专利名称：能束照射系统和工件传输机构的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于照射能束的能束照射系统，诸如离子注入装置或电子束照射装置，并且涉及用于该能束照射系统的工件传输机构。
背景技术：
在专利文献I中公开的单件式离子注入装置中，设有两个晶片驱动机构以使晶片彼此独立地作轨道运动。此外，两个晶片的轨道适于在离子束照射区域中彼此匹配，并且每个晶片的轨道运动速度和轨道运动相位是受控的。这样，两个晶片中的任何一个总是经过离子束照射区域。因此，可以增加离子束在晶片上的照射效率。并且，在专利文献I中，晶片的轨道在包括射束照射区域的直线轨道部分中彼此匹配，并且除该直线轨道部分之外的部分被划分成在该直线轨道部分的两侧上的两个部分。[相关技术文献][专利文献][专利文献I] JP-A-1O-1M76I
发明内容
然而，根据该构造，存在以下问题需要确保两个轨道的足够空间并且因此难以超过一定水平地实现离子注入装置的紧凑性。并且，对于用于将能束照射在工件上的能束照射系统以及离子注入装置，该问题通常是普遍的。为解决上述问题而完成本发明，并且本发明的一个目的在于提供一种能够在将能束有效地照射在工件上的同时实现显著的紧凑构造的能束照射系统。也就是说，根据本发明的能束照射系统包括能束发射机构、第一轨道运动机构和第二轨道运动机构。所述能束发射机构朝预定的照射区域发射能束，以照射作为目标的至少一个第一工件和至少一个第二工件。所述第一轨道运动机构使所述至少一个第一工件沿着预定的第一轨道作轨道运动，所述第一轨道包括所述照射区域。所述第二轨道运动机构使所述至少一个第二工件沿着预定的第二轨道作轨道运动，所述第二轨道包括所述照射区域。当从垂直于由所述第一轨道和所述第二轨道形成的轨道运动表面的方向观看时，由所述第一轨道包围的第一区域和由所述第二轨道包围的第二区域至少部分地重叠。在这里，术语“重叠”不包括由第一轨道包围的第一区域和由第二轨道包围的第二区域彼此接触的状态。作为一个具体实施例，所述第一轨道和所述第二轨道中的每一个包括彼此平行的直线轨道和连接在所述直线轨道的端部之间的半圆形轨道。在所述第一轨道中，一个半圆形轨道具有第一中心，并且另一半圆形轨道具有第二中心。在所述第二轨道中，一个半圆形轨道具有第三中心，并且另一半圆形轨道具有第四中心。当从垂直于所述第一轨道和所述第二轨道的所述轨道运动表面的方向观看时，所述第一轨道的第一中心与所述第二轨道的第三中心彼此匹配，并且所述第一轨道的第二中心与所述第二轨道的第四中心彼此匹配。根据该构造，两个轨道彼此匹配，并且因此能够促进紧凑性。此外，即使两个轨道不是彼此匹配的，两个轨道的半圆形轨道的转动半径也能够彼此近似。因此，能够进一步促进紧凑性。最能促进紧凑性的优选实施例具有第一轨道和第二轨道中的每一个彼此匹配的构造。为增加使用两个轨道的能束的照射效率，优选的是在已进入所述照射区域的所述至少一个第一工件完全经过所述照射区域之前，所述至少一个第二工件进入所述照射区域。在该情况下，当分别沿着第一轨道和第二轨道的轨道运动方向多个并排地布置所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件时，能够将能束更长时间地照射在所述至少一个第一工件或所述至少一个第二工件中的一个工件上。同时，能够使其它工件作轨道运动并移动到在该一个工件的后面的位置。当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均在沿着对应的轨道作轨道运动一次时返回至所述每一个工件的初始旋转角度的该情况下，能够防止配线的扭转或由该扭转导致的断开。除了上面的效果外，为在经过能束的照射区域的背侧时减少能束的影响，所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均具有面向能束照射方向的能束照射侧和所述能束照射侧的背侧，并在从所述照射区域移动至背侧区域期间旋转180度，在所述背侧区域，所述背侧面向所述能束照射方向。并且，所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件在从所述背侧区域移动至所述照射区域期间旋转负180度，使得所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件转动至所述每一个工件的初始旋转角度。
[发明的效果]根据本发明的构造，设有两个轨道运动机构，并且因此能够改善能束的照射效率。此外，因为在两个轨道运动机构中的第一轨道的区域和第二轨道的区域彼此至少部分地重叠，所以不需要与两个轨道的大小对应的尺寸，并且因此能够通过重叠区域而减小尺寸。因此能够实现紧凑的构造。
图1是图示了根据本发明的一个实施例的能束照射系统的示意性透视图。图2是图示了在该一个实施例中的轨道运动机构的前视图。图3是图示了在该一个实施例中的轨道的平面图。图4A、4B和4C是图示了在该一个实施例中晶片的移动的示意性解释图。图5D、5E和5F是图不了在该一个实施例中晶片的移动的不意性解释图。图6是图示了在本发明的另一实施例中的晶片的移动的平面图。图7是图示了在本发明的又一实施例中的在前视图中观看的轨道运动机构和在平面图中观看的轨道的解释图。图8是图示了在本发明的又一实施例中的在前视图中观看的轨道运动机构和在平面图中观看的轨道的解释图。图9是图示了根据本发明的压板的晶片保持方面的示意性平面图。
具体实施例方式在下文中，将参照附图描述根据本发明的能束照射系统。如图1所示，能束照射系统100将作为能束的量子束IB照射在作为工件的晶片W上以在其上注入离子。能束照射系统100包括用于在离子注入室中发射离子束IB的离子束发射机构(未示出)，所述离子注入室设置在真空腔室中；和用于将晶片W传输至离子束IB能够照射的位置的晶片传输机构10。离子束发射机构被构造成例如朝设定在离子注入室中的照射区域P(见图4A至图4C等)发射带状离子束IB。在这里，离子束发射机构是众所周知的并且因此将省略其详细描述。晶片传输机构10包括加载和卸载机构(未示出)、轨道运动机构1、2和输送机构。加载和卸载机构在邻近离子注入室设置的加载锁定腔室(未示出)和设置在离子注入室中的待机位置之间移动晶片。轨道运动机构1、2使晶片Wl (W2)横跨离子束IB的照射区域P的中间作轨道运动。输送机构在加载和卸载机构与轨道运动机构1、2之间输送晶片Wl (W2)。加载和卸载机构与传输机构的构造从例如JP-B-4766156众所周知，因此将省略它们的图示和描 述。在下文中，将详细描述作为本发明的能束照射系统100的具体构造的轨道运动机构1、2。在本实施例中，设有两个轨道运动机构1、2。轨道运动机构1、2中的每一个分别具有支柱11、21 ;从支柱11、21在径向方向上突出的臂部12、22 ;用于绕支柱11、21的轴线转动臂部12、22的转动单元13、23 ;附接到臂部12、22的端部并且平行于支柱11、21的轴线延伸的板状晶片支撑构件14、24 ;和用于在垂直于支柱11、21的方向上线性地将支柱11、21连同臂部12、22和晶片支撑构件14、24 —起移动的线性移动单元15、25。首先，将参照图1和图2详细描述第一轨道运动机构I。第一轨道运动机构I的支柱11形成为从底座16竖直立起的柱形。臂部12形成为从支柱11的端部部分Ilb在径向方向上突出的板状。转动单元13例如是电机，并且具有连接到支柱11的基部部分Ila的驱动轴(未示出)。并且，转动单元被构造成通过绕支柱11的轴线旋转支柱11而转动臂部12。转动单元可以被构造成在不旋转支柱11的情况下直接转动臂部12。晶片支撑构件14 (在下文中也被称作压板)形成为例如近似长板状。晶片支撑构件14例如通过静电卡盘在其表面上支撑多个晶片Wl。晶片支撑构件14以如下方式从臂部12的端部部分悬挂，所述方式使得其纵向方向平行于支柱11的轴线，并且其表面板部分被放置成垂直于臂部12的延伸方向。在本实施例中，因为压板14以可枢转的方式被支撑在臂部12上，所以压板能够在压板14相对于臂部12悬挂的悬挂状态和压板14被放置成平行于臂部12的平行状态之间旋转，如图1等所示。这意图在于在输送机构和晶片支撑构件之间输送晶片。具体地，在传输机构和晶片支撑构件之间传输晶片Wl时，压板14被放置成平行状态，并且在使晶片Wl作轨道运动时，压板14被放置成悬挂状态。例如，线性移动单元15包括螺纹孔151、拧入到螺纹孔151中的螺纹构件152和用于旋转螺纹构件152的致动器153诸如电机。螺纹孔151形成为在垂直于支柱11的方向上贯穿底座16，该底座16在与支柱11的轴线垂直的方向上支撑支柱11的基部部分11a。线性移动单元15被构造成螺纹进给式，其中通过在正反方向上旋转螺纹构件152而沿着螺纹构件152的延伸方向线性地前后移动底座16。线性移动单元15不限于螺纹进给式，而是可以采用各种机构诸如皮带进给式。此外，第一轨道运动机构I包括控制单元(未示出)，该控制单元具有用于控制转动单元13和线性移动单元15的电路。更具体地，控制单元控制在每个单元13、15中设置的电机13、153。控制单元被构造成通过重复地执行四个操作而使晶片Wl作轨道运动并移动，如图3所示。在这里，当从支柱11的轴向方向观看时，所述四个操作包括在一个方向上直线地移动晶片Wl的操作、以180度转动晶片Wl的操作、在反方向上直线地移动晶片Wl的操作以及以负180度转动晶片Wl的操作。如图3所示，当从轴向方向观看时，第一轨道运动机构I的轨道(第一轨道)01是第一轨道运动机构I的压板14做轨道运动而形成的轨道。即，第一轨道运动机构I的轨道(第一轨道)01包括具有相等长度的直·线轨道L11、L12和连接在直线轨道L11、L12的端部之间的半圆形轨道Cll、C12，所述直线轨道Lll、L12平行于彼此。相应地，半圆形轨道Cll具有第一中心并且半圆形轨道C12具有第二中心。更具体地，当直线移位晶片Wl时，控制单元致动线性移动单元15并且进一步控制转动单元13以将臂部12的角度固定成垂直于直线移动方向，使得晶片的表面面对轨道01的外侧。在晶片在一侧中直线移动的同时，离子束IB被垂直照射到晶片Wl的表面上。SP，垂直行进在晶片Wl的表面上的离子束IB的照射区域P在一侧中被设置在直线轨道Lll的中间。同时，当转动晶片Wl时,控制单元制动线性移动单元15并且进一步致动转动单元13以在正方向或反方向上以180度转动臂部12。这样，在转动操作期间，臂部的转动角度在一侧被设定为正180度并且在另一侧被设定为负180度。这意图在于在使晶片Wl作轨道运动一次时防止由晶片Wl的轨道运动而导致晶片Wl旋转。即，利用该构造，支撑晶片Wl的晶片支撑构件14、臂部12和支柱11的旋转角度被设定使得当晶片作轨道运动一次时该晶片返回其原始位置。此外，即使当晶片Wl作轨道运动若干次时，也不存在连接到晶片支撑构件14、臂部12和支柱11的电缆由于它们的旋转而导致扭转和断开。接下来，将参照图1和图2详细描述第二轨道运动机构2。第二轨道运动机构2的支柱21从悬挂结构27悬挂并且被放置使得当从直线移位方向观看时，支柱21的轴线与支柱11的轴线匹配并且其端部表面与第一轨道运动机构I的支柱11的端部表面相对。该悬挂结构27形成为近似L形并且包括底座26、从底座26立起的立起构件271以及从立起构件271的端部部分垂直延伸的悬挂本体272。支柱21经由转动单元23 (将会在下文中描述该转动单元23)从悬挂本体272的端部部分向下悬挂。臂部22形成为从支柱21的端部部分沿径向方向突出的板状。转动单元23例如是电机并且具有连接到支柱21的基部部分21a的驱动轴。并且类似第一轨道运动机构I，转动单元被构造成通过旋转绕支柱21的轴线的支柱21而转动臂部22并且进一步转动晶片支撑构件24。在本实施例中，晶片支撑构件24的转动半径被设定为与第一轨道运动机构I的晶片保持构件14的转动半径相等。
类似第一轨道运动机构1，压板24例如形成为近似长板状。压板24例如利用静电卡盘在其表面上支撑多个晶片W2。压板24以可旋转方式从臂部22的端部部分悬挂使得其纵向方向平行于支柱21的轴线并且其表面板部分被放置成垂直于臂部22的延伸方向。压板24的晶片支撑区域24a被设定为与第一轨道运动机构I的压板14的晶片支撑区域14a齐平。线性移动单元25包括螺纹孔251、拧入到螺纹孔251中的螺纹构件252和用于旋转螺纹构件252的致动器253诸如电机。螺纹孔251形成为贯穿底座26，该底座26经由悬挂结构27而支撑支柱21。类似第一轨道运动机构1，线性移动单元25被构造成使得通过在正反方向上旋转螺纹构件252而沿着螺纹构件252的延伸方向前后移动底座26。螺纹构件252的延伸方向被设定为平行于第一轨道运动机构I的螺纹构件152的延伸方向。此外，类似第一轨道运动机构1，第二轨道运动机构2包括控制单元，该控制单元具有用于控制转动单元23和线性移动单元25的电路。在这里，控制单元适于在与第一轨道运动机构I相同的轨道中和以与第一轨道运动机构I相同的方法使晶片W1、W2作轨道运动。如图3所示，当从轴向方向观看时，第二轨道运动机构2的轨道(第二轨道)02是第二轨道运动机构2的压板24做轨道运动而形成的轨道。即，第二轨道运动机构2的轨道(第二轨道)02包括具有相等长度的直线轨道L21、L22和连接在直线轨道L21、L22的端部之间的半圆形轨道C21、C22，所述直线轨道L21、L22彼此平行。相应地，半圆形轨道C21具有第三中心并且半圆形轨道C22具有第四中心。该控制单元可以是与第一轨道运动机构I物理上共有的或被设置为单独本体。接下来，将描述所构造的能束照射系统100的操作。例如，如图4A中所示，将从通过第一轨道运动机构I作轨道运动的晶片(在下文中也被称作是第一晶片)wi完全经过照射区域P之前并且通过第二轨道运动机构2作轨道运动的晶片(在下文中也被称作是第二晶片)W2开始进入照射区域P的状态开始描述。在图4A所示的状态下，晶片W1、W2中的每一个以预定的彼此相等的离子注入速度移动。其后，如图4A和图B所示，第一晶片Wl首先离开照射区域P并且以增加的移动速度作轨道运动。同时，留在照射区域P中的第二晶片W2继续以离子注入速度移动。并且，如图所示，在第二晶片W2完全经过照射区域之前，第一晶片Wl追上第二晶片W2。并且然后，第一晶片Wl进入照射区域P并且其速度返回至离子注入速度。其后，如图5E和5F所示，第二晶片W2离开照射区域P并且以增加的移动速度作轨道运动。同时，留在照射区域P中的第一晶片Wl继续以离子注入速度移动。并且，第二晶片W2追上第一晶片Wl并且该过程返回至图4A的状态。这样，以预定的次数使晶片Wl、W2中的每一个作轨道运动并且因此在晶片Wl、W2上注入预定剂量的离子。每一个晶片Wl具有面对离子束IB的能束照射方向的能束照射侧和该能束照射侧的背侧。当从与轨道01的轨道运动表面垂直的方向观看时，晶片Wl在从照射区域P移动至所述背侧面向能束照射方向的背侧区域时被旋转1 80度。并且，晶片Wl在从背侧区域移动至照射区域的同时被旋转负180度，使得晶片Wl返回至它们的初始旋转角度。更具体地，压板14具有能束照射侧，晶片Wl在该能束照射侧上并且该能束照射侧面向离子束IB的能束照射方向。并且，压板14具有该能束照射侧的背侧。当具有晶片Wl的压板14在背侧区域中移动时，因为离子束IB被照射到压板14的所述背侧，而不是照射到能束照射侧，所以在能束照射侧上的晶片Wl没有被离子束IB照射。每个晶片W2具有能束照射侧和该能束照射侧的背侧，所述能束照射侧面向离子束IB的能束照射方向。当从与轨道02的轨道运动表面垂直的方向观看时，晶片W2在从照射区域P移动至所述背侧面向能束照射方向的背侧区域的时被旋转180度。并且，晶片W2在从背侧区域移动至照射区域的同时旋转负180度，使得晶片W2返回至它们的初始旋转角度。更具体地，压板24具有能束照射侧，晶片W2在该能束照射侧上并且该能束照射侧面向离子束IB的能束照射方向。并且，压板24具有该能束照射侧的背侧。当具有晶片W2的压板24在背侧区域中移动时，因为离子束IB被照射到压板24的所述背侧，而不是照射到能束照射侧，所以在能束照射侧上的晶片W2没有被离子束IB照射。根据该构造，因为两个轨道运动机构1、2被用于连续地发送晶片Wl、W2到离子束IB的照射区域P，所以能够实现改善注入效率的基本效果。此外，尽管设置了两个轨道运动机构1、2，但是当从垂直于轨道运动表面的方向观看时，第一轨道01和第二轨道02彼此匹配并且因此两个轨道运动机构的尺寸能够被设置成对应一个轨道。因此，可以实现显著紧凑的构造。更具体地，当从垂直于轨道运动表面的方向观看时，半圆形轨道Cll的第一中心和半圆形轨道C21的第三中心彼此匹配。并且，当从垂直于轨道运动表面的方向观看时，半圆形轨道C12的第二中心和半圆形轨道C22的第四中心彼此匹配。即，如图2和图3所示，半圆形轨道Cll的旋转轴和半圆形轨道C21的旋转轴彼此匹配。并且，如图2和图3所示，半圆形轨道C12的旋转轴和半圆形轨道C22的旋转轴彼此匹配。本发明不限于上面的实施例。例如，放置在压板上的晶片的数目可以是正好一个。可替换地，可以在压板上放置多个晶片。在该情况下， 改善了生产能力。此外，如图1、2、7和8所示，可以沿着支柱11、12的轴向方向多个并排地布置晶片Wl或晶片W2。如图9所示，可以沿着第一轨道01或第二轨道02的轨道运动方向多个并排地布置晶片Wl或晶片W2，所述轨道运动方向垂直于支柱的轴线方向。此外，当安装在压板上的晶片的数目增加时，处理安装在每个压板上的晶片所需的时间更长。因此，能够将一个压板移动到在其它压板后面的位置并且因此能够容易地实现连续的注入处理。在该情况下，取决于压板的构造，压板的纵向方向可以垂直于支柱的轴线。因为被传输的压板的数目可以是两个或更多个，所以本发明可以采用传输多个压板的构造。这样，能够改善生产能力并且容易地实现连续的注入处理。离子束的数目不限于一个。例如，如图6所示，可以照射两个或更多个离子束IB。当照射两个离子束IB时，压板的数目优选是三个或更多个以有效地利用离子束IB。这里，图6图示了三个压板14、24、34和安装在所述压板上的三个晶片W1、W2、W3。此外，由第一轨道01包围的区域和由第二轨道02包围的区域可以至少部分地重叠。在该情况下，每个轨道运动机构1、2的转动轴彼此匹配不是必需的。例如,如图7所示，当从直线移位方向观看时，每个轨道运动机构的转动轴可以是不同的。此外，如图8所示，转动轴的位置彼此相同，但是转动半径彼此不同。在这两种情况下，因为由第一轨道01包围的区域和由第二轨道02包围的区域至少部分地重叠，所以可以利用所述重叠的区域而实现紧凑构造。本发明可以应用于将能束(例如电子束、光束或量子束和离子束)照射到工件上的系统。例如，本发明可以应用于电子束照射系统、溅射仪器或等离子掺杂系统等。在该情况下，能够实现相同的效果。为增加能束的照射效率，最理想的是至少一个晶片位于照射区域中。然而，本发明不限于该构造。例如，取决于能束的尺寸或压板的构造，存在至少一个晶片不位于照射区域中的情况。在该情况下，理想的是尽可能长时间地连续移动每一个晶片横跨能束。射束的形状不被具体限制。例如，射束可以具有方形或点状的横截面形状。此外，晶片的形状例如可以是圆形或矩形。在这里，能够手动地执行将晶片传输至压板。此外，本发明不限于上述实施例并且可以在不脱离本发明的范围的情况下做出各种修改 。
权利要求
1.一种能束照射系统，包括 能束发射机构，所述能束发射机构朝预定的照射区域发射能束，以照射作为目标的至少一个第一工件和至少一个第二工件； 第一轨道运动机构，所述第一轨道运动机构使所述至少一个第一工件沿着预定的第一轨道作轨道运动，所述第一轨道包括所述照射区域；和 第二轨道运动机构，所述第二轨道运动机构使所述至少一个第二工件沿着预定的第二轨道作轨道运动，所述第二轨道包括所述照射区域， 其中当从垂直于由所述第一轨道和所述第二轨道形成的轨道运动表面的方向观看时，由所述第一轨道包围的第一区域和由所述第二轨道包围的第二区域至少部分地重叠。
2.根据权利要求1所述的能束照射系统，其中 所述第一轨道和所述第二轨道中的每一个包括彼此平行的直线轨道和连接在所述直线轨道的端部之间的半圆形轨道， 在所述第一轨道中，一个半圆形轨道具有第一中心，并且另一半圆形轨道具有第二中心， 在所述第二轨道中，一个半圆形轨道具有第三中心，并且另一半圆形轨道具有第四中心,并且 当从垂直于所述第一轨道和所述第二轨道的所述轨道运动表面的方向观看时，所述第一轨道的第一中心与所述第二轨道的第三中心彼此匹配，并且所述第一轨道的第二中心与所述第二轨道的第四中心彼此匹配。
3.根据权利要求1或2所述的能束照射系统，其中 所述第一轨道和所述第二轨道中的每一个彼此匹配。
4.根据权利要求1或2所述的能束照射系统，其中 在已进入所述照射区域的所述至少一个第一工件完全经过所述照射区域之前，所述至少一个第二工件进入所述照射区域。
5.根据权利要求3所述的能束照射系统，其中 在已进入所述照射区域的所述至少一个第一工件完全经过所述照射区域之前，所述至少一个第二工件进入所述照射区域。
6.根据权利要求1或2所述的能束照射系统，其中 分别沿着所述第一轨道和所述第二轨道的轨道运动方向多个并排地布置所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件。
7.根据权利要求3所述的能束照射系统，其中 分别沿着所述第一轨道和所述第二轨道的轨道运动方向多个并排地布置所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件。
8.根据权利要求4所述的能束照射系统，其中 分别沿着所述第一轨道和所述第二轨道的轨道运动方向多个并排地布置所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件。
9.根据权利要求5所述的能束照射系统，其中 分别沿着所述第一轨道和所述第二轨道的轨道运动方向多个并排地布置所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件。
10.根据权利要求1或2所述的能束照射系统，其中 当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时，所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均在沿着对应的轨道作轨道运动一次时返回至所述每一个工件的初始旋转角度。
11.根据权利要求3所述的能束照射系统，其中 当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时，所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均在沿着对应的轨道作轨道运动一次时返回至所述每一个工件的初始旋转角度。
12.根据权利要求4所述的能束照射系统，其中 当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时，所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均在沿着对应的轨道作轨道运动一次时返回至所述每一个工件的初始旋转角度。
13.根据权利要求5所述的能束照射系统，其中 当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时，所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均在沿着对应的轨道作轨道运动一次时返回至所述每一个工件的初始旋转角度。
14.根据权利要求6所述的能束照射系统，其中 当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时，所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均在沿着对应的轨道作轨道运动一次时返回至所述每一个工件的初始旋转角度。
15.根据权利要求7所述的能束照射系统，其中 当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时，所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均在沿着对应的轨道作轨道运动一次时返回至所述每一个工件的初始旋转角度。
16.根据权利要求8所述的能束照射系统，其中 当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时，所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均在沿着对应的轨道作轨道运动一次时返回至所述每一个工件的初始旋转角度。
17.根据权利要求9所述的能束照射系统，其中 当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时，所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均在沿着对应的轨道作轨道运动一次时返回至所述每一个工件的初始旋转角度。
18.根据权利要求10所述的能束照射系统，其中，当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时， 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均具有面向能束照射方向的能束照射侧和所述能束照射侧的背侧，并在从所述照射区域移动至背侧区域期间旋转180度，在所述背侧区域，所述背侧面向所述能束照射方向，并且 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件在从所述背侧区域移动至所述照射区域期间旋转负180度，使得所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件转动至所述每一个工件的初始旋转角度。
19.根据权利要求11所述的能束照射系统，其中，当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时， 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均具有面向能束照射方向的能束照射侧和所述能束照射侧的背侧，并在从所述照射区域移动至背侧区域期间旋转180度，在所述背侧区域，所述背侧面向所述能束照射方向，并且 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件在从所述背侧区域移动至所述照射区域期间旋转负180度，使得所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件转动至所述每一个工件的初始旋转角度。
20.根据权利要求12所述的能束照射系统，其中，当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时， 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均具有面向能束照射方向的能束照射侧和所述能束照射侧的背侧，并在从所述照射区域移动至背侧区域期间旋转180度，在所述背侧区域，所述背侧面向所述能束照射方向，并且 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件在从所述背侧区域移动至所述照射区域期间旋转负180度，使得所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件转动至所述每一个工件的初始旋转角度。
21.根据权利要求13所述的能束照射系统，其中，当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时， 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均具有面向能束照射方向的能束照射侧和所述能束照射侧的背侧，并在从所述照射区域移动至背侧区域期间旋转180度，在所述背侧区域，所述背侧面向所述能束照射方向，并且 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件在从所述背侧区域移动至所述照射区域期间旋转负180度，使得所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件转动至所述每一个工件的初始旋转角度。
22.根据权利要求14所述的能束照射系统，其中，当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时， 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均具有面向能束照射方向的能束照射侧和所述能束照射侧的背侧，并在从所述照射区域移动至背侧区域期间旋转180度，在所述背侧区域，所述背侧面向所述能束照射方向，并且 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件在从所述背侧区域移动至所述照射区域期间旋转负180度，使得所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件转动至所述每一个工件的初始旋转角度。
23.根据权利要求15所述的能束照射系统，其中，当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时， 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均具有面向能束照射方向的能束照射侧和所述能束照射侧的背侧，并在从所述照射区域移动至背侧区域期间旋转180度，在所述背侧区域，所述背侧面向所述能束照射方向，并且 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件在从所述背侧区域移动至所述照射区域期间旋转负180度，使得所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件转动至所述每一个工件的初始旋转角度。
24.根据权利要求16所述的能束照射系统，其中，当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时， 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均具有面向能束照射方向的能束照射侧和所述能束照射侧的背侧，并在从所述照射区域移动至背侧区域期间旋转180度，在所述背侧区域，所述背侧面向所述能束照射方向，并且 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件在从所述背侧区域移动至所述照射区域期间旋转负180度，使得所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件转动至所述每一个工件的初始旋转角度。
25.根据权利要求17所述的能束照射系统，其中，当从垂直于所述轨道运动表面的方向观看时， 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件均具有面向能束照射方向的能束照射侧和所述能束照射侧的背侧，并在从所述照射区域移动至背侧区域期间旋转180度，在所述背侧区域，所述背侧面向所述能束照射方向，并且 所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件在从所述背侧区域移动至所述照射区域期间旋转负180度，使得所述至少一个第一工件和所述至少一个第二工件中的每一个工件转动至所述每一个工件的初始旋转角度。
26.—种工件传输机构,包括 第一轨道运动机构，所述第一轨道运动机构使至少一个第一工件沿着预定的第一轨道作轨道运动，所述第一轨道包括能束的照射区域；和 第二轨道运动机构，所述第二轨道运动机构使至少一个第二工件沿着预定的第二轨道作轨道运动，所述第二轨道包括所述照射区域， 其中当从垂直于由所述第一轨道和所述第二轨道形成的轨道运动表面的方向观看时，由所述第一轨道包围的第一区域和由所述第二轨道包围的第二区域至少部分地重叠。
全文摘要
能束照射系统和工件传输机构。能束照射系统能在将能束有效地照射在工件上的同时实现显著的紧凑构造。能束照射系统包括能束发射机构、第一和第二轨道运动机构。能束发射机构朝预定的照射区域发射能束，以照射作为目标的至少一个第一工件和至少一个第二工件。第一轨道运动机构使所述至少一个第一工件沿预定的第一轨道作轨道运动，第一轨道包括照射区域。第二轨道运动机构使所述至少一个第二工件沿预定的第二轨道作轨道运动，第二轨道包括照射区域。当从垂直于由第一和第二轨道形成的理想轨道运动表面的方向观看时，由第一轨道包围的第一区域和由第二轨道包围的第二区域至少部分地重叠。工件传输机构包括第一和第二轨道运动机构。
文档编号C23C14/56GK103050359SQ20121039494
公开日2013年4月17日 申请日期2012年10月17日 优先权日2011年10月17日
发明者小野田正敏 申请人:日新离子机器株式会社