专利名称：用于环行抛光机的校正板的制作方法
技术领域：
本发明涉及光学抛光设备，特别是一种用于环行抛光机的校正板。
背景技术：
已知的环行光学抛光(如专利号99109433.6)是在大理石台面上附上沥青和松香等混合物的抛光盘，在抛光盘上相对固定有工作环和校正板，在工作环内放入被抛光的工件，加入抛光液，由驱动机构带动大理石台面使抛光盘转动，由于工作环和校正板由支撑轮把持，只能在相对固定的位置上作被动转动，工作环内的工件由于工作环的把持在工作环内被动转动。通过工件和抛光盘的相对运动以及工件自重产生的压力使工件和抛光盘之间产生摩擦，在抛光液的作用下使工件被抛光表面材料产生去除，达到抛光的目的。
在已知的如图1和图2所示的环行抛光机部分示意图中，抛光盘1粘结到大理石台面8上，上面放置两个工作环5和一个校正板2，工作环5和校正板2由框架7上固定的支架3上的滚轮4支撑。工件6放置在抛光盘1上的工作环5内。大理石台面8的主轴801由驱动机构驱动。大理石台面8带动抛光盘1转动。抛光盘1上的工作环5、校正板2和工件6对抛光盘1施加由于自重产生的压力，由抛光盘1的转动产生摩擦力带动工作环5、校正板2和工件6运动。由于工作环5和校正板2由固定的滚轮4支撑，只能在相对固定的位置上转动，工件6由于工作环5的位置不动，也只能在工作环5内进行转动。由于工件6和抛光盘1的相对运动使得工件6被抛光表面与抛光液中的抛光粉相互摩擦以及工件6表面与抛光盘1表面相互作用使工件6表面被不断抛光。
抛光过程中需要根据工件6的被抛表面面形调整校正板2的位置。当工件6的被抛光表面凹下时，需要将校正板2沿径向方向向内推，以使抛光盘1变凹从而将工件6被抛光表面磨平；当工件6表面变凸时，需要将校正板2沿径向方向向外拉，以使抛光盘1变凸从而将工件6被抛光表面磨平。
但在抛光加工过程中，工件6更易变凸而不是变凹，校正板2在可调范围内完全拉出也不能使工件6被抛光表面磨平。
发明内容
本发明的目的提供一种用于环行抛光机的校正板，该校正板应不但能调整抛光盘面形，而且能更好的控制抛光盘的面形，获得想要的抛光面面形，使工件被抛光表面更容易被磨平。
本发明的技术解决方案是一种用于环行抛光机的校正板，该校正板由上盘和下盘以及处于上盘和下盘之间的空腔内的多个位移调节件固定在一起而构成，在所述的上盘上还结合一中心具有凸形轴套的轴套板，该轴套板的凸起中心位置通过推力轴承套设一调压轴，该调压轴固定在一可在桁架上移动的溜板上。
所述的位移调节件由调节螺栓、锁紧螺母和支撑垫片三部分组成，所述的调节螺栓的尾端具有旋转手柄，或调节螺栓的尾端具有可供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽，或调节螺栓的尾端既有旋转手柄手柄，又有供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽。
所述的位移调节件也可以只由调节螺栓和锁紧螺母两部分组成，但该调节螺栓底端应倒角或制成球冠形状，所述的调节螺栓的尾端具有旋转手柄，或调节螺栓的尾端具有可供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽，或调节螺栓的尾端既有旋转手柄手柄，又有供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽。
所述的多个位移调节件在所述的轴套板上中心对称地成环带分布，在所述的轴套板和上盘上对应于所述的位移调节件的位置开有螺纹孔，供所述位移调节件的调节螺栓装设。
所述的上盘下底面的中心装有支撑垫片，该支撑垫片与下盘接触的一面为平面。
所述的轴套板上表面有均匀对称分布的多根加强筋。
该校正板通过位移调节件控制下盘表面的面形。在抛光过程中，校正板表面与抛光盘表面在相互运动过程中相吻合，这样的抛光盘面形与工件在相互运动过程中相吻合，从而影响到工件被抛光表面面形。由于校正盘面形可以通过位移调节件量化控制，因此抛光面的面形控制等效于校正板的推进或拉出。而且由于位移调节件可以量化控制，因此校正板的面形可以更容易控制到所需的面形，工件更容易获得要求的平整表面。
本发明的有益效果通过控制校正板内的位移调节件调节下盘表面的面形即校正板的面形以改变抛光盘面形，从而可以控制抛光工件的面形，经试用表明本发明校正板可有效控制工件面形精度并提高抛光效率。
图1是现有环行抛光机的部分俯视示意图。
图2是图1的A-A剖视示意图。
图3是本发明校正板及其在环行抛光机上的关系示意图。
图4是本发明校正板一个实施例的结构示意图。
图5是安装板的俯视图。
图6是位移调节件的放大示意图。
具体实施例方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明，但不应以此限制本发明的变化范围。
先请参阅图3和图4，图3是本发明校正板及其在环行抛光机上的关系示意图。图4是本发明校正板一个实施例的结构示意图。由图可见本发明用于环行抛光机的校正板，由上盘21和下盘22以及处于上盘21和下盘22之间的空腔内的多个位移调节件16固定在一起而构成，在所述的上盘21上还结合一中心具有凸形轴套的轴套板12，该轴套板12的凸起中心位置通过推力轴承13套设一调压轴11，该调压轴11固定在一可在桁架9上移动的溜板10上。
所述的位移调节件16由调节螺栓1601、锁紧螺母1602和支撑垫片1603三部分组成，所述的调节螺栓1601的尾端具有旋转手柄，或调节螺栓1601的尾端具有可供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽，或调节螺栓1601的尾端既有旋转手柄手柄，又有供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽。
所述的多个位移调节件16在所述的轴套板12上中心对称地成环带分布，在所述的轴套板12和上盘21上对应于所述的位移调节件16位置开有螺纹孔，供所述位移调节件16的调节螺栓1601装设。
该实施例的轴套板12上有对称分布的8根加强筋15。
如图4所示，将推力轴承13的外圈装入带有筋板15的轴套板12，8块筋板15对称分布在轴套板12上，增强轴套板12底面抗变形能力。然后装入调节轴11，调节轴11的轴肩和推力轴承13的内圈相贴合。位移调节件16安装点为对称环带分布，保证校正板面形的每个区域都可以调整。
位移调节件16的结构如图6所示，由调节螺栓1601、锁紧螺母1602和支撑垫片1603组成。调节螺栓1601具有可供手动旋转的手柄，在手柄上开有一字槽可供使用螺丝刀旋转调节。安装时先将锁紧螺母1602装入调节螺栓1601，然后将调节螺栓1601装入轴套板12和上盘21。轴套板12开有螺孔14，其直径比调节螺栓1601的外径稍大上盘21在轴套板12相应的螺孔14位置亦开有螺纹孔，其螺纹孔的螺距和旋向和调节螺栓1601的螺距和旋向相配。将开有和调节螺栓1601的螺距和旋向相配的螺纹孔的支撑垫片1603和调节螺栓1601相固定。位移调节件16的调节通过调节螺栓1601的上升或下降使位移调节件16控制下盘22的面形，调节好后将锁紧螺母1602锁紧。位移调节件16的升降的精度由调节螺栓1601的螺距决定，大螺距精度低，小螺距精度高。
将支撑垫片17装入上盘，可采用螺纹或胶结方式固定，保证支撑垫片17与下盘22接触时的表面为平面。
通过调节校正板2腔内的位移调节件16位移，可以改变与抛光盘1表面接触的校正板2表面的面形2201A。所有的位移调节件16位移都一样时，校正板2的表面面形2201A为平面，如图4所示。位移调节件16增加位移的大小影响到校正板2表面面形的凸起程度。调节位移调节件16减小位移后，在抛光盘1的压力下，校正板2的表面面形会凹下。
将上盘21和下盘22固定，可通过胶结的方式固定。再和轴套板12连接在一起，可采用螺钉固定。然后如图3所示，将调压轴11装入溜板10，将溜板10装入桁架9。调压轴的轴向调节如专利文件92203396.X、92203396.X所述，通过转动传动蜗杆可调节调节轴11的轴向位移。
抛光前先通过调节位移调节件16的调节螺栓1601，将校正板2的下表面2201A调为平面。然后将锁紧螺母1602锁紧。每次需要调节校正板2的面形时先将锁紧螺母1602松开，调节调节螺栓1601后再锁紧。每次将外圈的调节螺栓1601同方向旋转相同的角度可保证外圈所在的环带为平面。同样的将内圈的调节螺栓1601同方向旋转相同的角度可保证内圈所在的环带为平面。
由于校正板2的表面面形可以通过位移调节件16的量化控制，因此可以不需将校正板2沿径向方向推进或拉出，或者调整量很小。由于校正板2的表面2201A对抛光盘1表面施加一定的压力，因此在抛光过程中，与抛光盘1表面相互作用的校正板2表面面形2201A会影响到抛光盘1表面面形的平整度。具体为，当校正板2表面面形为凸面，抛光盘1表面在抛光中与校正板2表面相吻合，从而在转动过程中抛光盘1的整个环带截面面形为凹面；当校正板2表面面形为凹面，抛光盘1的整个环带截面面形为平面。同样的，抛光盘1的面形的平整度也在抛光过程中影响到被抛光工件6面形的平整度。根据工件6表面面形的凸凹形状，通过调整校正板2内的位移调节件16的调节螺栓1601改变校正板的面形2201A以使抛光盘1表面面形改变，促使工件6趋向平整。当工件6的被抛光表面凹下时，控制调节轴11上移使校正板2对抛光盘1的压力减小，同时根据情况可增加调节位移调节件16的调节螺栓1601伸长使抛光盘变凸，这样与其接触的抛光盘1的面形经过校正板的修整逐渐凹下，工件6在自身转动的过程中趋向与和抛光盘1面形吻合，就达到工件的表面面形逐步趋于平整。当工件的表面面形过于平整，变凸时，控制调节轴11下移使校正板2对抛光盘1的压力增大，同时根据情况可增加调节位移调节件16的调节螺栓1601缩短使抛光盘变凹，这样与其接触的抛光盘1的面形经过校正板的修整逐渐凸下，需要时可辅助使校正板2沿径向方向微拉出，工件6被抛光表面在与抛光盘1的逐渐贴合过程中逐渐趋于平整。
校正板2与抛光盘1贴合的紧密程度以及校正板2对抛光盘1施加的载荷通过调整调节轴11的传动蜗杆使相对于溜板10的相对位置发生变化。当调节轴11相对于溜板10的位置向下移动时，校正板2就对抛光盘1施加的载荷增加，贴合的紧密；当调节轴11相对于溜板10的位置向上移动时，校正板2就对抛光盘1施加的载荷减小，贴合的松散。
当溜板10沿桁架9移动时，溜板10通过调节轴11带动校正板2沿抛光盘1径向移动。
很显然，所述的位移调节件16也可由调节螺栓1601和锁紧螺母1602两部分组成，只要该调节螺栓1601底端倒角或制成球冠形状，所述的调节螺栓1601的尾端具有旋转手柄，或调节螺栓1601的尾端具有可供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽，或调节螺栓1601的尾端既有旋转手柄手柄，又有供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽。达到发明的目的是不会有问题的。
经试用表明本发明校正板可有效控制工件面形精度并提高抛光效率。
权利要求
1.一种用于环行抛光机的校正板，其特征是该校正板由上盘(21)和下盘(22)以及处于上盘(21)和下盘(22)之间的空腔内的多个位移调节件(16)固定在一起而构成，在所述的上盘(21)上还结合一中心具有凸形轴套的轴套板(12)，该轴套板(12)的凸起中心位置通过推力轴承(13)套设一调压轴(11)，该调压轴(11)固定在一可在桁架(9)上移动的溜板(10)上。
2.根据权利要求1所述的校正板，其特征在于所述的位移调节件(16)由调节螺栓(1601)、锁紧螺母(1602)和支撑垫片(1603)三部分组成，所述的调节螺栓(1601)的尾端具有旋转手柄，或调节螺栓(1601)的尾端具有可供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽，或调节螺栓(1601)的尾端既有旋转手柄手柄，又有供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽。
3.根据权利要求1所述的校正板，其特征在于所述的位移调节件(16)由调节螺栓(1601)、锁紧螺母(1602)两部分组成，该调节螺栓(1601)底端倒角或制成球冠形状，所述的调节螺栓(1601)的尾端具有旋转手柄，或调节螺栓(1601)的尾端具有可供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽，或调节螺栓(1601)的尾端既有旋转手柄手柄，又有供使用螺丝刀旋转调节的一字槽或十字槽。
4.根据权利要求2或3所述的校正板，其特征在于所述的多个位移调节件(16)在所述的轴套板(12)上中心对称地成环带分布，在所述的轴套板(12)和上盘(21)上对应于所述的位移调节件(16)位置开有螺纹孔，供所述位移调节件(16)的调节螺栓(1601)装设。
5.根据权利要求1所述的校正板，其特征在于所述的上盘(21)下底面的中心装有支撑垫片(17)，该支撑垫片(17)与下盘(22)接触的一面为平面。
6.根据权利要求1所述的校正板，其特征是所述的轴套板(12)上有均匀对称分布的多根加强筋(15)。
全文摘要
一种用于环行抛光机的校正板，该校正板由上盘和下盘以及处于上盘和下盘之间的空腔内的多个位移调节件固定在一起而构成，在所述的上盘上还结合一中心具有凸形轴套的轴套板，该轴套板的凸起中心位置通过推力轴承套设一调压轴，该调压轴固定在一可在桁架上移动的溜板上。经试用表明本发明校正板使工件的被抛光表面平整化过程更容易控制，可有效控制工件面形精度并提高抛光效率。
文档编号B24B29/00GK1970227SQ20061011916
公开日2007年5月30日 申请日期2006年12月5日 优先权日2006年12月5日
发明者樊全堂, 朱健强 申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所