专利名称：气流封隔门阀装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及真空溅镀技术领域，具体涉及一种气流封隔门阀装置。
背景技术：
在电子、通讯、显示器或光电等高科技产业中，针对产品的导电性、磁性、光学特性等特性，均可由镀膜工艺实现各项特性在产业标准上的要求，其应用越发广泛；再者，近年来，真空镀膜工艺更是取代了传统的喷涂油漆或电解电镀的方式而成为重要的镀膜技术， 近年随着镀膜技术的发展，对于溅镀纯净度的要求也越来越高，但是气体是自由扩散的，会将一个真空溅镀室的气体带入另一个溅镀不同膜层的真空溅镀室，进而影响到溅镀的纯净度，降低溅镀质量。
发明内容本实用新型目的在于提供一种气流封隔门阀装置，其能够吸收真空溅镀室内溢出的溅镀气体，提高每一真空溅镀室的溅镀纯净度。为了解决现有技术中的这些问题，本实用新型提供的技术方案是一种气流封隔门阀装置，它包括多个真空溅镀室以及设于真空溅镀室之间的气体分离缓冲腔，所述的气体分离缓冲腔中设有两组气流封，所述的两组气流封并行设置在相邻两真空溅镀室之间。更为详细的技术方案是一种气流封隔门阀装置，它包括多个真空溅镀室以及设于真空溅镀室之间的气体分离缓冲腔，所述的气体分离缓冲腔中设有两组气流封，所述的两组气流封并行设置在相邻两真空溅镀室之间，所述的真空溅镀室的前后侧壁设有闸门， 所述的闸门与闸门气缸相连，所述的气流封固定在气体分离缓冲腔的底座上，所述的气流封的进风口设于所述的闸门下端，所述的气流封与闸门气缸均与外部控制装置相连，所述的外部控制装置用于控制气流封与闸门气缸的工作。相比于现有技术中的解决方案，本实用新型优点是1.本实用新型描述的气流封隔门阀装置，在气体分离缓冲腔中设置气流封，通过气流封吸收真空溅镀室中所溢出的溅镀气体，防止溅镀气体的扩散，而且并行设置的两组气流封进一步提高了吸收效果，保证吸收气体的可靠性和完全性；2.本实用新型中，通过控制装置控制真空溅镀室侧壁上的闸门气缸与气流封，能够提高了资源的有效利用率，而且没必要时刻保持气流封的工作，节约能源。
以下结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述
图1为本实用新型的一种结构示意图；其中1、第一真空溅镀室；2、第二真空溅镀室；3、气体分离缓冲腔4、闸门；5、闸门气缸；6、第一气流封；7、第二气流封。
具体实施方式
以下结合具体实施例对上述方案做进一步说明。应理解，这些实施例是用于说明本发明而不限于限制本发明的范围。实施例中采用的实施条件可以根据具体厂家的条件做进一步调整，未注明的实施条件通常为常规实验中的条件。实施例如
图1所示，本实施例所描述的气流封隔门阀装置，它包括第一真空溅镀室1和第二真空溅镀室2两个真空溅镀室，在第一真空溅镀室1和第二真空溅镀室2之间设有气体分离缓冲腔3，在气体分离缓冲腔3中设有第一气流封6、第二气流封7两组气流封，所述的两组气流封并行设置在相邻两真空溅镀室之间，所述的真空溅镀室的前后侧壁设有间门4， 所述的闸门4与闸门气缸5相连，所述的气流封固定在气体分离缓冲腔3的底座上，所述的气流封的进风口设于所述的闸门4下端，所述的气流封与闸门气缸5均与外部控制装置相连，所述的外部控制装置用于控制气流封与闸门气缸5的工作。当基材由第一真空溅镀室1进入第二真空溅镀室2时，控制装置开启两组气流封， 然后控制装置控制第一真空溅镀室1后侧的闸门气缸5工作打开闸门4，第一气流封6吸收第一真空溅镀室1内溢出的第一溅镀气体，第二气流封7则起到补充吸收的效果，防止气体扩散；当基材完全进入气体分离缓冲腔3，控制装置关闭第一真空溅镀室1后侧的间门4，并且打开第二真空溅镀室2前侧的闸门4，此时第二气流封7吸收第二真空溅镀室2内溢出的第二溅镀气体，第一气流封6则起到补充吸收的效果，尽可能将扩散气体吸收完全；当基材完全进入闸门气缸5后，关闭第二真空溅镀室2前侧的闸门4，然后关闭气流封。如此当基材由真空溅镀室间过渡时，尽可能完全地吸收溅镀气体，进而保证溅镀的纯净度，当出现多个真空溅镀室时，只需在真空溅镀室之间的气体分离缓冲腔中设置如上述的气流封即可提高溅镀纯净度。上述实例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人是能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所做的等效变换或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
权利要求1.一种气流封隔门阀装置，它包括多个真空溅镀室以及设于真空溅镀室之间的气体分离缓冲腔，其特征在于，所述的气体分离缓冲腔中设有两组气流封，所述的两组气流封并行设置在相邻两真空溅镀室之间。
2.根据权利要求1所述的气流封隔门阀装置，其特征在于，所述的真空溅镀室的前后侧壁设有闸门，所述的闸门与闸门气缸相连。
3.根据权利要求2所述的气流封隔门阀装置，其特征在于，所述的气流封固定在气体分离缓冲腔的底座上，所述的气流封的进风口设于所述的闸门下端。
4.根据权利要求1或2或3所述的气流封隔门阀装置，其特征在于，所述的气流封与闸门气缸均与外部控制装置相连，所述的外部控制装置用于控制气流封与间门气缸的工作。
专利摘要本实用新型公开了一种气流封隔门阀装置，它包括多个真空溅镀室以及设于真空溅镀室之间的气体分离缓冲腔，所述的气体分离缓冲腔中设有两组气流封，所述的两组气流封并行设置在相邻两真空溅镀室之间。本实用新型在气体分离缓冲腔中设置气流封，通过气流封吸收真空溅镀室中所溢出的溅镀气体，防止溅镀气体的扩散，而且并行设置的两组气流封进一步提高了吸收效果，保证吸收气体的可靠性和完全性。
文档编号C23C14/34GK202181342SQ201120246090
公开日2012年4月4日 申请日期2011年7月13日 优先权日2011年7月13日
发明者戴明光 申请人:戴明光, 苏州爱迪尔镀膜科技有限公司