专利名称：分流器的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种分流器，尤其涉及一种应用于真空溅镀设备的分流器。
背景技术：
一般金属镀膜大都采用真空溅镀设备进行溅镀，基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将Il气(Ar)离子撞击祀材(target)表面，电衆中的阳离子加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，使靶材的物质飞出而沉积在工件上形成薄膜。真空溅镀形成的薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，因此得到广泛应用。因为气体难以在真空室内完全均匀，只能局部相对均匀，所以存在一个镀膜有效区。在这个镀膜有效区以外的空间形成的薄膜质量就达不到要求。但是，现有的真空溅镀设备的镀膜有效区较小，一次难 以溅镀较多的工件。
发明内容
针对上述问题，有必要提供可以扩大镀膜有效区的分流器。一种分流器，应用于真空溅镀设备，其包括机体和设于机体的金属罩；该机体开设抽气口，该金属罩将该抽气口罩住；该金属罩开设若干通孔让气体通过；该金属罩上间隔设置若干挡板，这些挡板遮挡部分所述通孔，以调整进入抽气口的气体。上述分流器通过在带孔的金属罩上间隔设置挡板，从而调整气流的均匀分布，有效扩大了镀膜有效区域，方便一次对多个工件进行镀膜。
图I为本发明较佳实施方式分流器的剖视示意 图2为图I所示的金属罩的立体示意 图3为图I所示分流器沿III-III线的剖视图。主要元件符号说明
权利要求
1.一种分流器，应用于真空溅镀设备，其特征在于该分流器包括机体和设于机体的金属罩，该机体开设抽气口，该金属罩将该抽气口罩住；该金属罩开设若干通孔让气体通过；该金属罩上间隔设置若干挡板，这些挡板遮挡部分所述通孔，以调整进入抽气口的气体。
2.如权利要求I所述的分流器，其特征在于该金属罩设有调节机构，该挡板通过该调节机构调整在该金属罩的位置。
3.如权利要求2所述的分流器，其特征在于该通孔的直径范围为0.5_-50_，孔中心距范围为2mm-50mm。
4.如权利要求3所述的分流器，其特征在于该金属罩的宽度比抽气口宽10mm-300mm，金属罩的厚度范围为0. 5mm-10mm。
5.如权利要求I至4任一项所述的分流器，其特征在于该机体围成一容置腔，该容置 腔内设置转架。
6.如权利要求5所述的分流器，其特征在于该容置腔在该机体与转架之间设置进气管，该进气管间隔开设若干针孔。
7.如权利要求6所述的分流器，其特征在于该转架包括间隔设置的竖杆，每根竖杆上设有若干支架。
8.如权利要求5所述的分流器，其特征在于该转架由导电性材料制成，该转架与电源连接，形成负电压。
9.如权利要求I所述的分流器，其特征在于该机体位于金属罩二侧设有靶材。
全文摘要
本发明关于一种分流器，应用于真空溅镀设备，其包括机体和设于机体的金属罩。该机体开设抽气口，该金属罩将该抽气口罩住。该金属罩开设若干通孔让气体通过。该金属罩上间隔设置若干挡板，这些挡板遮挡部分所述通孔，以调整进入抽气口的气体。上述分流器通过在带孔的金属罩上间隔设置挡板，从而调整气流的均匀分布，有效扩大了镀膜有效区域，方便一次对多个工件进行镀膜。
文档编号C23C14/34GK102758185SQ20111011067
公开日2012年10月31日 申请日期2011年4月29日 优先权日2011年4月29日
发明者姜传华, 李旭, 潘海波, 陈甲林, 黄义均 申请人:深圳富泰宏精密工业有限公司