专利名称：用微波等离子体在热塑性容器中沉积内部屏蔽涂料的装置的制作方法
技术领域：
本发明大体上涉及尤其是PET的热塑性塑料容器的制造方法，该容器的 壁设置有屏蔽涂料内层，所述屏蔽涂料由例如碳、硅或其它化合物制成，适于 防止或者减缓分子或离子通过壁的交换。更具体地，本发明涉及一种装置的改进，所述装置用于利用微波等离子体 在由如PET的热塑性塑料制成的容器的内表面上沉积屏蔽涂料，该装置包括 多个容器处理站，每个容器处理站包括处理罩和上塞，所述上塞形成盖并包括 真空泵室，在该真空泵室中，用于密封连接到容器的连接器包括与容器的颈共 轴的管状常规形状的套筒，各个盖还支撑与所述套筒共轴的注射器，适用于在 处理过程中将反应流体注入容器内。
背景技术：
在文献FR 2,872， 148中描述并举例说明了该类型的装置。在容器的处理过程中，在罩内发出微波场，并且该场通过套筒发展到泵室 中。在套筒内以及泵室内传播的微波引起屏蔽材料(碳、硅或其它化合物)的 颗粒在其中形成沉积物，该沉积物污染了套筒和泵室的内壁，乃至泵回路的内 壁。沉积物以相同的方式形成在浸入容器的注射器的外壁上。由于该原因，必须经常清理套筒和注射器以及泵室。为了做该清理，必须 单独拆除套筒和注射器。文献FR2,872,148说明了使得套筒能够安装在罩上并 从那里移去的设置。这些操作是冗长的，必须被重复与装置所具有的处理站一样多的次数，并 且需要装置固定不动，这是昂贵的。而且，这些装置的操作者需要不断提高的生产速度。通过对装置的各种不 同部件或子组件的设计中某些位置的改进，可以无可否认地实现制造速度的提 高。然而，为了获得满意的结果，不能为了使装置的生产速度显著提高而充分 縮短沉积屏蔽材料层的过程的时间，在现有技术的目前状态中，这像是仅通过
显著增加装置的处理站的数目而才能够获得。随之而来的是，与必须清理套筒、 注射器和泵室所引起的限制相关的问题则变得甚至更加尖锐。发明内容本发明的目的本质上在于提出上述问题的一种改进的技术解决方案，以便 尽可能满意地满足装置操作者的期望。为了这个目的，本发明提出了一种在前所述的装置，该装置的特征在于， 从形成站组的多个相邻站的套筒和注射器中选择出的构件被固定在以桥的形 式跨越所述站的盖延伸的单个支持板上。由于这种设置，所述板和由该板支撑的所述站组的站的构件构成能够被作 为一体来操纵的整体组件，由此使得能更快的操作，以将所述构件安装在各个 盖上或者从那里移去它们。由此，即使当装置包括相当大数目的处理站时，为 了更换所述构件的目的而使装置固定不动的过程的时间也可以被显著縮短。在本发明的一个可能的实施例中，所述构件为套筒，并且所述站组的相邻 站的套筒被固定到作为桥跨越所述站的盖延伸的单个套筒支撑板上。在另一个可能的实施例中，该构件为注射器，并且该站组的多个相邻站的 注射器被固定到作为桥跨越所述站的盖延伸的单个注射器支撑板上。然而，在优选的实施例中，站组的多个相邻站的套筒被固定到作为桥跨越 所述站的盖延伸的单个套筒支撑板上，所述站组的多个相邻站的注射器被固定 到作为桥跨越所述站的盖延伸的单个注射器支撑板上，并且注射器支撑板位于 套筒支撑板的顶部。从而，站组的包括套筒和注射器的组件能够在塞中被操作。又在优选的实施方式中，规定每个板在其中心包括适于操纵所述整体组件 的夹持器。具体来说，有利的是，可以使套筒支撑板和注射器支撑板在它们各 自的中心部分在相反的横向方向上相互偏移，并且可以使各个夹持器被并排设 置。该设置使得可以设想使用自动机械自动地处理组件，以提高干预速度，但 可能单独地处理组件。通过恒定地记住操纵的速度和安装/移去操作的自动控制，将每个由板和 被板支撑的套筒或注射器形成的整体组件设计成用于自动与相关联的盖建立 流体连接和/或电连接是有用的。为了避免在安装和移去操作过程中损坏设备，优选地每个板设置有至少一个导向指状部，所述导向指状部与由所述板支持的构件的轴线基本平行并且被 容纳在所述板(分别为套筒支撑板或注射器支撑板)下方的元件(分别为盖或 套筒支撑板)中。具体来说，在同时使用套筒支撑板和注射器支撑板的例子中， 规定套筒支撑板具有至少一个贯穿通道，该贯穿通道适于使位于上方的注射器 支撑板的至少一个导向指状部穿过它。在一个实际的实施方式中，处理站分布在包括多个相邻站的组中，并且每 个板支撑属于站组的各个相邻站的多个构件。实际上，所述装置包括偶数个站， 每个站组包括两个相邻的站，并且每个板支撑属于站组的两个相邻站的两个构 件。在这种情形下，为了结构简化，有利地是将站组的两个相邻站的罩被集中 且并置。本发明的特征较易应用在装置中，其中，对于每个站，形成盖的上塞为固 定的并且被固定到各自的罩上，并且罩的底部能够轴向移动，以使得颈向上放 置的容器能够经由罩底部的插入和取出。本发明的特征将会被非常特别地应用在旋转传送带型的装置，其包括旋转 框架，该旋转框架支撑分布在其周边的所述多个站。
在阅读了以下作为非限定实施例单独给出的特定优选实施方式的详细描 述后，将更清楚地理解本发明。在该描述中，参照了附图，其中图1为根据本发明设计的装置的优选实施方式的部分的正剖视图，该装置 用于利用微波等离子体在热塑性容器的内表面上沉积屏蔽涂料-，图2为图1所示的装置的部分的外部分解示意图；以及图3和图4为根据本发明设计的图1和图2的装置的两个组件的剖视图。
具体实施方式
现在将参照示出装置的一部分的图1 图3，所述装置用于利用微波等离 子体在由如PET的热塑性塑料制成的容器内表面上沉积屏蔽涂料，该装置包 括用于容器的大体上单独处理的多个站。实际上，在意在高速处理容器的工业 性装置中，该装置的形式为支撑围绕其周边分布的多个处理站的旋转传送带。 为了给出特定的例子，一种目前由申请人商业化的该类型的装置设置有二十个
处理站，并且申请人设想使性能极大提高的装置商业化，该装置典型地包括大 约四十个处理站，对于该处理站，更具体倾向于使用根据本发明的规定，尽管 这不是唯一的应用。在图1和图2中，由于简化和清楚的缘故，仅显示装置的那些用于理解本 发明的部件。从而，与本发明的设置一起仅示出了装置的一组相邻处理站，应' 当理解其它组处理站被以相同的方式设置。在所示的实施例中，将假定该装置 包括偶数个处理站并且每组站由两个相邻的站组成，因为目前它就是这种构 造，该构造从结构和功能的观点出发被证明是易于执行的，同时还导致了所需 的功能简化，然而应当理解本发明的设置可以被极好地转移到包括多于两个的 大量处理站的站组上。每个处理站1实质上包括处理罩2和包括真空泵室(在图中未示出)的盖3，在该真空泵室中用于密封连接到容器5的连接器4包括与容器的颈7共轴 的大体管状形状的套筒6。每个盖3还支撑注射器8，所述注射器8与所述套 筒6共轴，并适用于在处理所述容器的执行过程期间将反应流体注入容器5， 以便在所述容器的内表面上形成屏蔽材料层。处理站1由公共框架来支撑，在具有大量处理站的机器环境下，所述公共 框架为其上环形分布处理站的传送带型的旋转框架。文献FR 2,872,148详细描述并示出/该处理站的设置。然而，应当指出，在所述文献中描述并示出的工作站以申请人设计和至今 生产的机器中常规的方式设置，具有能够相对于罩在该罩上移动的盖，以使得 容器能够在处理之前放入罩中，并一旦处理已经完成能够将其从罩中取出，该 插入和提取经由罩的顶部发生。然而，为了空出容器通道所需的空间，这种结 构需要盖和所有其支撑的设备(特别是，套筒、注射器和它们的支撑构件)以 及特别是用于连接各种流体源(真空、反应气体等)的柔性管，必须在机器的 上部经历较大的运动。这些柔性管的重复变形需要持久的监控和维护，以避免 在机器操作期间的意外事件。此外，为了便于接近需要常规维护或替换的构件， 盖和支持构件的结构会是复杂的，具有枢轴部件、锁具、密封构件等。为了克服这些缺陷，附图的图l和2示出的工作站被设置成不同的排布， 其中，盖3被设计为以以下方式固定到罩2上的固定上塞的形式，所述方式为 由所述塞支持的构件不经历运动，管在许多情形下可以被在塞中加工出的通道
所替代，并且设置余下的管(例如，用于将注射器8连接到塞的管9)仅是为 了使得在稍后解释的情形T去除和安装注射器更容易，并且在操作机器的过程 中不再经历重复的变形。这种设置使得容器能利用能够垂直移动的底部10从罩的下方插入或取出 (在图1中，工作站1被示出处于装载/卸载容器5的位置，底部10被放低)。 装置的其它部分既不结构性地也不功能性地与发明的特征直接相关，并且将不 被描述，尽管在图1和2中它们中的一些是可见到的。现在将不仅参照图1和2，而且参照较大比例的图3和4解释根据本发明 的特征。构成一组处理站的两个相邻的站1的套筒6被固定到作为桥跨越所述站的 盖3延伸的单个套筒支撑板15上。从而，套筒支撑板15和固定到其上的两个 套筒6构成整体组件16，所述整体组件16能够被作为一体来操纵，以将所述 套筒6安装在各自的盖上或者将它们从那里移去。处理这种组件16所需的时 间被减少到几乎是单独各自处理两个套筒的连续操作所需时间的一半。有利地，所述套筒支撑板15在其中心部分包括例如突出螺栓17的夹持器， 适于操纵整体组件16，尤其是使用夹持臂操纵整体组件16。还有利地，导向和选择性极化器与套筒支撑板15和盖3相关联。在所示 的示例性实施例中，套筒支撑板15设置有至少一个基本平行于套筒6的轴线 的导向指状部18，而相应的盖3设置有至少一个适用于容纳所述导向指状部 18的各自的导向座19。在这个例子中，两个指状部18被分开一定距离地设置 在板15上，两个各自的导向座19被设置在盖3中。对于注射器8可以提供类似的设置。构成一组处理站的两个相邻站1的注 射器8被固定到作为桥跨越所述站的盖3延伸的单个注射器支撑板20上。从 而，注射器支撑板20和固定在其上的两个注射器8构成整体组件21，该整体 组件能够被作为一体操纵，以将所述注射器8安装在各自的盖3上或者将它们 从那里移去。如在套筒6的情形下，用于处理该组件21所需的时间被减少到 几乎是单独各自处理两个注射器8的连续操作所需时间的一半。有利地，注射器支撑板20在其中心部分包括如突出螺栓22的夹持器，适 用于操纵整体组件21，尤其是使用夹持臂操纵整体组件21。还有利地，与上述的那些用于套筒支撑板的类似的导向和选择性极化器可
以与注射器支撑板20相关联。实际上，套筒6和注射器8同时存在于站1中。因此，必须重叠两个整体 组件16、 21。具有套筒6的组件16被放置在与盖3接触的下方，而具有注射 器8的组件21被放置在组件16的顶部，注射器8共轴地嵌合在套筒6中。从而优选地，如示出的示例性实施例所示的，与注射器支撑板20相关联 的导向和选择性极化器可以被设置为注射器支撑板20设置有基本平行于注 射器8的轴线的至少一个导向指状部23，而相应的下方套筒支撑板15设置有 适于容纳所述导向指状部23的至少一个各自的导向座25(例如，如所示出的， 被限定在套筒支撑板上设置的导向环24中)。在这个例子中，两个指状部23 被分开一定距离设置在板20上，而两个导向环24被各自设置在套筒支撑板 15中。在盖3中形成有两个孔24，这些孔被用于让套筒支撑板15的导向环 24穿过它们。此外，如图2中可看出的，在它们各自的中心部分中，套筒支撑板15和 注射器支撑板20在相对的横向方向上相互偏移，并且各自的夹持器17、 22 被并排设置。有利地，当在套筒支撑板15上放置注射器支撑板20时，用于夹持套筒支 撑板15的夹持器17使得包括两个板，即注射器支撑板和套筒支撑板，的组件 能够被作为一体处理。最后，如在图1中可见的，每个整体组件16、 21被设计成用于与相关联 的盖3自动建立必需的流体连接和/或电连接，例如用于供给注射器8(经由为 了使其更易于从注射器拆除的目设置成柔性的管9)的连接26(在图2中可见)。如图1和图2中所清楚示出的，为了使结构尽可能简单并且为了减小套筒 支撑板i5和注射器支撑板20的尺寸， 一组站的两个相邻站1的罩3可以有利 地尽可能地彼此接近并且并置。由于刚才已解释的根据本发明的规定，简化并特别是加速了用于更换套筒 6和注射器8的步骤。此外，由于对整体组件16、 21给出的构造，安装和移 去整体组件的这些操作可以被自动化，从而可能设想用于完全自动化的维护套 筒6和注射器8的工艺。上述详细的描述考虑了更具体地实际情形，所述实际情形包括提供偶数 个处理站l，两个相邻的站一组地结合处理站，以及确保每个板15、 20支持
属于一组站的两个各自的相邻处理站的两个构件(套筒6;注射器8)。然而， 应当理解当处理站被分布在包括任何数目的相邻处理站的组中时，本发明的规 定可以是可行的，这时每个板支撑属于一组站的各自的相邻站的多个构件。
权利要求
1、用于利用微波等离子体在由热塑性塑料制成的容器(5)的内壁上沉积屏蔽涂料的装置，该装置包括多个容器处理站(1)，每个容器处理站(1)包括处理罩(2)和形成盖(3)并包括真空泵室的上塞，在所述真空泵室中，用于密封连接到容器(5)的连接器(4)包括与容器(5)的颈(7)共轴的大体管状形状的套筒(6)，每个盖(3)还支撑与所述套筒(6)共轴的并适用于在处理期间将反应流体注入容器(5)中的注射器(8)，其特征在于，形成站组的多个相邻站的选自套筒(6)和注射器(8)中的构件被固定到以桥的形式跨越所述站(1)的盖(3)延伸的单个支撑板(15，20)上，由此所述板(15，20)和由所述板支撑的所述站组的站(1)的构件(6，8)构成整体组件(16，21)，该整体组件(16，21)能够作为一体被操纵，以将所述构件(6，8)安装到各自的板(3)上或者从那里移去它们。
2、 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述构件为套筒(6)，并 且所述站组的相邻站(1)的套筒(6)被固定到作为桥跨越所述站的盖(3) 延伸的单个套筒支撑板(15)上。
3、 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述构件为注射器(8)， 并且所述站组的相邻站(1)的注射器(8)被固定到作为桥跨越所述站的盖(3) 延伸的注射器支撑板(20)上。
4、 根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述构件为注射器(8)，并且所述站组的相邻站(1)的注射器(8)被固 定到作为桥跨越所述站的盖(3)延伸的单个注射器支撑板(20)上；所述站组的相邻站(1)的套筒(6)被固定到作为桥跨越所述站的盖(3) 延伸的单个套筒支撑板(15)上；所述站组的相邻站(1)的注射器(8)被固定到作为桥跨越所述站的盖(3) 延^J的单个注射器支撑板(20)上；以及所述注射器支撑板(20)位于套筒支撑板(15)的顶部上。
5、 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，每个板(15， 20)在其中 心部分包括适用于操纵整体组件(16， 21)的夹持器(17， 22)。
6、 根据权利要求4所述的装置，其特征在于，每个板(15， 20)在其中心部分包括适用于操纵整体组件(16， 21)的夹持器(17， 22);在它们各自的中心部分，套筒支撑板(15)和注射器支撑板(20)在相对的横向方向上相 互偏移；各自的夹持器(17， 22)并排设置；并且，用于夹持位于下方的套筒 支撑板(15)的夹持器(17)使得包括两个板，即套筒支撑板(15)和注射器 支撑板(20)的组件能够被作为一体来处理。
7、 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，每个整体组件(16， 21) 被设计为用于与相关联的盖(3)自动建立流体的和/或电的连接(26)。
8、 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，每个板(15， 20)设置有 至少一个导向指状部(18， 23)，所述至少一个导向指状部(18， 23)与由所 述板支撑的构件(6， 8)的轴线平行并且被容纳在所述板下方的元件中。
9、 根据权利要求4所述的装置，其特征在于，每个板(15， 20)设置有 至少一个导向指状部(18， 23)，所述至少一个导向指状部(18， 23)与由所 述板支撑的构件(6， 8)的轴线平行并且被容纳在所述板下方的元件中；并且， 位于下方的套筒支撑板(15)设置有至少一个贯通座(25)，该至少贯通座(25) 适于使位于上方的注射器支撑板(20)的至少一个导向指状部(23)穿过它。
10、 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述处理站被分布在包括 多个相邻站(1)的组中，并且每个板(15， 20)支撑属于站组的各个相邻站(1) 的多个构件(6， 8)。
11、 根据权利要求IO所述的装置，其特征在于，其包括偶数个站(1)， 每个站组包括两个相邻的站(1)，并且每个板(15， 20)支撑属于站组的两个 各自的相邻站(1)的多个构件(6， 8)。
12、 根据权利要求11所述的装置，其特征在于，站组的两个相邻站的罩(2) 被集中且并置。
13、 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，对于每个站(1)，形成盖(3) 的上塞为固定的，并被固定到各自的罩(2)上；并且罩(2)的底部(10) 能够轴向移动，以使得颈向上放置的容器(5)能够经由罩底部插入和取出。
14、 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，其为旋转传送带型，并且 包括支撑分布在其周边上的所述多个站(1)的旋转框架。
全文摘要
一种用于利用微波等离子体在由热塑性塑料制成的容器(5)的内壁上沉积屏蔽涂料的装置，该装置包括多个容器处理站(1)，每个容器处理站(1)包括处理罩(2)和形成盖(3)并包括真空泵室的上塞，在真空泵室中，用于密封连接到容器(5)的连接器(4)包括与容器(5)的颈(7)共轴的大体管状形状的套筒(6)，每个盖(3)还支撑与套筒(6)共轴并适于在处理期间将反应流体注入容器(5)中的注射器(8)，其中，形成站组的多个相邻站的选自套筒(6)和注射器(8)中的构件被固定到以桥的形式跨越站(1)的盖(3)延伸的单个支撑板(15，20)上，由此板(15，20)和由板支持的站组的站(1)的构件(6，8)构成能够作为一体被操纵的整体组件(16，21)。
文档编号C23C16/511GK101161859SQ20071016370
公开日2008年4月16日 申请日期2007年10月11日 优先权日2006年10月11日
发明者伊维斯·厄本·杜克拉斯, 达米恩·西瑞特 申请人:西得乐公司