技术特征：
1.一种微位移光学刻度平台，其特征在于，包括主基座和设置在主基座上的机械单元和光学单元，所述机械单元包括：间隔顺序设置的电机基座、带中心孔的第一轴承座和第二轴承座，电机基座上设有与控制器连接的步进电机，联轴器两端以开口槽绞紧螺纹的方式一端连接步进电机，另一端连接外壁设有外螺纹的滚珠丝杆，所述第一轴承座与第二轴承座向背的面分别设有由外向内凹陷呈圆形的开口槽，第一轴承和第二轴承分别置于第一轴承座与第二轴承座的开口槽内，第一轴承座与第二轴承座的开口槽的外端面上分别设有法兰盘和法兰盖，滚珠丝杆的不与联轴器铰接的一端顺序穿过法兰盘、第一轴承座和第二轴承座的中心孔并止于法兰盖，微平移台以螺纹方式套接在位于第一轴承座与第二轴承座之间的滚珠丝杆上，微平移台的底部设有固定在主基座上提供支撑的滑块，滑块外侧旁边的主基座上设有间隔设置的第一定位光耦和第二定位光耦，第一定位光耦和第二定位光耦分别与固定在滑块上的第一遮光板和第二遮光板连接，在微平移台上不与第一定位光耦和第二定位光耦同侧的面上设有连杆，连杆外端设有反射镜，反射镜随微平移台步进移动；所述光学单元位于反射镜的同侧，包括嵌在主基座凹槽内且靠近反射镜的半导体激光器，所述半导体激光器上的激光发射口与准直仪连通，准直仪位于半导体激光器和反射镜之间，聚焦透镜安装基座固定于主基座上且位于反射镜的旁边，聚焦透镜通过胶结方式固定在聚焦透镜安装基座上，激光发射口、准直仪，反射镜和聚焦透镜的中心在同一水平面上。2.根据权利要求1所述的一种微位移光学刻度平台，其特征在于，所述微平移台的总位移范围为0
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10mm，并由第一定位光耦和第二定位光耦分别提供起点和终点位置信号。3.根据权利要求1所述的一种微位移光学刻度平台，其特征在于，所述步进电机为四线二相步进电机，控制方法采用细分驱动方式实现步距为0.01mm的输出，进而带动微平移台上反射镜移动步距为0.01mm的移动。4.根据权利要求1所述的一种微位移光学刻度平台，其特征在于，所述反射镜呈圆形状。5.根据权利要求1所述的一种微位移光学刻度平台，其特征在于，所述聚焦透镜为呈直椭圆状的镜体，且聚焦透镜长轴大于反射镜的运动行程、短轴大于圆形反射镜的直径。