1.一种激光处理设备，其特征在于，所述激光处理设备包括上料输送部、上料搬运机构、激光处理部、下料搬运机构及下料输送部，其中：
2.如权利要求1所述的激光处理设备，其特征在于，所述上料输送部包括上料输送线、pl检测机构及第一ng片剔除机构，其中：
3.如权利要求1所述的激光处理设备，其特征在于，所述激光处理部包括输送线、顶升输送机构、正面上电机构、相机及激光扫描机构，其中：
4.如权利要求3所述的激光处理设备，其特征在于：
5.如权利要求4所述的激光处理设备，其特征在于，所述顶升输送机构包括中间顶升输送部及设置在所述中间顶升输送部边侧的侧边顶升输送部，所述中间顶升输送部和所述侧边顶升输送部被配置为交替地从所述第一分支输送线和所述第二分支输送线上顶升两片电池，以及交替地将顶升出的两片电池片输送至所述激光处理工位。
6.如权利要求5所述的激光处理设备，其特征在于，所述中间顶升输送部包括中间平移模组、中间升降模组、第一承载台和第二承载台，其中：
7.如权利要求6所述的激光处理设备，其特征在于，所述侧边顶升输送部包括设置在所述中间平移模组第一侧的第一侧边顶升输送部，及设置在所述中间平移模组第二侧的第二侧边顶升输送部，其中：
8.如权利要求7所述的激光处理设备，其特征在于，所述第一承载台、所述第二承载台、所述第三承载台及所述第四承载台的结构相同，所述第一承载台包括基板、吸附板及上电承载片，其中：
9.如权利要求4所述的激光处理设备，其特征在于：
10.如权利要求9所述的激光处理设备，其特征在于：每组所述正面上电机构均包括升降驱动机构、安装支架、第一端上电排和第二端上电排，其中：
11.如权利要求10所述的激光处理设备，其特征在于，所述第一端上电排和第二端上电排的结构相同，所述第一端上电排包括若干并排设置的弹性压针组件；
12.如权利要求4所述的激光处理设备，其特征在于，所述上料搬运机构包括上料旋转驱动部、第一上料摆臂及第二上料摆臂，其中：
13.如权利要求4所述的激光处理设备，其特征在于，所述下料搬运机构包括下料旋转驱动部、第一下料摆臂及第二下料摆臂，其中：
14.如权利要求1所述的激光处理设备，其特征在于，所述激光处理设备还包括设置在所述下料输送部边侧第二ng片剔除机构，所述第二ng片剔除机构用于将处理不合格的电池片从所述下料输送部上剔除。