集的点处。例如，第一处理部230可布置在聚光部220的焦点处。因此，由聚光部220聚集的分光dlb可通过第一处理部230转换为平行光。其传播方向通过第一处理部230而改变为彼此平行的分光dlb将被称为输出光ol。

在实施方式中，第一处理部230可被省略。在这种情况下，聚光部220的焦点可被置于目标物体10上。

图3是示出穿过图2的聚光部的光的光路的图。为了示出的便利，在图3中仅示出了由分光部210划分出的多个分光dla和dlb中的三个分光。

进一步参照图3，根据本发明构思的实施方式的聚光部220可具有折射率各向异性。换言之，聚光部220可引起通过聚光部220透射的光中的至少一个的相位的延迟。

此外，根据本发明构思的实施方式，穿过聚光部220的光可具有至少部分不同的相位。

详细地，从分光部210提供的第一分光dla1至第三分光dla3可穿过聚光部220。在聚光部220的内部空间中，第一分光dla1至第三分光dla3可沿着具有不同路径长度的光路进行传播。第一分光dla1至第三分光dla3中的每个的相位延迟值可与光路的路径长度成比例。第一分光dla1可在聚光部220的内部空间中沿着具有第一距离d1的光路传播。第二分光dla2可在聚光部220的内部空间中沿着具有第二距离d2的光路传播。第三分光dla3可在聚光部220的内部空间中沿着具有第三距离d3的光路传播。第一距离d1、第二距离d2和第三距离d3可彼此不同。穿过聚光部220但具有不同相位延迟值的第一分光dlb1至第三分光dlb3可在聚光部220的界面处被折射并且可被聚集。

虽未在附图中示出，但是在实施方式中，光学系统200还可包括布置在分光部210与第一处理部230之间并且在光路上的附加的相位延迟器(未示出)。相位延迟器可具有折射率各向异性。相位延迟器可增加沿不同路径传播的光之间的相位差。

图4是示出根据本发明构思的实施方式的输出光的剖面图。

参照图4，输出光ol可具有部分地混合有第一分光dlb1至第三分光dlb3的光束部分。在本实施方式中，在第一分光dlb1至第三分光dlb3彼此重叠的区域中可能发生干涉。

详细地，由于第一分光dlb1至第三分光dlb3具有不同的相位延迟值，因此在第一分光dlb1至第三分光dlb3的重叠区域中可能发生干涉。在第一分光dlb1至第三分光dlb3在特定区域中彼此相长干涉的情况下，输出光ol可在该特定区域中具有多个图案。例如，在两个分光彼此重叠的情况下，输出光ol可具有条纹形状，并且在三个或更多个分光彼此重叠的情况下，输出光ol可具有矩阵形状。图4中所示的区域“a”可被限定为第一分光dlb1至第三分光dlb3中的全部彼此重叠的区域。

图5是图4的区域“a”的放大视图。

进一步参照图5，输出光ol可包括提供为在区域“a”中形成矩阵形布置的多个图案光dfl。图案光dfl的布置可通过第一分光dlb1至第三分光dlb3之间的相长干涉来构造。因此，图案光dfl可规则地排列在区域“a”中。

根据本发明构思的实施方式，具有相对大直径的输入光il可转换为多个图案光dfl，而图案光dfl中的每个具有相对小的直径。图案光dfl可具有约1μm或更小的第一直径di。

图6是示出根据本发明构思的实施方式的目标物体的透视图，并且图7是沿图6的线i-i'截取的剖面图。

参照图6和图7，根据本发明构思的实施方式的目标物体10可为矩形衬底结构，而其短边平行于第一方向dr1并且其长边平行于在平面图中与第一方向dr1垂直的第二方向dr2。由第一方向dr1和第二方向dr2限定的平面可平行于台300的顶表面。

目标物体10可为构成显示面板的显示衬底10。详细地，当在平面图中观察时，可在目标物体10中限定显示区域da和非显示区域nda。显示区域da可包括显示图像的多个像素区域pxa。当在平面图中观察时，像素区域pxa可排列成矩阵形状。

如上所述，激光设备1000可用于切割或蚀刻目标物体10的区域。作为示例，激光设备1000可用于蚀刻由显示区域da包围的孔区域ha。虽然图6示出了在显示区域da的在第二方向dr2上的偏心位置处形成的孔区域ha的示例，但是本发明构思不限于孔区域ha的位置。

显示衬底10可包括基础层bsl、电路层crl和像素层pxl。

基础层bsl可限定显示衬底10的背表面。基础层bsl可为其上形成有构成显示衬底10的显示元件和电极的下层。基础层bsl可以衬底的形式提供。

根据本发明构思的实施方式，显示衬底10(即，显示面板)的显示类型可由电路层crl和像素层pxl的结构确定。图7示出了可用于有机发光显示面板的显示衬底10的示例。

电路层crl可布置在基础层bsl上。电路层crl可包括用于驱动有机发光元件oled的多个薄膜晶体管(未示出)和多个信号线(未示出)。

像素层pxl可布置在电路层crl上。像素层pxl可包括多个有机发光元件oled和划定或划分有机发光元件oled的像素限定层pdl。在像素层pxl中，每个有机发光元件oled和连接到有机发光元件oled的电路层crl的至少一个薄膜晶体管(未示出)可限定一个像素。

有机发光元件oled中的每个可包括第一电极el1、发光层oel和第二电极el2。第一电极el1可布置在电路层crl上，并且可电连接到电路层crl的至少一个薄膜晶体管(未示出)。第一电极el1可通过像素限定层pdl暴露。发光层oel可布置在第一电极el1上并且布置在由像素限定层pdl划定的区域中。第二电极el2可覆盖像素限定层pdl和发光层oel。

图8是示出蚀刻处理之后的目标物体的剖面图。

参照图8，激光设备1000可用于蚀刻显示衬底10的与孔区域ha重叠的电路层crl和像素层pxl的至少一部分。

不同于本发明构思的实施方式，在使用具有相对大直径的输出光ol来蚀刻显示衬底10的情况下，可在孔区域ha周围形成相对大的毛刺(未示出)，例如粗糙边缘。在这种情况下，显示区域da可在孔区域ha附近具有不平坦的结构。这可能导致制造显示面板的工艺的后端步骤(例如，将显示衬底10与封装衬底黏合的步骤)的工艺失败。相反，根据本发明构思的实施方式，由于输出光ol包括多个图案光dfl，而多个图案光dfl中的每个具有相对小的直径(例如，参见图5)，因此可以减小在蚀刻工艺期间形成在孔区域ha附近的毛刺的大小。因此，根据本发明构思的实施方式，可以以提升的精度来执行蚀刻工艺，并且可增加目标物体的产量。

图9是示出根据本发明构思的另一实施方式的光学系统的示意图。

为了简明的描述，先前描述的元件可通过相似或相同的附图标记来标识，而不重复对其重复的描述。未单独描述的其它元件可配置成具有与先前描述的实施方式中的那些基本上相同的技术特征。

参照图9，根据本实施方式的激光设备1000-1的光学系统200-1还可包括第二处理部240。

第二处理部240可在光路上布置在第一处理部230后面。

第二处理部240可改变通过分光dlb1至dlb3的部分重叠而形成的输出光ol的形状和大小。作为示例，第二处理部240可以是或者可包括在光路上形成有针孔ph的衬底形结构。

详细地，第二处理部240的针孔ph可形成为仅允许输出光ol的截面区域(特别是，与分光dlb1至dlb3中的全部重叠的(例如，图4的)区域“a”)的一部分穿过。换言之，输出光ol的与分光dlb1至dlb3不重叠或仅与两个分光重叠的区域可被第二处理部240吸收。

本发明构思不限于针孔ph的特定形状。

在本实施方式中，由于入射到目标物体10上的输出光ol仅包括具有小直径的图案光dfl，因此可提升工艺精度。

图10是示出根据本发明构思的又一实施方式的光学系统的示意图，并且图11是示出穿过图10的光学系统的光的光路的图。

为了简明的描述，先前描述的元件可通过相似或相同的附图标记来标识，而不重复对其重复的描述。未单独描述的其它元件可配置成具有与先前描述的实施方式中的那些基本上相同的技术特征。

参照图10和图11，根据本实施方式的激光设备1000-2的光学系统200-2可包括多个分束器pbs1和pbs2、多个镜m1至m4和多个相位延迟器pr1和pr2。

在本实施方式中，输入光il可为线性偏振光。作为示例，输入光il可为固体激光。输入光il可包括p偏振光和s偏振光。虽未示出，但是在输入光il为非偏振光的情况下，光学系统200-2还可包括布置在光路的最前部的偏振调制器(未示出)。作为示例，偏振调制器可为线性偏振器。

在本实施方式中，分束器pbs1和pbs2中的每个可为偏振分束器。分束器pbs1和pbs2中的每个可根据入射光的偏振状态透射或反射入射光，并且其结果，入射光可被划分为多个光。

详细地，第一分束器pbs1可布置在光学系统200-2的最前部。第一分束器pbs1可将由激光发生器100生成并沿着第一路径lp1入射到其上的光划分成沿着与x方向平行的第二路径lp2以及沿着与y方向平行并且与x方向垂直的第三路径lp3传播的光dl1和dl2。

第一镜m1可布置在第三路径lp3上。第一镜m1可将由第一分束器pbs1反射以沿着第三路径lp3传播的光dl2朝向第一分束器pbs1反射。朝向第一分束器pbs1反射的光dl2可穿过第一分束器pbs1并且可沿着与y方向平行的第四路径lp4传播。第四路径lp4可通过第一分束器pbs1连接到第三路径lp3。

第二镜m2可布置成在y方向上面对第一镜m1，而第一分束器pbs1介于其间。第二镜m2可将穿过第一分束器pbs1并沿着第四路径lp4传播的光dl2朝向第一分束器pbs1反射。朝向第一分束器pbs1提供的光dl2可被反射以沿着第二路径lp2传播。

第二分束器pbs2可在第二路径lp2上布置在第一分束器pbs1后面。第二分束器pbs2可将沿着第二路径lp2入射到其上的光划分成沿着与x方向平行的第五路径lp5以及沿着与y方向平行的第六路径lp6传播的光dl1、dl2、dl3和dl4。

第三镜m3可布置在第六路径lp6上。第三镜m3可将由第二分束器pbs2反射以沿着第六路径lp6传播的光dl3和dl4朝向第二分束器pbs2反射。朝向第二分束器pbs2反射的光dl3和dl4可穿过第二分束器pbs2并且可沿着与y方向平行的第七路径lp7传播。第七路径lp7可通过第二分束器pbs2连接到第六路径lp6。

第四镜m4可布置成在y方向上面对第三镜m3，而第二分束器pbs2介于其间。第四镜m4可将穿过第二分束器pbs2并沿着第七路径lp7传播的光dl3和dl4朝向第二分束器pbs2反射。朝向第二分束器pbs2提供的光dl3和dl4可被反射以朝向台300传播。

相位延迟器pr1和pr2可包括第一相位延迟器pr1和第二相位延迟器pr2。第一相位延迟器pr1可布置在第一分束器pbs1与第一镜m1之间并且在第三路径lp3上。第二相位延迟器pr2可布置在第二分束器pbs2与第三镜m3之间并且在第六路径lp6上。

第一相位延迟器pr1和第二相位延迟器pr2中的每个可延迟入射光的分量。作为示例，第一相位延迟器pr1和第二相位延迟器pr2中的每个可为将入射光的分量延迟λ/4的四分之一波片，其中λ是入射光的波长。

详细地，沿着第一路径lp1传播的输入光il可被第一分束器pbs1划分成沿着第二路径lp2传播的第一分光dl1和沿着第三路径lp3传播的第二分光dl2。

沿着第二路径lp2传播的第一分光dl1的一部分可穿过第二分束器pbs2并且可沿着第五路径lp5传播。

沿着第三路径lp3传播的第二分光dl2可被第一镜m1反射，可再次穿过第一分束器pbs1，可沿着第四路径lp4传播，且然后可被第二镜m2反射。

虽未在图中示出，但是第二分光dl2可被第一镜m1和第二镜m2反射若干次。换言之，第二分光dl2可穿过第一分束器pbs1若干次。由于第二分光dl2经过第三路径lp3，因此第二分光dl2的分量的相位可被第一相位延迟器pr1延迟若干次。

反射若干次的第二分光dl2可被第一分束器pbs1反射并且可沿着第二路径lp2传播。

尽管如上所述，第二分光dl2可被划分成多个子光多次，但是为了图示的便利，第二分光dl2在图11中示出为经过第三路径lp3和第四路径lp4中的每个(例如，见图10)仅一次。

沿着第二路径lp2传播的第二分光dl2的一部分可穿过第二分束器pbs2并且可沿着第五路径lp5传播。

第五路径lp5上的第二分光dl2的相位可与第一分光dl1的相位不同。

未穿过第二分束器pbs2的第一分光dl1的剩余部分可被第二分束器pbs2反射以沿着第六路径lp6传播。沿着第六路径lp6传播的该光将被称为第三分光dl3。

沿着第六路径lp6传播的第三分光dl3可再次被第三镜m3反射，可穿过第二分束器pbs2，可沿着第七路径lp7传播，且然后可被第四镜m4反射。

虽未在图中示出，但是第三分光dl3可被第三镜m3和第四镜m4反射若干次。换言之，第三分光dl3可穿过第二分束器pbs2若干次。由于第三分光dl3经过第六路径lp6，因此第三分光dl3的分量的相位可被第二相位延迟器pr2延迟若干次。

反射若干次的第三分光dl3可被第二分束器pbs2反射并且可沿着第五路径lp5传播。

尽管如上所述，为了描述的便利，第三分光dl3可被划分成多个子光多次，但是为了图示的便利，第三分光dl3在图11中示出为经过第六路径lp6和第七路径lp7(例如，参见图10)中的每个仅一次。

第五路径lp5上的第三分光dl3的相位可与第一分光dl1和第二分光dl2的相位不同。

未穿过第二分束器pbs2的第二分光dl2的剩余部分可被第二分束器pbs2反射以沿着第六路径lp6传播。沿着第六路径lp6传播的该光将被称为第四分光dl4。

沿着第六路径lp6传播的第四分光dl4可再次被第三镜m3反射，可穿过第二分束器pbs2，可沿着第七路径lp7传播，且然后可被第四镜m4反射。

虽未在图中示出，但是第四分光dl4可被第三镜m3和第四镜m4反射若干次。换言之，第四分光dl4可穿过第二分束器pbs2若干次。由于第四分光dl4经过第六路径lp6，因此第四分光dl4的分量的相位可被第二相位延迟器pr2延迟若干次。

反射若干次的第四分光dl4可被第二分束器pbs2反射并且可沿着第五路径lp5传播。

尽管如上所述，为了描述的便利，第四分光dl4可被划分成多个子光多次，但是为了图示的便利，第四分光dl4在图11中示出为经过第六路径lp6和第七路径lp7(例如，参见图10)中的每个仅一次。

第五路径lp5上的第四分光dl4的相位可与第一分光dl1、第二分光dl2和第三分光dl3的相位不同。换言之，第五路径lp5上的第一分光dl1至第四分光dl4可具有相位彼此不同的分量。

图12是图11的输出光的剖面图。

进一步参照图12，第一分光dl1至第四分光dl4可在第五路径lp5上彼此混合。被限定为第一分光dl1至第四分光dl4的重叠区域的区域“a”的面积可大于先前实施方式中的区域“a”的面积。

详细地，区域“a”可包括区域“a1”和区域“a2”。区域a1可表示三个或更多个分光彼此重叠的区域，并且区域a2可表示四个或更多个分光彼此重叠的区域。

在本实施方式中，由于分光dl1至dl4以平行方式传播而没有在分束器pbs1和pbs2与镜m1至m4之间发生折射，因此分光dl1至dl4的传播路径可在构件pbs1、pbs2与m1至m4之间相同。当在光束的截面中观察时，这可以导致分光dl1至dl4的重叠区域的增加。因此，与先前实施方式相比，可提升工艺精度。

图13是示出根据本发明构思的又一实施方式的光学系统的示意图。

为了简明的描述，先前描述的元件可通过相似或相同的附图标记来标识，而不重复对其重复的描述。未单独描述的其它元件可配置成具有与先前描述的实施方式中的那些基本上相同的技术特征。

参照图13，根据本实施方式的光学系统200-3还可包括第三相位延迟器pr3和第四相位延迟器pr4。第三相位延迟器pr3可在第四路径lp4上布置在第一分束器pbs1与第二镜m2之间。第四相位延迟器pr4可在第七路径lp7上布置在第二分束器pbs2与第四镜m4之间。

第三相位延迟器pr3和第四相位延迟器pr4中的每个可具有折射率各向异性。第三相位延迟器pr3和第四相位延迟器pr4中的每个可延迟入射光的分量。作为示例，第三相位延迟器pr3和第四相位延迟器pr4中的每个可为将入射光的分量延迟λ/4的四分之一波片，其中λ是入射光的波长。然而，本发明构思不限于第三相位延迟器pr3和第四相位延迟器pr4的种类。

图14是示出根据本发明构思的实施方式的蚀刻显示衬底的方法的流程图。

根据本发明构思的实施方式的衬底蚀刻方法可包括：(在s1中)准备与目标物体10对应的目标衬底；(在s2中)将输入光il划分成多个分光dl；(在s3中)在分光dl之间产生相位差；(在s4中)将相位彼此不同的分光dl进行混合，以形成包括多个图案光dfl(例如，参见图5)的输出光ol；(在s5中)用输出光ol蚀刻目标衬底(例如，显示衬底10)的至少一部分。

根据本发明构思的实施方式，能够实现高精度激光设备。

虽然已对本发明构思的示例性实施方式进行了具体示出和描述，但是本领域普通技术人员将理解，在不背离随附的权利要求书的精神和范围的情况下，可在形式和细节上进行改变。